Question

N_A表示阿伏加德羅常數(shù)的值，下列有關敘述正確的是（　　）

• A、1mol二氧化硅晶體中，Si-O鍵鍵數(shù)為2N_A
• B、1L1mol/L的NaI和NaClO溶液中，含有陰陽離子總數(shù)均為2N_A
• C、2LpH=5的NH₄Cl溶液中，水電離出來H⁺數(shù)為2×10^-9N_A
• D、常溫常壓下，16gO₂和O₃的混合氣體中質子總數(shù)為8N_A

Answer 1

考點：阿伏加德羅常數(shù)

專題：阿伏加德羅常數(shù)和阿伏加德羅定律

分析：A、根據(jù)二氧化硅晶體中1mol硅原子形成4mol硅氧鍵計算；
B、1L1mol/L的NaI和NaClO溶液中含有1mol溶質碘化鈉和1mol次氯酸鈉，溶液中含有水電離的氫離子和氫氧根離子；
C、氯化銨溶液中水的電離程度增大，溶液中的氫離子是水電離的；
D、根據(jù)氧氣和臭氧中含有的氧原子的質量計算出氧原子的物質的量及含有的質子數(shù)．

解答： 解：A、1mol二氧化硅中含有1mol硅原子，1mol硅原子形成了4mol硅氧鍵，含有的Si-O鍵鍵數(shù)為4N_A，故A錯誤；
B、溶液中含有溶質碘化鈉1mol、次氯酸鈉1mol，由于溶液中存在水電離的氫離子和氫氧根離子，所以陰陽離子總數(shù)都大于2mol，故B錯誤；
C、氯化銨溶液中銨離子水解，促進了水的電離，溶液中的氫離子來自水的電離，所以水電離的氫離子濃度為1×10^-5N_Amol/L，2L溶液中中含有的氫離子數(shù)目為2×10^-5N_A，故C錯誤；
D、16g氧氣和臭氧的混合物中含有16g氧原子，含有1mol氧原子，1mol氧原子含有8mol質子，質子總數(shù)為8N_A，故D正確；
故選D．

點評：本題考查阿伏加德羅常數(shù)的有關計算和判斷，題目難度中等，注意氯化銨溶液中的氫離子是水電離的；注意明確好以物質的量為中心的各化學量與阿伏加德羅常數(shù)的關系，要準確弄清分子、原子、原子核內質子中子及核外電子的構成關系．