反應(yīng)3Cl2+6KOH（濃）═KClO3+5KCl+3H2O中，氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量比（　�。�
A、5：1B、4：1
C、1：5D、1：4
考點(diǎn)：氧化還原反應(yīng)
專題：氧化還原反應(yīng)專題
分析：3Cl2+6KOH（濃）═KClO3+5KCl+3H2O中，Cl元素的化合價(jià)由0升高為+5價(jià)，由0降低為-1價(jià)，以此來(lái)解答．
解答： 解：3Cl2+6KOH（濃）═KClO3+5KCl+3H2O中，Cl元素的化合價(jià)由0升高為+5價(jià)，由0降低為-1價(jià)，則氯氣既是氧化劑也是還原劑，由電子守恒可知，5個(gè)Cl得到電子與1個(gè)Cl失去電子轉(zhuǎn)移電子守恒，則氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量比為5：1，
故選A．
點(diǎn)評(píng)：本題考查氧化還原反應(yīng)，為高頻考點(diǎn)，把握反應(yīng)中元素的化合價(jià)變化為解答的關(guān)鍵，側(cè)重氧化劑、還原劑判斷的考查，注意從化合價(jià)角度、電子守恒分析，題目難度不大．
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

今有鐵和鋅的混合物12.1g，其中鐵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為46.28%，與足量的鹽酸反應(yīng)后生成標(biāo)準(zhǔn)狀況下的氫氣
 
L．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

無(wú)論是從在國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的地位來(lái)看，還是從科學(xué)發(fā)展的角度來(lái)看，硅都發(fā)揮著重要的作用．
（1）人類使用硅酸鹽產(chǎn)品（陶瓷等）的歷史已經(jīng)快一萬(wàn)年了，但在1823年才獲得單質(zhì)硅，瑞典化學(xué)家貝采尼烏斯用金屬鉀還原SiF4獲得單質(zhì)硅，寫出化學(xué)方程式
 
．
（2）由于制取方法和條件的不同，得到的單質(zhì)硅形態(tài)不同，其性質(zhì)也不同．
①用鋁熱法還原氟硅酸鉀制得較純凈的晶體硅：4Al+3K2SiF6
 高溫 
.
 
3Si+2KAlF4+2K2AlF5，關(guān)于該反應(yīng)的說(shuō)法正確的是
 
．（填序號(hào)）
A．Al是還原劑 
B．氧化產(chǎn)物只有KAlF4
C．每轉(zhuǎn)移6NA電子，得到42gSi
D．Al元素在KAlF4和K2AlF5中化合價(jià)不同
②用白砂子與鎂粉混合在高溫條件下得到無(wú)定形硅，反應(yīng)的化學(xué)方程式為
 
．
③無(wú)定形硅和晶體硅的結(jié)構(gòu)有很大的差別，無(wú)定形硅為棕色粉末，而晶體硅是純灰色、不透明而有光澤的等軸八面晶體，無(wú)定形硅的化學(xué)性質(zhì)比晶體硅活潑得多．通過(guò)上述描述你能得出的結(jié)論是
 
．
（3）硅在煉鋼時(shí)用作脫氧劑，還原在冶煉過(guò)程中所形成的FeO，化學(xué)方程式為
 
．
（4）在野外，為了迅速得到氫氣，用硅粉與干燥的Ca（OH）2和NaOH混合，并加強(qiáng)熱，即可迅速得到H2、Na2SiO3、CaO．這種混合物叫做生氫劑．請(qǐng)寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式
 
．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

在80g密度為dg/cm3的硫酸鐵溶液中，含有2.8gFe3+，則此溶液中SO42-的物質(zhì)的量濃度為（　　）
A、
15d
16
mol?L-1
B、
5d
16
 mol?L-1
C、
3d
8
mol?L-1
D、
5d
8
 mol?L-1

