下列氣態(tài)氫化物最穩(wěn)定的是
A．HClB．HBr C．HFD．H2O
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

（13分）
氨是氮循環(huán)過程中的重要物質(zhì)，氨的合成是目前普遍使用的人工固氮方法。
（1）已知：H—H鍵能為436 kJ/mol，鍵能為945 kJ/mol，N—H鍵能為391 kJ/mol。寫出工業(yè)合成氨反應(yīng)的化學(xué)方程式           ；由鍵能計(jì)算說明此反應(yīng)是    反應(yīng)（填“吸熱”或“放熱”），合成氨反應(yīng)（消耗1molN2 時(shí)）的△H =        。
（2）恒溫下，向一個(gè)2L的密閉容器中充入1 mol N2和2.6 mol H2，反應(yīng)過程中對(duì)NH3的濃度進(jìn)行檢測(cè)，得到的數(shù)據(jù)如下表所示：
時(shí)間/min
5
10
15
20
25
30
c(NH3)/(mol/L)
0.08
0.14
0.18
0.20
0.20
0.20
5min內(nèi)，用N2濃度的變化表示的反應(yīng)速率為     ，此條件下該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)K=     ；反應(yīng)達(dá)到平衡后，保持溫度、容積不變，若向平衡體系中加入0.4 mol N2 、 1 mol H2和0.2 mol NH3 ，化學(xué)平衡將
向    方向移動(dòng)（填“正反應(yīng)”或“逆反應(yīng)”）。
（3）氨是氮肥工業(yè)的重要原料。某化肥廠生產(chǎn)銨態(tài)氮肥(NH4)2SO4的工藝流程如下：
 
①向沉淀池中加入CaSO4懸濁液后，需先通入足量NH3，再通入CO2的原因是        。操作Ⅰ的名稱是      。
②煅燒爐中產(chǎn)生的固態(tài)副產(chǎn)品為    ，生產(chǎn)流程中能被循環(huán)利用的物質(zhì)X為    。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

0.06 mol Cu投入到一定量的濃HNO3中，Cu完全溶解，將生成的NO2和NO氣體全部收集到一試管中，然后將此試管倒扣裝有水的水槽中，向此試管中緩慢通入標(biāo)準(zhǔn)狀況下一定體積的O2，最終恰好使溶液充滿整個(gè)試管，則通入O2的體積為
A．896 mLB．672 mLC．560 mLD．448 mL

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

在臭氧發(fā)生裝置中裝入氧氣100mL，經(jīng)反應(yīng)：3O2 ＝2O3，最后氣體體積變?yōu)?5mL（體積均在標(biāo)準(zhǔn)狀況下測(cè)定），則混合氣體的密度是                  （    ）
A．1.3g/LB．1.5g/LC．1.7g/LD．2.0g/L

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

同溫同壓下，兩個(gè)等體積的干燥圓底燒瓶中分別充滿：①NH3和O2的混合氣體，平均相對(duì)分子質(zhì)量為20；②NO2和N2的混合氣體，平均相對(duì)分子質(zhì)量為40。分別進(jìn)行噴泉實(shí)驗(yàn)，經(jīng)充分反應(yīng)后，圓底燒瓶?jī)?nèi)溶液(假設(shè)溶液不擴(kuò)散)的溶質(zhì)的物質(zhì)的量濃度為
A．①＝②B．①＜②C．①＞②D．無法計(jì)算

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

不可能使溴水退色的是（  ）
A．己烯B．稀硫酸C．二氧化硫D．氫氧化鉀溶液

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

把0．3mol銅粉投入含 0．1mol 硝酸和0．3mol硫酸的稀溶液中，則標(biāo)準(zhǔn)狀況下放出的氣體（假設(shè)氣體全為NO）的物質(zhì)的量為
A．0．2molB．0．15molC．0．1molD．0．25mol

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列關(guān)于砹（85At）及其化合物的說法中，正確的是（ �。　�
A．穩(wěn)定性：HAt＞HClB．氧化性：At2＞I2
C．At2為分子晶體D．NaAt的水溶液呈堿性

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列敘述中不正確的是（   ）
A．氧族元素各單質(zhì)的氧化性：O2＞S＞Se
B．SiO2和CO2中Si和O，C和O之間都是共價(jià)鍵
C．氮族元素的各單質(zhì)的熔點(diǎn)：N2＜P4＜As
D．碳族元素氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性：CH4＜SiH4＜GeH4

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