（18分）實(shí)驗(yàn)室里用下圖所示裝置制取純凈的無水CuCl2。試回答下列問題：
（1）寫出燒瓶中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式，并標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目
                                                     。
（2）B處盛有飽和食鹽水（或水），其作用是                     。
（3）C處盛放的試劑__________（填名稱），其作用是              。
（4）E處盛有_______（填名稱），發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為                  。
（5）實(shí)驗(yàn)結(jié)束時(shí)，應(yīng)先熄滅__________處酒精燈。
(共18分)　（5分）
⑵吸收HCl氣體（2分）  ⑶濃硫酸（2分）  干燥氣體（2分） 
⑷氫氧化鈉（2分）   2OH-+Cl2=Cl-+ClO-+H2O （3分） ⑸D（2分）
略
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

（12分）實(shí)驗(yàn)室用固體燒堿配制500mL0.1000mol/L的NaOH溶液。
（1）需稱量___________g燒堿
（2）配制過程中，不需要的儀器（填寫代號(hào)）____________________
a、燒杯 b、托盤天平 c、玻璃棒 d、1000mL容量瓶  e、漏斗 f、膠頭滴管
（3）根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要和（2）所列儀器判斷，完成實(shí)驗(yàn)還缺少的玻璃儀器有____________
（4）步驟B通常稱為轉(zhuǎn)移，步驟A通常稱為           
（5）將上述實(shí)驗(yàn)步驟A到F按實(shí)驗(yàn)過程先后次序排列             
（6）若實(shí)驗(yàn)時(shí)遇到下列情況，將使溶液的濃度偏低的是     。
A．忘記將洗滌液轉(zhuǎn)入容量瓶；
B．容量瓶洗滌后底部?jī)?nèi)壁有水珠而未作干燥處理；
C．定容、搖勻、靜置后發(fā)現(xiàn)凹面低于刻度線又加水至刻度線；
D．定容時(shí)俯視刻度線；

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì))，粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450～500℃)，四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下：
a．四氯化硅遇水極易水解；
b．硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物；
c．有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表：
物質(zhì)
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸點(diǎn)/℃
57.7
12.8
—
315
—
熔點(diǎn)/℃
－70.0
－107.2
—
—
—
升華溫度/℃
—
—
180
300
162
請(qǐng)回答下列問題：
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式______________________。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是________；裝置C中的試劑是________；裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是__________________________________。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是________(填寫元素符號(hào))。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

（6分）氯化銅是一種廣泛用于生產(chǎn)顏料、木材防腐劑等的化工產(chǎn)品。某研究小組用粗銅（含雜質(zhì)Fe）按下述流程制備氯化銅晶體（CuCl2·2H2O）。

（1）實(shí)驗(yàn)室采用如下圖所示的裝置，可將粗銅與Cl2反應(yīng)轉(zhuǎn)化為固體1（部分儀器和夾持裝置已略去）。

①儀器A的名稱是     。
②裝置B中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是     。
③有同學(xué)認(rèn)為應(yīng)在濃硫酸洗氣瓶前增加吸收HCl的裝置，你認(rèn)為是否必要（填“是”或“否”）     。
④ NaOH溶液的作用                       
（2）試劑X用于調(diào)節(jié)pH以除去雜質(zhì)， X可選用下列試劑中的（填序號(hào)）     。
a．NaOH   b．NH3·H2O   c．CuO   d．Cu2(OH) 2CO3   e．CuSO4

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

實(shí)驗(yàn)室配制500mL 0.1mol/L Na2CO3溶液，回答下列問題：
（1）應(yīng)用托盤天平稱取石堿晶體（十水碳酸鈉）________g；
（2）配制Na2CO3溶液時(shí)需要使用的主要儀器有托盤天平、燒杯、鑰匙、________、________、________、
（3）若實(shí)驗(yàn)遇到下列情況，溶液的濃度是偏高，偏低還是不變？
①加水時(shí)超過刻度線，再用滴管吸出直至刻度線________；
②忘記將洗滌液加入容量瓶________；
③容量瓶?jī)?nèi)壁附有水珠而未干燥處理________；
④定容后搖勻，液面低于刻度線________。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列有關(guān)實(shí)驗(yàn)原理或?qū)嶒?yàn)操作正確的是
A．用水濕潤(rùn)pH試紙測(cè)量某溶液的pH
B．用量筒量取20mol ?L-1H2SO4溶液于燒杯中，加水80mL，配制成0.1000 mol?L-1H2SO4溶液
C．實(shí)驗(yàn)室用圖2所示裝置制取少量氨氣
D．實(shí)驗(yàn)室用圖3所示裝置出去Cl2中的少量HCl

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

（16分）孔雀石主要含Cu2(OH)2CO3，還含少量Fe、Si的化合物，實(shí)驗(yàn)室以孔雀石為原料制備CuSO4·5H2O及CaCO3，步驟如下：

試回答下列問題：
（1）在未加入H2O2的溶液A中，存在的金屬離子有Cu2+、Fe2+、Fe3+。若檢驗(yàn)該溶液中Fe3+，選擇最合適的試劑是 　　 （填代號(hào)）。
A．KMnO4溶液B．Fe粉C．Na2CO3溶液D．KSCN溶液
向溶液A中加入H2O2，H2O2在該反應(yīng)中作氧化劑。實(shí)驗(yàn)室選用H2O2而不用Cl2作氧化劑。除考慮環(huán)保因素外，另一原因是不引入雜質(zhì)　　　　離子。
（2）由溶液C獲得CuSO4·5H2O，需要經(jīng)過加熱濃縮，   　　　，過濾等操作。除燒杯、漏斗外，過濾操作還需用到另一玻璃儀器，該儀器在此操作中的主要作用是　　　　　。
（3）制備CaCO3時(shí)，發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是 　　　　　　　　　　　　　　　 ；若實(shí)驗(yàn)過程中有氨氣逸出，可選用下列裝置中的 　　 （填代號(hào)）裝置吸收氨氣。
（燒杯中的液體都為水）

（4）欲測(cè)定溶液A中Fe2+的濃度，需配制100 mL 0.1 mol∕LKMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液。配制該溶液時(shí)：除燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需的一種玻璃儀器是  　　　　　   ；當(dāng)往該玻璃儀器中加蒸餾水至接近刻度線1－2cm時(shí)，應(yīng)改用　　　　　　　滴加蒸餾水至溶液的凹液面正好與刻度線相平。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實(shí)驗(yàn)題

實(shí)驗(yàn)室用下圖裝置制取少量溴苯，試填寫下列空白。

（1）在燒瓶a中裝的試劑是      、     、    。
（2）請(qǐng)你推測(cè)長(zhǎng)直導(dǎo)管b的作用是              　　        。
（3）請(qǐng)你推測(cè)導(dǎo)管c的下口可否浸沒于液面中   
（4）寫出燒瓶a中所有反應(yīng)的方程式（標(biāo)明條件）并指出有機(jī)反應(yīng)類型________。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列制備設(shè)計(jì)錯(cuò)誤的是
A．以苯為原料制水楊酸（鄰羥基苯甲酸），應(yīng)向苯環(huán)上先引入酚羥基
B．制備表面活性劑對(duì)十二烷基苯磺酸鈉，可向苯環(huán)上先引入磺酸基(-SO3H)
C．制備十二烷基苯可以采用1-十二烯在一定條件下與苯加成
D．采用對(duì)MgCl2·6H2O在氯化氫氣流中加熱脫水制無水MgCl2

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同步練習(xí)冊(cè)答案