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

101kPa時(shí)辛烷的燃燒熱為5518kJ?mol-1，強(qiáng)酸與強(qiáng)堿在稀溶液中發(fā)生反應(yīng)時(shí)的中和熱為57.3kJ?mol-1，則下列熱化學(xué)方程式書寫正確的是（　�。�
A、C8H18（1）+
25
2
O2（g）═8CO2（g）+9H2O（1）；△H=+5518 kJ?mol-1
B、C8H18（1）+
25
2
O2（g）═8CO2（g）+9H2O（1）；△H=一5518 kJ?mol-1
C、H+（aq）+OH-（aq）═H2O（aq）；△H=一57.3 kJ?mol-1
D、NaOH（aq）+
1
2
H2SO4 （aq）═
1
2
Na2SO4（aq）+H2O（1）；△H=+57.3 kJ?mol-1

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

下列對(duì)H2（g）+Cl2（g）═2HCl（g）△H（298K）=-184.6kJ?mol-1的敘述正確的是（　�。�
A、1分子H2和Cl2反應(yīng)，放出熱量184.6 kJ
B、1 mol H2（g）完全反應(yīng)生成2 mol HCl（g），放出的熱量為184.6 kJ
C、在101 kPa、25℃的條件下，1 mol H2（g）和1 mol Cl2（g）完全反應(yīng)生成2 mol HCl（g）放出的熱量為184.6 kJ
D、在101 kPa、25℃的條件下，1 mol H2（g）和1 mol Cl2（g）完全反應(yīng)生成2 mol HCl（g）吸收的熱量為184.6 kJ

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

下列認(rèn)識(shí)正確的是（　�。�
A、熱化學(xué)方程式中，如果沒(méi)有注明溫度和壓強(qiáng)，則表示反應(yīng)熱是在標(biāo)準(zhǔn)狀況下測(cè)得的數(shù)據(jù)
B、破壞反應(yīng)物全部化學(xué)鍵所需能量小于破壞生成物全部化學(xué)鍵所需能量的反應(yīng)是放熱反應(yīng)
C、加入催化劑，可以改變化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)熱
D、根據(jù)能量守恒定律，反應(yīng)物的總能量等于生成物的總能量

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

下列說(shuō)法正確的是（　�。�
A、Si、P、S、Cl相應(yīng)的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性依次增強(qiáng)
B、自然界中含有大量的游離態(tài)的硅，純凈的硅晶體可用于制作計(jì)算機(jī)芯片
C、工業(yè)上通常用電解鈉、鐵、銅對(duì)應(yīng)的氯化物制得該三種金屬單質(zhì)
D、金屬鋁、鐵、銅都有一定的抗腐蝕性能，其抗腐蝕的原因都是表面形成氧化物薄膜

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

請(qǐng)按要求完成下列各項(xiàng)填空：
（1）①pH=2的CH3COOH溶液稀釋100倍后，所得溶液pH
 
4（填“＞”或“＜”或“=”，下同）．
②0.01mol/L CH3COOH溶液的pH
 
2．
③0.1mol/L CH3COONa溶液的pH
 
7．
（2）觀察比較以上三個(gè)小題，從中試提出證明某酸（HA）是弱電解質(zhì)的兩種較穩(wěn)妥的實(shí)驗(yàn)方法：
①
 
；②
 
．
（3）AlCl3的水溶液呈
 
（填“酸”、“中”或“堿”）性，常溫時(shí)的pH
 
7（填“＞”、“＜”或“=”），原因是（用離子方程式表示）：
 
；實(shí)驗(yàn)室在配制 AlCl3溶液時(shí)，常將 AlCl3固體先溶于濃鹽酸中，然后再用蒸餾水稀釋到所需的濃度，以
 
（填“促進(jìn)”或“抑制”）其水解．將AlCl3溶液蒸干、灼燒，最后得到的主要固體產(chǎn)物是
 
（填化學(xué)式）．

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