氧化亞鐵被空氣里的氧氣氧化成氫氧化鐵反應(yīng)的雙線橋方程式為
 
考點(diǎn):氧化還原反應(yīng)
專題:氧化還原反應(yīng)專題
分析:新制氫氧化亞鐵在空氣被氧化,氫氧化亞鐵被氧化成氫氧化鐵,反應(yīng)的化學(xué)方程式是為4Fe(OH)2+2H2O+O2═4Fe(OH)3,F(xiàn)e失去電子,氧氣得到電子,以此來解答.
解答: 解:新制氫氧化亞鐵在空氣被氧化,氫氧化亞鐵被氧化成氫氧化鐵,反應(yīng)的化學(xué)方程式是為4Fe(OH)2+2H2O+O2═4Fe(OH)3,F(xiàn)e失去電子,氧氣得到電子,該反應(yīng)轉(zhuǎn)移4e-,則,故答案為:
點(diǎn)評:本題考查氧化還原反應(yīng),為高頻考點(diǎn),明確反應(yīng)中元素的化合價(jià)變化即可解答,注意電子轉(zhuǎn)移與數(shù)目的表示方法,題目難度不大.
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

根據(jù)反應(yīng)框圖填空,已知反應(yīng)①~⑤均為工業(yè)生產(chǎn)及應(yīng)用中常見反應(yīng),其中B、G、I、J、L均為常見單質(zhì),B、J、L為氣體.A是工業(yè)生產(chǎn)中重要的礦石原料的主要成份,其相對分子質(zhì)量為120.

(1)寫出A、B的化學(xué)式:A
 
  B
 

(2)寫出下列化學(xué)反應(yīng)方程式:
反應(yīng)②的化學(xué)方程式
 

反應(yīng)③的化學(xué)方程式
 

反應(yīng)⑤的離子方程式
 

(3)寫出反應(yīng)①在工業(yè)生產(chǎn)所使用設(shè)備的名稱
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

CH3CHO與Br2反應(yīng)的化學(xué)方程式
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

元代青花瓷的制作原料采用瓷土加高嶺土[主要成分Al2Si2O5(OH)x]的“二元配方”,青花瓷釉料的成分主要是鉀長石(KAlSi3O8),在1300℃左右高溫一次燒成的釉可形成精美的青花瓷

(1)下列說法正確的是
 

A.高嶺土化學(xué)式中x=2
B.鉀長石能完全溶于鹽酸
C.燒制青花瓷的過程中發(fā)生了復(fù)雜的物理變化,但沒有化學(xué)變化
D.青花瓷、玻璃、水泥都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
(2)工業(yè)上可利用海邊石英砂生產(chǎn)粗硅,其主要原理:SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si(粗)+2CO↑.
工業(yè)上可通過如圖所示流程由粗硅進(jìn)一步制純硅:
①反應(yīng)a的化學(xué)方程式為Si(粗)+3HCl(g)
 553~573K 
.
 
SiHCl3(l)+H2(g),反應(yīng)b的化學(xué)方程式為
 

②以上工藝中可循環(huán)使用的物質(zhì)是
 

③若上述兩步反應(yīng)中硅元素的利用率均為80%,制粗硅時(shí)有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC,則生產(chǎn)25.2噸純硅需純度為75%石英砂
 
噸.

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

若c(H+)相同,則鹽酸與硫酸物質(zhì)的量濃度大小關(guān)系為
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

工業(yè)廢氣中的氮氧化物是主要的大氣污染物之一.為了治理污染,工業(yè)上常用氨氣與之發(fā)生反應(yīng):NOx+NH3→N2+H2O,使其轉(zhuǎn)化為無毒的N2.現(xiàn)有NO2和NO的混合氣體3.0L,跟3.5L(同溫同壓下)NH3反應(yīng),恰好使其全部轉(zhuǎn)化為氮?dú),則原混合氣體中,NO2與NO的體積比是
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

工業(yè)上可以用金屬鎂和NaClO溶液制成“鎂一次氯酸鈉”燃料電池,其裝置示意圖如圖所示,該電池反應(yīng)的離子方程式為
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

除去下列物質(zhì)中的雜質(zhì)(括號中為雜質(zhì))方法,請將相應(yīng)的化學(xué)方程式填在橫線上
(1)NaHCO3溶液(Na2CO3
 
;
(2)Na2CO3固體(NaHCO3
 

(3)NaCl溶液(NaHCO3
 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

下列離子方程式正確的是 ( 。
A、氯化銨與氫氧化鈉兩種溶液混合加熱:NH4++OH-═NH3↑+H2O
B、用FeCl3溶液腐蝕印刷電路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+
C、氫氧化鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體:SO2+OH-=HSO3-
D、氯化鋁溶液中加入過量 氨水:Al3++3NH3?H2O=Al(OH)3↓+3NH4+

查看答案和解析>>

同步練習(xí)冊答案