Question

【題目】高純二氧化硅可用來(lái)制造光纖。某蛇紋石的成分見(jiàn)下表：

組分	SiO2	MgO	Na2O	K2O	Fe2O3
質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%	59.20	38.80	0.25	0.50	0.8

通過(guò)下圖流程可由蛇紋石制備較純凈的二氧化硅。

（1）蛇紋石中涉及的可溶性金屬氧化物有____________（寫(xiě)化學(xué)式）。

（2）步驟①中涉及SiO2反應(yīng)的離子方程式為________________。

（3）濾渣A 的成分有______________________（填化學(xué)式）。

（4）步驟②中洗滌沉淀的方法是_____________________。

（5）步驟③反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________；實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行步驟③需要用到的儀器有坩堝、泥三角、酒精燈、玻璃棒、和________________。

Answer 1

【答案】Na2O、K2O SiO2+2OH-=SiO32-+H2O MgO和Fe2O3 向漏斗中注入蒸餾水至浸沒(méi)沉淀，讓水自然流下，重復(fù)操作2至3次 H2SiO3SiO2+H2O 坩堝鉗、三腳架

【解析】

蛇紋石(含SiO2、MgO、Na2O、K2O、Fe2O3)加入足量氫氧化鈉進(jìn)行堿浸溶解，SiO2可與氫氧化鈉反應(yīng)生成硅酸鈉，Na2O、K2O可與氫氧化鈉溶液中的水反應(yīng)生成氫氧化鈉和氫氧化鉀；MgO、Fe2O3不與氫氧化鈉溶液反應(yīng)，也不溶于水，則濾渣A為MgO、Fe2O3，濾液A主要含有K+、Na+、OH-、SiO32-，加入過(guò)量鹽酸中和濾液A中的堿，同時(shí)SiO32-在酸性條件下轉(zhuǎn)化為H2SiO3沉淀，經(jīng)過(guò)濾、洗滌，得到濾渣B為H2SiO3，對(duì)其煅燒分解生成SiO2，據(jù)此分析解答。

(1)根據(jù)分析，蛇紋石中含有的可溶性金屬氧化物有Na2O和K2O，它們能與水反應(yīng)生成氫氧化鈉和氫氧化鉀；

(2)二氧化硅屬于酸性氧化物，可與氫氧化鈉溶液反應(yīng)生成硅酸鈉和水，反應(yīng)的離子方程式為：SiO2+2OH-=SiO32-+H2O；

(3)氧化鈉與氧化鉀屬于可溶性氧化物，氧化鋁屬于兩性氧化物，二氧化硅屬于酸性氧化物，上述四種物質(zhì)都能溶解在氫氧化鈉溶液中，氧化鎂和氧化鐵屬于堿性氧化物且難溶于水，因此，濾渣A的成分有MgO和Fe2O3；

(4)步驟②生成沉淀的成分是硅酸，洗滌過(guò)濾出的沉淀的方法是：向過(guò)濾器中注入蒸餾水至浸沒(méi)沉淀，待水自然流出后，重復(fù)上述操作兩到三次；

(5)步驟③用灼燒的方法使硅酸分解生成二氧化硅，化學(xué)方程式為：H2SiO3SiO2+H2O，實(shí)驗(yàn)室灼燒固體時(shí)需要用到的儀器有坩堝、泥三角、酒精燈、玻璃棒、坩堝鉗和三腳架。