工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式:SiCl4(g)+2H2(g)?Si(s)+4HCl(g)△H=+QkJ/mol(Q>0),一定溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是(  )
分析:A、反應(yīng)是氣體體積增大的反應(yīng),減小壓強(qiáng)平衡向氣體體積增大的反應(yīng)方向進(jìn)行;
B、反應(yīng)是可逆反應(yīng)不能進(jìn)行徹底;
C、依據(jù)熱化學(xué)方程式計(jì)算生成的氯化氫物質(zhì)的量結(jié)合中和反應(yīng)判斷生成產(chǎn)物;
D、隨反應(yīng)進(jìn)行,速率減小,若反應(yīng)速率相同,2min時(shí),HCl濃度為0.06mol/L,但反應(yīng)速率在2min時(shí)大于4min時(shí)的速率.
解答:解:A、反應(yīng)是氣體體積增大的反應(yīng),增大壓強(qiáng)平衡左移,SiCl4的轉(zhuǎn)化率減小,減小壓強(qiáng),平衡正向進(jìn)行,SiCl4的轉(zhuǎn)化率增大,故A正確;
B、反應(yīng)是可逆反應(yīng),不能進(jìn)行徹底,若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為4 mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量小于4 Q kJ,故B錯(cuò)誤;
C、反應(yīng)吸收熱量為0.025 Q kJ時(shí),生成的HCl 0.1mol;通入100 mL 1 mol/L的NaOH溶液中反應(yīng)恰好中和,溶液呈中性,故C正確;
D、隨反應(yīng)進(jìn)行,速率減小,若反應(yīng)速率相同,2min時(shí),HCl濃度為0.06mol/L,但反應(yīng)速率在2min時(shí)大于4min時(shí)的速率,所以2min時(shí),HCl濃度大于0.06mol/L,故D錯(cuò)誤;
故選AC.
點(diǎn)評(píng):本題考查化學(xué)平衡的影響因素分析判斷,反應(yīng)速率的影響因素分析,注意反應(yīng)是可逆反應(yīng),題目難度中等.
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g)?Si(s)+4HCl(g);△H=+QKJ/mol(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是( 。

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2010?南開區(qū)二模)工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g)?Si(s)+4HCl(g);△H=+Q kJ?mol-1(Q>0)
某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是( 。

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)?Si(g)+4HCl(g);△H=+Q kJ?mol-1(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是( 。

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(2008?北京)工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ/mol(Q>0)某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(  )

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