【題目】下面有關丙烷、丙烯、丙炔說法中正確的有( )
A.丙烷、丙烯、丙炔的結構式分別為
B.相同物質(zhì)的量的三種物質(zhì)完全燃燒,生成的氣體在標準狀態(tài)下,體積比3:2:1
C.丙烷、丙烯、丙炔三種物質(zhì)的熔沸點逐漸升高,相對條件下密度逐漸增大
D.丙烷的碳原子空間結構是鋸齒型的,不是簡單的線性排列
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【題目】某溫度時,在2L的密閉容器中,X、Y、Z三種物質(zhì)的量隨時間的變化曲線如圖所示.
(1)反應物是 , 生成物是
(2)X的轉化率是
(3)由圖中所給數(shù)據(jù)進行分析,該反應的化學方程為
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【題目】SO2通入BaCl2溶液中并不產(chǎn)生沉淀,而通入另一種氣體后可以產(chǎn)生白色沉淀.則圖中右側Y形管中放置的藥品組合不符合要求的是(必要是可以加熱)( )
A.Cu和濃硝酸
B.CaO和濃氨水
C.大理石和稀鹽酸
D.高錳酸鉀溶液和濃鹽酸
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【題目】A、B、C、D,E是前四周期原子序數(shù)依次增大的五種元素.A元素原子的核外電子數(shù)等于其電子層數(shù),B元素基態(tài)原子有三個能級且各能級電子數(shù)相同,A與D可形成兩種常見液態(tài)化合物G、H,其原子數(shù)之比分別為1:1和2:1.E元素原子的K、L層電子數(shù)之和等于其M、N層電子數(shù)之和.請回答下列各題(涉及元素請用相應化學符號表示):
(1)B、C、D三種元素中電負性最大的元素其基態(tài)原子的電子排布式為 .
(2)處于一定空間運動狀態(tài)的電子在原子核外出現(xiàn)的概率密度分布可用形象化描述.在B的基態(tài)原子中,核外存在對自旋相反的電子.
(3)由E和D形成的晶胞如圖1所示,晶體中E2+周圍等距且最近的E2+有個;ED的焰色反應為磚紅色,許多金屬或它們的化合物都可以發(fā)生焰色反應,其原因是 . E和B可形成的晶體的晶胞結構與NaCl晶體的相似(如圖2所示),但該晶體中含有的啞鈴形B22﹣的存在,使晶胞沿一個方向拉長.晶體中E2+的配位數(shù)為 . 該化合物的電子式為 .
(4)用高能射線照射液態(tài)H時,一個H分子能釋放出一個電子,同時產(chǎn)生一種陽離子.
①釋放出來的電子可以被若干H分子形成的“網(wǎng)”捕獲,你認為H分子間能形成“網(wǎng)”的原因是 .
②由H分子釋放出電子時產(chǎn)生的一種陽離子具有較強的氧化性,試寫出該陽離子與SO2的水溶液反應的離子方程式 .
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【題目】Cu及其化合物在科學研究和工業(yè)生產(chǎn)中具有許多用途.請回答以下問題:
(1)向CuSO4溶液中滴加氨水至深藍色透明溶液時,發(fā)生的離子反應方程式 .
(2)硫酸銅溶液中滴入氨基乙酸鈉(H2N﹣CH2﹣COONa)即可得到配合物A.其結構如圖:
①SO42﹣中S原子的軌道雜化類型是;
②A中碳原子的軌道雜化類型為 .
③1mol氨基乙酸鈉含有σ鍵的數(shù)目為 .
