Question

工業(yè)上制備純硅的熱化學(xué)反應(yīng)方程式為：SiCl₄(g) + 2H₂(g)Si(s) + 4HCl(g)；△H =" +" Q kJ/mol(Q＞0)，一定溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物充入密閉容器中進(jìn)行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（   ）

A．反應(yīng)過(guò)程中，若增大壓強(qiáng)能提高硅的產(chǎn)率

B．若反應(yīng)開(kāi)始時(shí)H2為2 mol，則達(dá)到平衡時(shí)，吸收熱量為Q kJ

C．反應(yīng)至4 min時(shí)，若HCl的濃度為0.12 mol/L，則H2的反應(yīng)速率為0.03 mol/(L·min)

D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí)，生成的HCl通入100 mL 1 mol/L的NaOH溶液中能恰好完全反應(yīng)

Answer 1

Ｄ

A項(xiàng)，增大壓強(qiáng)，平衡逆向移動(dòng)，硅的產(chǎn)率降低，A不正確。H₂為2 mol，如果完全反應(yīng)，則吸收熱量為Q kJ，該反應(yīng)是一個(gè)可逆反應(yīng)，所以應(yīng)小于Q kJ，Ｂ不正確。
Ｃ項(xiàng)，HCl的反應(yīng)速率為0.03 mol/(L·min)，根據(jù)速率比等于化學(xué)系數(shù)比，知H₂的反應(yīng)速率為0.１５ mol/(L·min)，所以Ｃ項(xiàng)不正確。當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí)，說(shuō)明有0.1mold的HCl生成，所以D正確。