工業(yè)生產(chǎn)粗硅的主要原理為:SiO2+2C 3273K Si(粗)+2CO↑。
(1)若在制粗硅的過(guò)程中同時(shí)生成了碳化硅,且生成的硅和碳化硅的物質(zhì)的量之比為5∶1,則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量比為 ?? 。
(2)工業(yè)上可通過(guò)如下流程由粗硅制取純硅:
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Si(粗) SiCl4(l) Si(純)
若上述反應(yīng)中Si(粗)和SiCl4的利用率均為80%,制粗硅時(shí)有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC,則生產(chǎn)100.8t純硅需純度為75%的石英砂多少噸?
(3)工業(yè)上還可以通過(guò)下圖所示的流程來(lái)制取純硅:
反應(yīng)①: Si(粗)+3HCl(g) 553~573K SiHCl3(l)+H2(g)
反應(yīng)②: SiHCl3+H2 1373K Si(純)+3HCl
假設(shè)在每一輪次的投料生產(chǎn)中,硅元素沒(méi)有損失,反應(yīng)①中HCl的利用率為75%,反應(yīng)②中H2的利用率為80%,則在下輪次的生產(chǎn)中,需補(bǔ)充投入HCl和H2的體積比為多少?
(1)① SiO2+2C 3273K Si(粗)+2CO↑ ② Si+ C=SiC 若①×6+ ②得
6SiO2+13C 3273K 5Si(粗)+SiC+ 12CO↑ ,此時(shí)兩者質(zhì)量比為(12×13):(60×6)=13:30
(2)設(shè)需純度為75%的石英砂x。
根據(jù)題意有下列關(guān)系式:
SiO2 ~ Si ~ SiCl4 ~ Si(純)
60 28
x×75%×(1-10%)×80%×80% 100.8t (2分)
解得:x=500t (2分)
(3)設(shè)每輪生產(chǎn)投入的粗硅中含1molSi
則由反應(yīng)①可知:
消耗HCl的物質(zhì)的量為3 mol /75%=4mol,生成H2的物質(zhì)的量為1mol(1分)
由反應(yīng)②可知:
消耗H2的物質(zhì)的量為1mol/80%=1.25mol,生成HCl的物質(zhì)的量為3mol (1分)
則在一輪次的生產(chǎn)中,需補(bǔ)充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比(即體積比)為:
(4mol-3mol)∶(1.25mol-1mol)=4∶1(1分)
(1)① SiO2+2C 3273K Si(粗)+2CO↑ ② Si+ C=SiC 若①×6+ ②得
6SiO2+13C 3273K 5Si(粗)+SiC+ 12CO↑ ,此時(shí)兩者質(zhì)量比為(12×13):(60×6)=13:30
(2)設(shè)需純度為75%的石英砂x。
根據(jù)題意有下列關(guān)系式:
SiO2 ~ Si ~ SiCl4 ~ Si(純)
60 28
x×75%×(1-10%)×80%×80% 100.8t (2分)
解得:x=500t (2分)
(3)設(shè)每輪生產(chǎn)投入的粗硅中含1molSi
則由反應(yīng)①可知:
消耗HCl的物質(zhì)的量為3 mol /75%=4mol,生成H2的物質(zhì)的量為1mol(1分)
由反應(yīng)②可知:
消耗H2的物質(zhì)的量為1mol/80%=1.25mol,生成HCl的物質(zhì)的量為3mol (1分)
則在一輪次的生產(chǎn)中,需補(bǔ)充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比(即體積比)為:
(4mol-3mol)∶(1.25mol-1mol)=4∶1(1分)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
3273K |
723~773K |
1373~1453K |
553~573K |
1373K |
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:學(xué)習(xí)周報(bào) 化學(xué) 人教課標(biāo)高一版(必修1) 2009-2010學(xué)年 第19~26期 總第175~182期 人教課標(biāo)版 題型:058
工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”提純粗硅,工藝流程如圖所示:
(1)工業(yè)生產(chǎn)粗硅的主要原理是(用化學(xué)方程式表示):________.
(2)若在制粗硅的過(guò)程中同時(shí)生成了碳化硅,且二者的物質(zhì)的量之比為1∶1,則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量之比為________.
(3)除上述反應(yīng)外,還伴隨著副反應(yīng):Si+4HClSiCl4+2H2.已知:SiHCl3、SiCl4在常溫下均為液體,且SiCl4的沸點(diǎn)比SiHCl3的高.工業(yè)上分離SiHCl3、SiCl4的操作方法為________.
(4)該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是________________.
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
(1)若在制粗硅的過(guò)程中同時(shí)生成了碳化硅,且生成的硅和碳化硅的物質(zhì)的量之比為5∶1,則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量比為_(kāi)___________。
(2)工業(yè)上可通過(guò)如下流程由粗硅制取純硅:
Si(粗)SiCl4(l) Si(純)
若上述反應(yīng)中Si(粗)和SiCl4的利用率均為80%,制粗硅時(shí)有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC,則生產(chǎn)100.8 t純硅需純度為75%的石英砂多少噸?
(3)工業(yè)上還可以通過(guò)下圖所示的流程來(lái)制取純硅:
反應(yīng)①:Si(粗)+3HCl(g) SiHCl3(l)+H2(g)
反應(yīng)②:SiHCl3+H2Si(純)+3HCl
假設(shè)在每一輪次的投料生產(chǎn)中,硅元素沒(méi)有損失,反應(yīng)①中HCl的利用率為75%,反應(yīng)②中H2的利用率為80%,則在下輪次的生產(chǎn)中,需補(bǔ)充投入HCl和H2的體積比為多少?
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2012年蘇教版高中化學(xué)選修1 3.2功能各異的無(wú)機(jī)非金屬材料練習(xí)卷(解析版) 題型:填空題
單晶硅是現(xiàn)代信息基礎(chǔ)材料。工業(yè)上,硅是在電爐中用炭粉還原二氧化硅制得的。
(1)若往電爐里加入二氧化硅和炭粉的混合物,通電,使它們發(fā)生如下反應(yīng)生成硅:2C+SiO22CO↑+Si
從保護(hù)生態(tài)環(huán)境和建設(shè)節(jié)約型社會(huì)等方面來(lái)說(shuō),在該生產(chǎn)環(huán)節(jié)中需要注意的主要問(wèn)題是________________________________________________________________________
________________________________________________________________________。
(2)以上生產(chǎn)所得到的硅不純,稱為“粗硅”。一些高新技術(shù)產(chǎn)品的元件中使用的硅是極其純凈、幾乎沒(méi)有任何缺陷的單晶硅。
①工業(yè)上,硅的提純?cè)頌樵诩訜嵯伦尨止枧c氯氣反應(yīng),其產(chǎn)物在高溫下被氫氣還原,從而得到較純的硅。請(qǐng)寫出上述過(guò)程中有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式
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________________________________________________________________________。
②實(shí)驗(yàn)室中,將細(xì)沙粉(SiO2)與鎂粉混合加熱,也可制得粗硅。這種粗硅往往含有過(guò)量的鎂、氧化鎂和硅化鎂(Mg2Si),這些雜質(zhì)可用鹽酸除去(提示:Mg2Si與鹽酸反應(yīng)的產(chǎn)物之一是SiH4)。請(qǐng)寫出在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中所發(fā)生的氧化還原反應(yīng)的化學(xué)方程式
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