下列敘述正確的是
A.合成氨工業(yè)中,移走NH3可增大正反應(yīng)速率,提高原料轉(zhuǎn)化率
B.酸堿中和滴定時(shí),錐形瓶需用待測(cè)液潤(rùn)洗2次,再加入待測(cè)液
C.將NO2、N2O4混合氣體的體積壓縮為原來(lái)的一半,則氣體顏色加深
D.犧牲陽(yáng)極的陰極保護(hù)法和外加直流電源的陰極保護(hù)法都是應(yīng)用電解原理
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
向NaBr、NaI的混合溶液中通入足量Cl2,然后加熱將溶液蒸干并灼燒,最后殘留的物質(zhì)是( )
A.NaCl B.NaCl、NaBr、NaI
C.NaBr、NaI D.NaCl、I2
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
為了除去CO2氣體中的SO2氣體,下列對(duì)于儀器和藥品的組合中合理的是( )。
儀器:①洗氣瓶 ②干燥管
藥品:③生石灰 ④蘇打溶液 ⑤小蘇打溶液
A.①⑤ B.②⑤ C.①③ D.①④
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
檢驗(yàn)未知溶液中是否含有SO42-,下列操作中最合理的是( )
A.加入硝酸酸化的硝酸鋇溶液 B.先加硝酸酸化,再加入硝酸鋇溶液
C.加鹽酸酸化了的BaCl2溶液 D.先加鹽酸酸化,再加入BaCl2溶液
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
下列表述正確的是
A.甲烷分子的球棍模型:
B.Cl的原子結(jié)構(gòu)示意圖:
C.質(zhì)子數(shù)是82,中子數(shù)是122的鉛原子:Pb
D.HCO水解的離子方程式:HCO+H2OH2CO3+H3O+
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
三氟化氮(NF3)是微電子工業(yè)中優(yōu)良的等離子刻蝕氣體,它在潮濕的環(huán)境中能發(fā)生反應(yīng):3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,下列有關(guān)該反應(yīng)的說(shuō)法正確的是
A.NF3是氧化劑,H2O是還原劑
B.還原劑和氧化劑的物質(zhì)的量之比是2∶1
C.若生成0.2 mol HNO3,則轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
D.NF3在潮濕的空氣中泄漏會(huì)產(chǎn)生紅棕色氣體
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
元素單質(zhì)及其化合物有廣泛用途,請(qǐng)根據(jù)周期表中第三周期元素相關(guān)知識(shí)回答下列問(wèn)題:
(1)按原子序數(shù)遞增的順序(稀有氣體除外),以下說(shuō)法正確的是________。
a.原子半徑和離子半徑均減小 b.金屬性減弱,非金屬性增強(qiáng)
c.氧化物對(duì)應(yīng)的水化物堿性減弱,酸性增強(qiáng) d.單質(zhì)的熔點(diǎn)降低
(2) Si和HCl反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點(diǎn)/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為 。
(3)P2O5是非氧化性干燥劑,下列氣體不能用濃硫酸干燥,可用P2O5干燥的是______
a.NH3 b.HI c.SO2 d.CO2
(4)KClO3可用于實(shí)驗(yàn)室制O2,若不加催化劑,400℃時(shí)分解只生成兩種鹽,其中一種是無(wú)氧酸鹽,另一種鹽的陰陽(yáng)離子個(gè)數(shù)比為1∶1。寫(xiě)出該反應(yīng)的化學(xué)方程式:_______
(5)一定條件,在水溶液中1 mol Cl-、ClO-(x=1,2,3,4)的能量(KJ)相對(duì)大小如右圖所示。
①D是 (填離子符號(hào))。
②B→A+C反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為 (用離子符號(hào)表示)。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
甲、乙、丙、丁四種物質(zhì)中,甲、乙、丙均含有相同的某種元素,它們之間具有如下轉(zhuǎn)化關(guān)系:。下列有關(guān)物質(zhì)的推斷不正確的是( )
A.若甲為焦炭,則丁可能是O2
B.若甲為氮?dú),則丁可能是O2
C.若甲為Fe,則丁可能是稀硝酸
D.若甲為NaOH溶液,則丁可能是CO2
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