【題目】黃曲霉素的結(jié)構(gòu)如圖，下列關(guān)于該有機(jī)物的性質(zhì)敘述正確的是（　�。�

A.1mol該化合物最多消耗和NaOH分別為6mol和2mol

B.該化合物中含有三種官能團(tuán)

C.該化合物中含有2個(gè)苯環(huán)結(jié)構(gòu)

D.該化合物可以和1mol發(fā)生加成反應(yīng)

【答案】A

【解析】

A．苯環(huán)和碳碳雙鍵能和氫氣發(fā)生加成反應(yīng)、酯基水解生成的羧基、酚羥基能和NaOH反應(yīng)，所以1mol該化合物最多消耗H2和NaOH分別為6mol和2mol，故A正確；

B．該有機(jī)物中含有碳碳雙鍵、醚鍵、酯基和羰基四種官能團(tuán)，故B錯(cuò)誤；

C．該分子中只有一個(gè)苯環(huán)，故C錯(cuò)誤；

D．碳碳雙鍵能和溴發(fā)生加成反應(yīng)，含有2個(gè)碳碳雙鍵，所以該化合物可以和2molBr2發(fā)生加成反應(yīng)，故D錯(cuò)誤；

故選A。

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】將鎂鋁合金溶于100mL稀硝酸中，產(chǎn)生1.12LNO氣體(標(biāo)準(zhǔn)狀況)，向反應(yīng)后的溶液中加入NaOH溶液，產(chǎn)生沉淀與加入氫氧化鈉體積（mL）情況如圖所示。下列說法不正確的是（ ）

A.原溶液中c（HNO3）=1.8mol/LB.沉淀最大質(zhì)量為4.08g

C.n（Mg）：n（Al）=1:1D.氫氧化鈉溶液濃度為3mol/L

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】常溫下，pH均為2、體積均為V0的HA、HB、HC溶液，分別加水稀釋至體積為V，溶液pH隨lg的變化關(guān)系如圖所示，下列敘述錯(cuò)誤的是（ ）

A.常溫下：Ka(HB)>Ka(HC)

B.HC的電離度：a點(diǎn)<b點(diǎn)

C.當(dāng)lg=4時(shí)，三種溶液同時(shí)升高溫度，減小

D.當(dāng)lg=5時(shí)，HA溶液的pH為7

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】下列方程式書寫正確的是（ ）

A.HCO3-在水溶液中的電離方程式：HCO3- ＋H2OH3O＋＋CO32-

B.H2SO3的電離方程式H2SO32H＋＋SO32-

C.CO32-的水解方程式：CO32- ＋2H2OH2CO3＋2OH-

D.CuSO4的水解方程式： Cu2++2H2O=Cu(OH)2↓+2H+

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】頭孢拉定又名先鋒霉素，是常用的一種抗生素，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式如圖：

下列說法不正確的是（ ）

A. 頭孢拉定的分子式是C16H19N3O4S，分子中有多種官能團(tuán)

B. 頭孢拉定與Na2CO3溶液、NaHCO3溶液都可以反應(yīng)

C. 1mol頭孢拉定最多可與6molH2和5mol Br2發(fā)生加成反應(yīng)

D. 頭孢拉定既可與鹽酸反應(yīng)，也可與NaOH溶液反應(yīng)

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】將Mg、Al組成的mg混合物投入一定量稀HCl中，固體完全溶解，收集到氣體為1.12L（標(biāo)準(zhǔn)狀況），向反應(yīng)后溶液中加入2 mol/L NaOH溶液60mL時(shí)，金屬離子恰好沉淀完全，則形成沉淀的質(zhì)量為（　�。�

A.（m+1.7）gB.（m+2.04）gC.（m+3.4）gD.（m+4.08）g

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】某有機(jī)物X的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式如圖所示，下列有關(guān)說法正確的是（　　）

A.可用溶液區(qū)分X和苯酚

B.在加熱條件下,1molX最多能與2molNaOH反應(yīng)

C.若1molX在酸性條件下的能水解完全,其產(chǎn)物最多能與2molNa反應(yīng)

D.分子含有三種官能團(tuán),且兩種官能團(tuán)在催化劑條件下能與氫氣加成

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】研究表明，納米0價(jià)金屬能去除地下水中的NO3-，不同初始pH和不同金屬組成對(duì)NO3-的去除效果如圖所示。圖1初始pH=5.5，圖2初始pH=2，NO3-初始濃度均為50mg·L-1，納米級(jí)金屬添加量均為2g·L-1。下列說法正確的是

A.納米鐵的去除效果優(yōu)于納米鎳

B.圖2納米鐵反應(yīng)60mn時(shí)NO3-去除率67.2%，則60min內(nèi)

C.當(dāng)加入的金屬是Fe0/Ni05/1，在不同的初始pH下，經(jīng)過60min后，NO3-的去除率相等

D.其他條件相同時(shí)，若pH過低，可能會(huì)導(dǎo)致去除率下降

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】高純度晶體硅是良好的半導(dǎo)體材料，它的發(fā)現(xiàn)和使用引起了計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命”。它可以按下列方法制備：

SiO2Si(粗)SiHCl3Si(純)

下列說法不正確的是（ ）

A.步驟③中氫氣作還原劑

B.硅和二氧化硅都能用作計(jì)算機(jī)“芯片”

C.步驟①的化學(xué)方程式為：SiO2+2CSi+2CO↑

D.步驟①②③中發(fā)生的反應(yīng)都屬于氧化還原反應(yīng)

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同步練習(xí)冊(cè)答案