可以用作半導(dǎo)體材料的是
A．二氧化硅B．水晶C．高純硅D．硅酸鹽
C

試題分析：可以用作半導(dǎo)體材料的是單質(zhì)硅，二氧化硅常用于制作光導(dǎo)纖維，水晶的主要成分是二氧化硅，主要用于裝飾品，硅酸鹽不能用作半導(dǎo)體材料，因此答案選C。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

科學(xué)家提出硅是“21世紀(jì)的能源”，這主要是由于作為半導(dǎo)體材料的硅在太陽能發(fā)電過程中具有重要的作用。下列關(guān)于硅的說法中正確的是  (    )
A．自然界硅的貯量豐富
B．自然界中存在大量單質(zhì)硅
C．二氧化硅被用于制作計算機(jī)芯片
D．光導(dǎo)纖維的主要成分是Si

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

碳族元素是形成化合物種類最多的元素。
（1）碳原子2個2p電子的運(yùn)動狀態(tài)不相同的方面是_______；C5HxN分子中C、N原于最外層都達(dá)到8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，則x的值可能為_______ (選填序號)。
a．10     b．11    c．13   d．15
（2）如圖是金剛石晶體的結(jié)構(gòu)示意圖。則關(guān)于金剛石的描述正確的是   (選填序號)。

a．C-C鍵鍵角都為109°28’   b．最小的環(huán)由6個C原子構(gòu)成
c．可溶于非極性溶劑          d．l mol金剛石含有4 mol C-C鍵
（3）以下比較錯誤的是________(選填序號)。
a．穩(wěn)定性SiH4>CH4           b．沸點(diǎn)SiH4>CH4
c．熔點(diǎn)SiC>Si               d．鍵能C=C>C-C
（4）NaBH4是廣泛使用的有機(jī)反應(yīng)還原劑，其中H為-1價，SiO2為其制備原料之一。
①配平以下制備NaBH4的化學(xué)方程式：□Na2B4O7+□Na+□SiO2+□H2→□NaBH4+□Na2SiO3
②反應(yīng)中被還原的元素為________。
（5）碳酸鈣是石灰石、方解石等的主要成分，可以形成“喀斯特”地貌、鐘乳和石筍，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________________________________。
（6）若物質(zhì)組成相似，可相互推算組成元素的相對原子質(zhì)量。某學(xué)習(xí)小組模擬求算鍺的相對原子質(zhì)量，測得了鍺酸鈉中Na和Ge的質(zhì)量分?jǐn)?shù)、硅酸鈉中Na和Si的質(zhì)量分?jǐn)?shù)，他們還需查閱的數(shù)據(jù)是______(選填序號)。
a．氧元素的相對原子質(zhì)量
b．硅元素的相對原子質(zhì)量
c．鈉元素的相對原子質(zhì)量

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列關(guān)于硅酸鹽工業(yè)的敘述正確的是
A．普通玻璃的主要成分可以表示為Na2O·CaO·6SiO2，說明玻璃為純凈物
B．陶瓷、玻璃、水泥都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
C．制玻璃、水泥時都用到了石灰石和黏土
D．制玻璃的過程中發(fā)生了反應(yīng)：Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑，說明酸性：H2SiO3＞H2CO3

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列有關(guān)二氧化硅的敘述中不正確的是
A．沙子、石英、水晶的主要成分都是SiO2
B．SiO2是制光導(dǎo)纖維的主要原料
C．硅酸可由SiO2直接制得
D．SiO2是酸性氧化物，一定條件下可與堿性氧化物或堿反應(yīng)

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列關(guān)于碳和硅的敘述中,正確的是(　　)
A．其氧化物都能與NaOH溶液反應(yīng)
B．其單質(zhì)在加熱時都能跟O2反應(yīng)
C．其氧化物都能溶于水生成相應(yīng)的酸
D．碳和硅兩種元素共有兩種單質(zhì)

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

硅被譽(yù)為無機(jī)非金屬材料的主角。下列物品用到硅單質(zhì)的是
A．陶瓷餐具B．石英鐘表C．計算機(jī)芯片D．光導(dǎo)纖維

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列物質(zhì)的用途錯誤的是（  ）
A．硅是制造太陽能電池的常用材料
B．二氧化硅是制造光導(dǎo)纖維的材料
C．水玻璃可用作木材防火劑
D．硅是生產(chǎn)普通玻璃的原料

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列物質(zhì)中，常用于在玻璃上刻蝕花紋的是
A．稀硫酸(H2SO4)B．氫氧化鈉(NaOH)溶液
C．氫氟酸 (HF)D．碳酸鈉(Na2CO3)溶液

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