Question

【題目】有機(jī)合成制藥工業(yè)中的重要手段。G是某抗炎癥藥物的中間體，其合成路線如下：

已知：

（具有還原性，極易被氧化）。

（1）B的結(jié)構(gòu)簡式為 ______。

（2）反應(yīng)④的條件為 ___________ ；①的反應(yīng)類型為 ____________ ；反應(yīng)②的作用是_________ 。

（3）下列對有機(jī)物G的性質(zhì)推測正確的是 __________（填選項字母）。

A．具有兩性，既能與酸反應(yīng)也能與堿反應(yīng)

B．能發(fā)生消去反應(yīng)、取代反應(yīng)和氧化反應(yīng)

C．能聚合成高分子化合物

D．1molG與足量NaHCO3溶液反應(yīng)放出2molCO2

（4）D與足量的NaHCO3溶液反應(yīng)的化學(xué)方程式為_______。

（5）符合下列條件的C的同分異構(gòu)體有 _____種。

A．屬于芳香族化合物，且含有兩個甲基

B．能發(fā)生銀鏡反應(yīng)

C．與FeCI3溶液發(fā)生顯色反應(yīng)

其中核磁共振氫譜有4組峰，且峰面積之比為6：2：2：1的是___（寫出其中一種結(jié)構(gòu)簡式）

（6）已知：苯環(huán)上有烷烴基時，新引入的取代基連在苯環(huán)的鄰對位；苯環(huán)上有峰基時，新引入的取代基連在苯一平的間位。根據(jù)題中的信息，寫現(xiàn)以甲苯為原料合成有機(jī)物（）的流程圖（無機(jī)試劑任選）________。合成路線流程圖示例如下： 目標(biāo)產(chǎn)物。

Answer 1

【答案】 】 濃硫酸、濃硝酸、加熱 取代反應(yīng) 保護(hù)酚輕基，以防被氧化 C 16 或

【解析】C發(fā)生氧化反應(yīng)生成D，由D的結(jié)構(gòu)逆推，可知C為；A與B反應(yīng)生成C，結(jié)合B的分子式、給予的反應(yīng)信息，可知B為，A為；D發(fā)生水解反應(yīng)、酸化得到E為；由G的結(jié)構(gòu)簡式可知，E發(fā)生硝化反應(yīng)生成F，F(xiàn)再發(fā)生還原反應(yīng)得到G。

（1）由上述分析可知，B的結(jié)構(gòu)簡式為：,故答案為：；

（2）反應(yīng)④為硝化反應(yīng)，反應(yīng)條件為：濃硫酸、濃硝酸、加熱，①的反應(yīng)類型為取代反應(yīng)，反應(yīng)②的作用是保護(hù)酚羥基，以防被氧化。

故答案為：濃硫酸、濃硝酸、加熱；取代反應(yīng)；保護(hù)酚羥基，以防被氧化；

（3）A、G含有氨基與羧基，具有兩性，既能與酸反應(yīng)也能和堿反應(yīng)，故A正確；B、G不能發(fā)生消去反應(yīng)，故B錯誤；C、含有羧基、氨基，能進(jìn)行縮聚，形成高分子化合物，故C正確；D、羧基能與NaHCO3反應(yīng)生成CO2，1molG與足量NaHCO3溶液反應(yīng)放出1molCO2，故D錯誤。故選AC；

（4）D中羧基，水解得到羧酸與酚羥基均與NaOH反應(yīng)，反應(yīng)化學(xué)方程式為：；

（5）C為,符合下列條件的C的同分異構(gòu)體：a、屬于芳香族化合物，且含有兩個甲基，說明含有苯環(huán)和2個CH3；b、能發(fā)生銀鏡反應(yīng)，說明含有CHO；c、與FeCl3溶液發(fā)生顯色反應(yīng)，說明含有酚羥基，則苯環(huán)上有四個取代基：2個CH3、1個OH、1個CHO。

①若為苯環(huán)上H原子被OH、CHO取代，則當(dāng)OH在中1號位置，-CHO有3種位置；當(dāng)-OH在2號位置，CHO有3種、3種位置，故共6種同分異構(gòu)體；

②若為苯環(huán)上H原子被OH、CHO取代，則當(dāng)OH在中1號位置，-CHO有2種位置；當(dāng)-OH在2號位置，-CHO有2種位置；當(dāng)-OH在3號位置，-CHO有3種位置，共7種同分異構(gòu)體；③若為苯環(huán)上H原子被OH、CHO取代，OH有1種位置，而CHO有3種位置。故符合條件的同分異構(gòu)體共有16種。其中核磁共振氫譜有4組峰,且峰面積之比為6:2:1:1的是或。

故答案為：16； 或。

（6）流程目的：→。要將-CH3氧化為-COOH，且要在鄰位引入1個-NH2。苯環(huán)上-CH3可以在酸性高錳酸鉀條件下被氧化為-COOH；據(jù)已知信息可知，可以先在甲苯上引入-NO2，即發(fā)生硝化反應(yīng)；然后在Fe/HCl的條件下將-NO2還原為-NH2；而又已知-NH2極易被氧化，所以-CH3的氧化應(yīng)在-NO2的還原之前。合成流程圖為：。