制造太陽能電池要高純度的硅,工業(yè)上制高純硅常用以下反應(yīng)實現(xiàn)

①Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)(放熱反應(yīng))

②SiHCl3+H2Si+3HCl

對以上兩個反應(yīng)的下列敘述中,錯誤的是(    )

A.兩個反應(yīng)都是置換反應(yīng)                  B.反應(yīng)②是放熱反應(yīng)

C.兩個反應(yīng)都是離子反應(yīng)                  D.兩個反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)

BC

解析:反應(yīng)①和②是不同條件下的兩個反應(yīng),但這兩個過程是可逆的,①的反應(yīng)物是②的生成物,①的生成物是②的反應(yīng)物,因此①為放熱反應(yīng),②一定為吸熱反應(yīng);此兩反應(yīng)均符合置換反應(yīng)的概念,因此既是置換反應(yīng),又是氧化還原反應(yīng);此兩反應(yīng)為固體與氣體之間的反應(yīng),為非離子反應(yīng)。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2009?泰州模擬)高純超凈特種氣體主要用于制造半導(dǎo)體器件、化合物半導(dǎo)體、激光器、光導(dǎo)纖維、太陽能電池等.超純硅化氫制備方法如下:(已知:常溫下SiH4難溶于水,與稀硫酸不反應(yīng),乙醚沸點34.6℃)
①由下列兩種方法制得SiH4
方法一:Mg2Si+4NH4Cl
液氨
SiH4+2MgCl2+4NH3
方法二:LiAlH4+SiCl4
C2H5OC2H5
SiH4+AlCl3+LiCl
②除去SiH4中混有的雜質(zhì)氣體
請回答下列問題:
(1)對方法一的理解,有同學(xué)認(rèn)為是NH4+水解產(chǎn)生H+,Mg2Si與H+反應(yīng)生成SiH4,你認(rèn)為該觀點是否正確?并簡述理由
不正確,因為該反應(yīng)在液氨中進(jìn)行,非水體系,不會水解
不正確,因為該反應(yīng)在液氨中進(jìn)行,非水體系,不會水解

(2)將方法二的固體產(chǎn)物溶于水,只有一種物質(zhì)能促進(jìn)水的電離,則NaOH、Mg(OH)2、LiOH堿性由強(qiáng)到弱的順序為
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
NaOH>LiOH>Mg(OH)2

(3)兩種方法制得的SiH4中均含有少量雜質(zhì),有同學(xué)提出用下列方法除去SiH4中的雜質(zhì),其中肯定不可行是
b
b

a.用稀硫酸洗氣     b.高溫使雜質(zhì)分解      c.低溫分餾
(4)甲、乙、丙三同學(xué)在討論SiH4制備方法的化學(xué)反應(yīng)類型時發(fā)表如下觀點,你認(rèn)為正確的是
bc
bc

a.甲同學(xué)認(rèn)為兩個反應(yīng)均為氧化還原反應(yīng)
b.乙同學(xué)認(rèn)為兩個反應(yīng)中只有一個屬于氧化還原反應(yīng)
c.丙同學(xué)認(rèn)為要判斷是否屬于氧化還原反應(yīng),還需要知道SiH4中各元素具體的化合價.

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

制造太陽能電池要高純度的硅,工業(yè)上制高純硅常用以下反應(yīng)實現(xiàn)

①Si(s)+3HCl(g) SiHCl3(g)+H2(g)(放熱反應(yīng))

②SiHCl3+H2Si+3HCl

對以上兩個反應(yīng)的下列敘述中,錯誤的是(    )

A.兩個反應(yīng)都是置換反應(yīng)                        B.反應(yīng)②是放熱反應(yīng)

C.兩個反應(yīng)都是離子反應(yīng)                        D.兩個反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)

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科目:高中化學(xué) 來源:同步題 題型:單選題

制造太陽能電池需要高純度的硅,工業(yè)上制高純硅常利用以下反應(yīng)來實現(xiàn):
(1)Si(粗硅)+3HCl SiHCl3+H2;
(2)SiHCl3+H2 Si(純硅)+3HCl 對上述兩個反應(yīng)的下列敘述中,不正確的是
[     ]
A.兩個反應(yīng)都是置換反應(yīng)
B.兩個反應(yīng)中的H2均作還原劑
C.兩個反應(yīng)都要在耐腐蝕的容器中進(jìn)行
D.兩個反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

制造太陽能電池需要高純度的硅,工業(yè)上制高純硅常利用以下反應(yīng)來實現(xiàn):
(1)Si(粗硅)+3HClSiHCl3+H2
(2)SiHCl3+H2Si(純硅)+3HCl
下列對上述兩個反應(yīng)的敘述中錯誤的是(  )。
A.兩個反應(yīng)都是置換反應(yīng)
B.兩個反應(yīng)中的H2均做還原劑
C.兩個反應(yīng)都要在耐腐蝕的容器中進(jìn)行
D.兩個反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)

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