硅等半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是當(dāng)今計算機高科技發(fā)展的基礎(chǔ)，工業(yè)上從石英砂提取粗硅的化學(xué)方程式是：SiO2+2C數(shù)學(xué)公式Si+2CO↑．該反應(yīng)中的還原劑是


  1. A.
    SiO2
  2. B.
    C
  3. C.
    Si
  4. D.
    CO
B
分析：從得氧失氧的角度來認(rèn)識氧化和還原反應(yīng)，在反應(yīng)中得到氧元素被氧化的物質(zhì)是還原劑劑，此反應(yīng)中碳元素得到氧被氧化是該反應(yīng)的還原劑．
解答：在反應(yīng)SiO2+2CSi+2CO↑中二氧化硅在反應(yīng)中失去氧元素，被還原，是氧化劑；碳在反應(yīng)中得到氧元素，被氧化，是還原劑．
故選B．
點評：應(yīng)注意從不同的角度來認(rèn)識和分析化學(xué)反應(yīng)，注重反應(yīng)前后的變化，能從細(xì)微之處去分析氧化還原反應(yīng)．
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：初中化學(xué) 來源： 題型：

硅等半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是當(dāng)今計算機高科技發(fā)展的基礎(chǔ)，工業(yè)上從石英砂提取粗硅的化學(xué)方程式是：SiO2+2C
高溫
Si+2CO↑．該反應(yīng)中的還原劑是（　�。�

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科目：初中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

硅等半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是當(dāng)今計算機高科技發(fā)展的基礎(chǔ)，工業(yè)上從石英砂提取粗硅的化學(xué)方程式是：SiO2+2C
高溫
Si+2CO↑．該反應(yīng)中的還原劑是（　�。�
A．SiO2B．CC．SiD．CO

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科目：初中化學(xué) 來源：2005年上海市虹口區(qū)中考化學(xué)模擬試卷（解析版） 題型：選擇題

硅等半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是當(dāng)今計算機高科技發(fā)展的基礎(chǔ)，工業(yè)上從石英砂提取粗硅的化學(xué)方程式是：SiO2+2CSi+2CO↑．該反應(yīng)中的還原劑是（ ）
A．SiO2
B．C
C．Si
D．CO

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科目：初中化學(xué) 來源： 題型：

硅（Si）等半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)，是計算機高科技發(fā)展的基礎(chǔ)，工業(yè)上從石英砂提取粗硅的化學(xué)方程式：2C+SiO2==Si+2CO。該反應(yīng)屬于（ ）

A.化合反應(yīng)   B.分解反應(yīng)   C.置換反應(yīng)   D.氧化反應(yīng)

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