(3)元素金(Au)處于周期表中的第六周期,與Cu同族.一種銅合金晶體具有面心立方最密堆積的結構,在晶胞中Cu原子處于面心,Au原子處于頂點位置,該合金中每一層均為(填“密置層”、“非密置層”);該晶體中,原子之間的作用力是;
(4)上述晶體具有儲氫功能,氫原子可進入到由Cu原子與Au原子構成的四面體空隙中.若將Cu原子與Au原子等同看待,該晶體儲氫后的晶胞結構與CaF2的晶胞結構相似,該晶體儲氫后的化學式應為 . 若Cu原子與Au原子的距離為a cm,則該晶體儲氫后的密度為 . (含a的表達式)
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【題目】下列各組物質(zhì)中,甲、乙、丙、丁之間通過一步反應就能實現(xiàn)如圖所示變化的是( )
選項 | 甲 | 乙 | 丙 | 丁 | |
A | S | SO2 | SO3 | H2SO4 | |
B | N2 | NH3 | NO | NO2 | |
C | CuO | Cu | Cu(OH)2 | CuCl2 | |
D | Al | AlCl3 | NaAlO2 | Al2(SO4)3 |
A.A
B.B
C.C
D.D
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【題目】由N、B等元素組成的新型材料有著廣泛用途.
(1)B2H6是一種高能燃料,它與Cl2反應生成的BCl3可用于半導體摻雜工藝及高純硅制造.由第二周期元素組成的與BCl3互為等電子體的陰離子為(填離子符號,填一個).
(2)氨硼烷(H3N→BH3)和Ti(BH4)3均為廣受關注的新型化學氫化物儲氫材料.
①H3N→BH3中N原子的軌道雜化類型為 .
②Ti(BH4)3由TiCl3和LiBH4反應制得.基態(tài)Ti3+的未成對電子數(shù)有個,BH4﹣的立體構型是 . 寫出該制備反應的化學方程式 .
③氨硼烷可由六元環(huán)狀化合物(HB=NH)3通過如下反應制得:3CH4+2 (HB=NH)3+6H2O→3CO2+6H3BNH3
與上述化學方程式有關的敘述不正確的是 . (填標號)
A.氨硼烷中存在配位鍵
B.第一電離能:N>O>C>B
C.反應前后碳原子的軌道雜化類型不變
D.CH4、H2O、CO2分子空間構型分別是:正四面體形、V形、直線形
(3)磷化硼(BP)是受到高度關注的耐磨材料.如圖1為磷化硼晶胞.
①磷化硼晶體屬于晶體(填晶體類型),(填是或否)含有配位鍵.
②晶體中B原子的配位數(shù)為 .
(4)立方氮化硼是一種新型的超硬、耐磨、耐高溫的結構材料,其結構和硬度都與金剛石相似,但熔點比金剛石低,原因是 .
(5)圖2是立方氮化硼晶胞沿z軸的投影圖,請在圖中圓球上涂“●”和畫“×”分別標明B與N的相對位置.
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【題目】如圖所示,取一張用飽和的NaCl溶液浸濕的pH試紙,兩根鉛筆芯作電極,接通直流電源,一段時間后,發(fā)現(xiàn)a電極與試紙接觸處出現(xiàn)一個雙色同心圓,內(nèi)圈為白色,外圈呈淺紅色.則下列說法錯誤的是( )
A.b電極是陰極
B.a電極與電源的正極相連
C.電解過程中水是氧化劑
D.b電極附近溶液的pH變小
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【題目】在FeCl3溶液蝕刻銅箔制造電路板的工藝中,廢液處理和資源回收的過程簡述如下:(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10﹣38) Ⅰ:向廢液中投入過量鐵屑,充分反應后分離出固體和濾液:
Ⅱ:向濾液中加入一定量石灰水,調(diào)節(jié)溶液pH,同時鼓入足量的空氣.
回答下列問題:
(1)FeCl3蝕刻銅箔反應的離子方程式為:
(2)過程Ⅰ加入鐵屑的主要作用是 , 分離得到固體的主要成分是 , 從固體中分離出銅需采用的方法是;
(3)過程Ⅱ中發(fā)生反應的化學方程式為;
(4)過程Ⅱ中調(diào)節(jié)溶液的pH為5,金屬離子濃度為 . (列式計算)
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