下列實(shí)驗(yàn)流程圖中,X為第三周期兩種重要單質(zhì)的氧化物的混合物。反應(yīng)②、④是工業(yè)上的重要反應(yīng),部分物質(zhì)及反應(yīng)條件沒(méi)有列出。
請(qǐng)回答:
(1) 寫(xiě)出A、B和E的化學(xué)式:A ,B ,E 。
(2) 寫(xiě)出C溶液轉(zhuǎn)化為C固體的過(guò)程中,HCl氣流的作用 。
(3) 寫(xiě)出①、③和④反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)方程式(若是離子反應(yīng)的寫(xiě)離子方程式):
①
③
④
(1) A:SiO2,B:MgO,E:MgSiO3 (2) 抑制氯化鎂水解
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④SiO2 +Na2CO3 ════ Na2SiO3 + CO2↑
由反應(yīng)②的條件推斷是電解法制備金屬單質(zhì),因?yàn)殡娊饴然铮蔆是氯化鈉或氯化鎂。C溶液蒸干制C固體需在HCl氣流中,這是防止水解才采取的方法,故C確定是氯化鎂。由此知X中含氧化鎂。同時(shí)由題意知A應(yīng)當(dāng)是一種不能與鹽酸反應(yīng)的氧化物,但A可以與NaOH溶液反應(yīng),故第三周期氧化物中符合條件的A只能是二氧化硅。A與B的反應(yīng)我們雖然沒(méi)有學(xué)過(guò),但是可以從二氧化硅與氧化鈣的反應(yīng)遷移得來(lái)。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2014屆河南省原名校聯(lián)盟高三上學(xué)期第一次摸底考試化學(xué)試卷(解析版) 題型:填空題
下列實(shí)驗(yàn)流程圖中,X為第三周期兩種重要單質(zhì)的氧化物的混合物。反應(yīng)②、④是工業(yè)上的重要反應(yīng),部分物質(zhì)及反應(yīng)條件沒(méi)有列出。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)寫(xiě)出A、E、B的化學(xué)式:A________, E___________,B___________。
(2)寫(xiě)出C溶液轉(zhuǎn)化為C固體的過(guò)程中,HCl氣流的作用:________________________。
(3)寫(xiě)出①、③、④反應(yīng)的化學(xué)方程式,(若是離子反應(yīng)寫(xiě)離子方程式)
①__________________________________________________;
③__________________________________________________;
④__________________________________________________。
(4)將SO2氣體分別通入下列溶液寫(xiě)出對(duì)應(yīng)的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象
①BaCl2溶液________________________________;
②Ba(NO3)2溶液_____________________________________;
⑨FeCl3溶液_____________________________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
( 10 分)下列實(shí)驗(yàn)流程圖中, x為第三周期兩種重要單質(zhì)的氧化物的混合物。反應(yīng)②、 ④是工業(yè)上的重要反應(yīng),部分物質(zhì)及反應(yīng)條件沒(méi)有列出。
請(qǐng)回答:
(l)寫(xiě)出A、B和E 的化學(xué)式:A B E
(2)寫(xiě)出C溶液轉(zhuǎn)化為C固體的過(guò)程中,HCl氣流的作用
(3)寫(xiě)出①、③和④反應(yīng)的方程式(若是離子反應(yīng)的寫(xiě)離子方程式):
①
③
④
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
下列實(shí)驗(yàn)流程圖中,X為第三周期兩種重要單質(zhì)的氧化物的混合物。反應(yīng)②、④是工業(yè)上的重要反應(yīng),部分物質(zhì)及反應(yīng)條件沒(méi)有列出。
請(qǐng)回答:
(1)寫(xiě)出A、B的化學(xué)式:A ,B 。
(2)寫(xiě)出C溶液轉(zhuǎn)化為C固體的過(guò)程中,HCl氣流的作用 。
(3)寫(xiě)出①、③和④反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)方程式(若是離子反應(yīng)的寫(xiě)離子方程式):
①
③
④
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