某課外活動小組使用下列用品設(shè)計原電池。用品：銅片、鐵片、導(dǎo)線、金屬夾、發(fā)光二極管、果汁(橙汁、蘋果汁)500mL，、燒杯。下列說法正確的是

　 A．該裝置能將電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能　 B．實驗過程中銅片逐漸溶解

　 C電子由鐵片通過導(dǎo)線流向銅片　　 D．鐵片上會析出紅色的銅

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

某課外活動小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進行實驗，試回答下列問題。

       圖I                        圖II

（1）若開始時開關(guān)K與a連接，則B極的電極反應(yīng)式為_____________。

（2）若開始時開關(guān)K與b連接，則總反應(yīng)的離子方程式為_______             ______；

有關(guān)上述實驗，下列說法正確的是（填序號）_____________。

①溶液中Na+向A極移動

②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)

③反應(yīng)一段時間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度

④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體，則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子

（3）該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法，設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。

①該電解槽工作時，通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______（填“大于” “小于”或“等于”）通過陽離子交換膜的離子數(shù)。

②通電開始后，陰極附近溶液pH會增大，請簡述原因_____             ________。

（4）多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為                                    。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：

   3 SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）4SiHCl3（g）

達平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為      kg。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：2011屆廣西桂林中學(xué)高三高考模擬試題（理綜）化學(xué)部分 題型：實驗題

某課外活動小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進行實驗，試回答下列問題。

圖I                        圖II
（1）若開始時開關(guān)K與a連接，則B極的電極反應(yīng)式為_____________。
（2）若開始時開關(guān)K與b連接，則總反應(yīng)的離子方程式為_______             ______；
有關(guān)上述實驗，下列說法正確的是（填序號）_____________。
①溶液中Na+向A極移動
②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)
③反應(yīng)一段時間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度
④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體，則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
（3）該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法，設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。
①該電解槽工作時，通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______（填“大于” “小于”或“等于”）通過陽離子交換膜的離子數(shù)。
②通電開始后，陰極附近溶液pH會增大，請簡述原因_____              ________。
（4）多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。
①SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為                                    。
②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3 SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）4SiHCl3（g）
達平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為     kg。

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科目：高中化學(xué) 來源：2010-2011學(xué)年廣西桂林中學(xué)高三高考模擬試題（理綜）化學(xué)部分 題型：實驗題

某課外活動小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進行實驗，試回答下列問題。

       圖I                         圖II

（1）若開始時開關(guān)K與a連接，則B極的電極反應(yīng)式為_____________。

（2）若開始時開關(guān)K與b連接，則總反應(yīng)的離子方程式為_______              ______；

有關(guān)上述實驗，下列說法正確的是（填序號）_____________。

①溶液中Na+向A極移動

②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)

③反應(yīng)一段時間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度

④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體，則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子

（3）該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法，設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。

①該電解槽工作時，通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______（填“大于” “小于”或“等于”）通過陽離子交換膜的離子數(shù)。

②通電開始后，陰極附近溶液pH會增大，請簡述原因_____              ________。

（4）多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為                                     。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：

   3 SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）4SiHCl3（g）

達平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為      kg。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：模擬題 題型：填空題

某課外活動小組同學(xué)用如圖I裝置進行實驗，試回答下列問題：
(1)若開始時開關(guān)K與a連接，則B極的電極反應(yīng)式為___________________
(2)若開始時開關(guān)K與b連接，則總反應(yīng)的離子方程式為_____________________有關(guān)上述實驗，下列說法正確的是_________（填序號）。
①溶液中Na+向A極移動
②從A極逸出的氣體能使?jié)駶櫟腒I-淀粉試紙變藍(lán)
③反應(yīng)一段時間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度
④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體，則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
(3)該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的原理，設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。
①該電解槽工作時，通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______（填“大于”、“小于”或“等于”）通過陽離子交換膜的離子數(shù)。
②通電開始后，陰極附近溶液pH會增大，請簡述原因：___________________________。
(4)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注。
①SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為________________________。
②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下，在20 L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)，達到平衡后，H2與SiHCl3的物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020 mol/L，若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為______kg。

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科目：高中化學(xué) 來源：0120 模擬題 題型：填空題

某課外活動小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進行實驗，試回答下列問題。
（1）若開始時開關(guān)K與a連接，則B極的電極反應(yīng)式為_____________。
（2）若開始時開關(guān)K與b連接，則總反應(yīng)的離子方程式為________________________；有關(guān)上述實驗，下列說法正確的是（填序號）___________。
①溶液中Na+向A極移動
②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)
③反應(yīng)一段時間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度
④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體，則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
（3）該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法，設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。
①該電解槽工作時，通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______（填“大于” “小于”或“等于”）通過陽離子交換膜的離子數(shù)。
②通電開始后，陰極附近溶液pH會增大，請簡述原因_____________。
（4）多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。
①SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為____________________。
②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）4SiHCl3（g）達平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為________kg。

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