電鍍廢水一種特殊處理工藝如下:
圖中DTCR能與Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各種重金屬離子迅速反應(yīng),生成不溶水的螯合鹽,再加入少量絮凝劑下,形成絮狀沉淀,從而達到捕集去除重金屬的目的。
試回答下列問題:
(1)步驟②ClO2可將CN-直接氧化成兩種無毒氣體,該反應(yīng)的離子方程式為 ▲ 。
(2)若含氰廢水流量為0.8 m3/h,含氰(CN-)濃度為300 mg/L,為確保安全,實際投放ClO2為理論值的1.3倍,則完成氧化每小時共需投入ClO2質(zhì)量為 ▲ kg。
(3)步驟③中氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ▲ 。
(4)PAM為丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,該聚合物的結(jié)構(gòu)簡式為 ▲ 。
(5)本工藝中將廢水分類收集,分而治之的優(yōu)點是 ▲ 。
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
(10分)電鍍廢水一種特殊處理工藝如下:
圖中DTCR能與Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各種重金屬離子迅速反應(yīng),生成不溶水的螯合鹽,再加入少量絮凝劑下,形成絮狀沉淀,從而達到捕集去除重金屬的目的。
試回答下列問題:
(1)步驟②ClO2可將CN-直接氧化成兩種無毒氣體,該反應(yīng)的離子方程式為 ▲ 。
(2)若含氰廢水流量為0.8 m3/h,含氰(CN-)濃度為300 mg/L,為確保安全,實際投放ClO2為理論值的1.3倍,則完成氧化每小時共需投入ClO2質(zhì)量為 ▲ kg。
(3)步驟③中氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ▲ 。
(4)PAM為丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,該聚合物的結(jié)構(gòu)簡式為 ▲ 。
(5)本工藝中將廢水分類收集,分而治之的優(yōu)點是 ▲ 。
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科目:高中化學(xué) 來源:2010年江蘇省揚州市高三第四次模擬考試化學(xué)試題 題型:填空題
(10分)電鍍廢水一種特殊處理工藝如下:
圖中DTCR能與Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各種重金屬離子迅速反應(yīng),生成不溶水的螯合鹽,再加入少量絮凝劑下,形成絮狀沉淀,從而達到捕集去除重金屬的目的。
試回答下列問題:
(1)步驟②ClO2可將CN-直接氧化成兩種無毒氣體,該反應(yīng)的離子方程式為 ▲ 。
(2)若含氰廢水流量為0.8 m3/h,含氰(CN-)濃度為300 mg/L,為確保安全,實際投放ClO2為理論值的1.3倍,則完成氧化每小時共需投入ClO2質(zhì)量為 ▲ kg。
(3)步驟③中氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ▲ 。
(4)PAM為丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,該聚合物的結(jié)構(gòu)簡式為 ▲ 。
(5)本工藝中將廢水分類收集,分而治之的優(yōu)點是 ▲ 。
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科目:高中化學(xué) 來源:2010年江蘇省揚州市高三第四次模擬考試化學(xué)試題 題型:填空題
(10分)電鍍廢水一種特殊處理工藝如下:
圖中DTCR能與Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各種重金屬離子迅速反應(yīng),生成不溶水的螯合鹽,再加入少量絮凝劑下,形成絮狀沉淀,從而達到捕集去除重金屬的目的。
試回答下列問題:
(1)步驟②ClO2可將CN-直接氧化成兩種無毒氣體,該反應(yīng)的離子方程式為 ▲ 。
(2)若含氰廢水流量為0.8 m3/h,含氰(CN-)濃度為300 mg/L,為確保安全,實際投放ClO2為理論值的1.3倍,則完成氧化每小時共需投入ClO2質(zhì)量為 ▲ kg。
(3)步驟③中氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ▲ 。
(4)PAM為丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,該聚合物的結(jié)構(gòu)簡式為 ▲ 。
(5)本工藝中將廢水分類收集,分而治之的優(yōu)點是 ▲ 。
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