氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

1AlNaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為????????????????????????????????????

2)下列實(shí)驗(yàn)?zāi)鼙容^鎂和鋁的金屬性強(qiáng)弱的是???? ??? ?? (填序號(hào))。

a.測(cè)定鎂和鋁的導(dǎo)電性強(qiáng)弱

b.測(cè)定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3MgSO4溶液的pH

c.向0.1 mol/LAlCl30.1 mol/L MgCl2中加過(guò)量NaOH溶液

3)鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。

已知4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)??? ΔH1 = -3352 kJ/mol

Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)???? ΔH2 = -521 kJ/mol

AlMnO2反應(yīng)冶煉金屬Mn的熱化學(xué)方程式是?????????????????????? ????? 。

4)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為??????????????????? ????????? ???????????? 。

5)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)?? H0??

某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng)5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g

H2的平均反應(yīng)速率是???????? mol(L·min)。

若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)????? (填增大、減小不變)。

6298K時(shí),Ksp[Ce(OH)4]1×10—29Ce(OH)4的溶度積表達(dá)式為Ksp?????????????? 。

為了使溶液中Ce4沉淀完全,即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×105mol·L1,需調(diào)節(jié)pH????? 以上。

 

【答案】

12Al +2OH+6H2O = 2 [Al(OH)4] + 3H2?? 2分)

2c?? 2分)?????????????

34Al (s)+ 3MnO2 (s) 3Mn(s) +2Al2O3(s)??? ΔH–1789 kJ/mol3分)

4Si3N4 +16HF = 3SiF4 + 4NH4F??? 2分)

50.024? 3分)? ??? 減小? 2分)?????

6c(Ce4+)?[c(OH)]4?? 2分) ;? 8? 2分)

【解析】

試題分析:(1AlNaOHH2O反應(yīng)生成Na[Al(OH)4]H2,離子方程式為2Al +2OH+6H2O = 2 [Al(OH)4] + 3H2

2a、導(dǎo)電性與金屬性強(qiáng)弱無(wú)關(guān),錯(cuò)誤;b、物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3MgSO4溶液中,Al3+Mg2+濃度不相等,不能根據(jù)水解后溶液的pH判斷金屬性強(qiáng)弱,錯(cuò)誤;c、0.1 mol/LAlCl3中加過(guò)量NaOH溶液,先生成白色沉淀,然后逐漸溶解,說(shuō)明Al(OH)3呈兩性,向0.1 mol/L MgCl2中加過(guò)量NaOH溶液,生成白色沉淀,Mg(OH)2的堿性大于Al(OH)3,則Mg的金屬性大于Al,正確。

3先寫(xiě)出AlMnO2反應(yīng)的化學(xué)方程式并注明狀態(tài),4Al (s)+ 3MnO2 (s) 3Mn(s) +2Al2O3(s)然后根據(jù)蓋斯定律求算焓變,?H=?H1-3?H2=-3352 kJ?mol?1+3×521 kJ?mol?1=–1789 kJ?mol?1可寫(xiě)出熱化學(xué)方程式。

4氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,根據(jù)元素守恒,銨鹽為NH4F,配平可得化學(xué)方程式:Si3N4 +16HF = 3SiF4 + 4NH4F

5所得Si3N4(s)物質(zhì)的量為5.60g÷140g/mol=0.04molvH2=6×0.04mol÷2L÷5min=0.024 mol(L·min)

②因?yàn)檎磻?yīng)方向氣體的系數(shù)減小,若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,容器內(nèi)壓強(qiáng)不斷增大,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率減小。

6)根據(jù)溶度積的定義,Ce(OH)4的溶度積表達(dá)式為Kspc(Ce4+)?[c(OH)]4;c(Ce4+)1×105mol·L1,帶入Ksp表達(dá)式,1×105?[c(OH)]4=1×10—29,可得c(OH?)= 1×106,則pH=8.

考點(diǎn):本題考查化學(xué)方程式與離子方程式的書(shū)寫(xiě)、金屬性的判斷、熱化學(xué)方程式的書(shū)寫(xiě)、化學(xué)反應(yīng)速率的計(jì)算、 Ksp表達(dá)式及計(jì)算。

 

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2012-2013學(xué)年北京市房山區(qū)房山中學(xué)高二下學(xué)期期中考試化學(xué)試卷(帶解析) 題型:填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
(1)Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ;Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為
                                                              
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為                                                    。
(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:
3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  
某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H2的平均反應(yīng)速率是         mol/(L·min)。
②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1
③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        。
④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         (填“增大”、“減”或“不變”)。
⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol-1(Q>0)
某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(   )
A.反應(yīng)過(guò)程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開(kāi)始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ
C.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L-1的NaOH恰好反應(yīng)
D.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L-1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2012-2013學(xué)年四川成都棠湖中學(xué)外語(yǔ)實(shí)驗(yàn)學(xué)校高二5月月考化學(xué)卷(帶解析) 題型:填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。宇宙火箭和導(dǎo)彈中,大量用鈦代替鋼鐵。
(1)Al的離子結(jié)構(gòu)示意圖為                  ;
Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為                                         
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,
其反應(yīng)方程式為                                                
(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  
在恒溫、恒容時(shí),分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5 min達(dá)到平衡狀態(tài),所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L
① H2的平均反應(yīng)速率是                       
② 反應(yīng)前與達(dá)到平衡時(shí)容器內(nèi)的壓強(qiáng)之比=           
③ 系數(shù) x =     
(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol-1
C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol-1
寫(xiě)出TiO2和焦炭、氯氣反應(yīng)生成TiCl4和CO氣體的熱化學(xué)方程式:
                                                                              。

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2014屆北京市高二下學(xué)期期中考試化學(xué)試卷(解析版) 題型:填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

(1)Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ;Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為

                                                              。

(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為                                                    。

(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:

3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  

某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。

①H2的平均反應(yīng)速率是         mol/(L·min)。

②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1。

③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        

④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         (填“增大”、“減”或“不變”)。

⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:

SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol1(Q>0)

某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(   )

A.反應(yīng)過(guò)程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B.若反應(yīng)開(kāi)始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ

C.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L1的NaOH恰好反應(yīng)

D.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

 

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2014屆四川成都棠湖中學(xué)外語(yǔ)實(shí)驗(yàn)學(xué)校高二5月月考化學(xué)卷(解析版) 題型:填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。宇宙火箭和導(dǎo)彈中,大量用鈦代替鋼鐵。

(1)Al的離子結(jié)構(gòu)示意圖為                  ;

Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為                                         

(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,

其反應(yīng)方程式為                                                

(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:

3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  

在恒溫、恒容時(shí),分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5 min達(dá)到平衡狀態(tài),所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L

① H2的平均反應(yīng)速率是                       

② 反應(yīng)前與達(dá)到平衡時(shí)容器內(nèi)的壓強(qiáng)之比=           

③ 系數(shù) x =     

(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol1

C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol1

寫(xiě)出TiO2和焦炭、氯氣反應(yīng)生成TiCl4和CO氣體的熱化學(xué)方程式:

                                                                              。

 

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