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下列各種制備方法中，前者是物理變化，后者是化學變化的是（ ）
A．工業(yè)制氧氣；實驗室制氧氣
B．工業(yè)制氫氣；實驗室制氫氣
C．工業(yè)以CO2制干冰；實驗室以水制冰
D．工業(yè)開采金剛石；實驗室以石墨制金剛石
【答案】分析：本題考查學生對物理變化和化學變化的確定．判斷一個變化是物理變化還是化學變化，要依據在變化過程中有沒有生成其他物質，生成其他物質的是化學變化，沒有生成其他物質的是物理變化．
解答：解：A、工業(yè)制氧氣，為分離液態(tài)空氣；實驗室制氧氣，為分解氯酸鉀、高錳酸鉀、雙氧水，為化學變化；則符合前者是物理變化，后者是化學變化，故A正確；
B、工業(yè)制氫氣；實驗室制氫氣，都為化學變化，故B錯誤；
C、工業(yè)以CO2制干冰；實驗室以水制冰，前者是化學變化，后者是物理變化，故C錯誤；
D、工業(yè)開采金剛石；實驗室以石墨制金剛石，符合前者是物理變化，后者是化學變化，故D正確．
故選A、D．
點評：搞清楚物理變化和化學變化的本質區(qū)別是解答本類習題的關鍵．判斷的標準是看在變化中有沒有生成其他物質．
練習冊系列答案
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科目：初中化學 來源： 題型：

（2009?南京）從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料．請回答-下列問題：
（1）地殼里各種元素的含量（質量分數(shù)）如右圖所示，其中表示硅元素的是
B
B
（填字母）．
（2）根據元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質
不活潑
不活潑
（選瑣“活潑”、“不活潑”）．
（3）制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產過程示意如下：

①整個制備過程必須達到無水無氧．在H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是
爆炸
爆炸
．
②在生產過程中物質A可循環(huán)使用，A的化學式是
HCl
HCl
；在生產過程中還有一種可循環(huán)使用的物質是
焦炭
焦炭
．

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科目：初中化學 來源： 題型：

7、下列各種制備方法中，前者是物理變化，后者是化學變化的是（　�。�

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科目：初中化學 來源： 題型：多選題

下列各種制備方法中，前者是物理變化，后者是化學變化的是


  1. A.
    工業(yè)制氧氣；實驗室制氧氣
  2. B.
    工業(yè)制氫氣；實驗室制氫氣
  3. C.
    工業(yè)以CO2制干冰；實驗室以水制冰
  4. D.
    工業(yè)開采金剛石；實驗室以石墨制金剛石

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科目：初中化學 來源：不詳 題型：多選題

下列各種制備方法中，前者是物理變化，后者是化學變化的是（　　）
A．工業(yè)制氧氣；實驗室制氧氣
B．工業(yè)制氫氣；實驗室制氫氣
C．工業(yè)以CO2制干冰；實驗室以水制冰
D．工業(yè)開采金剛石；實驗室以石墨制金剛石

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