為了除去氧化鎂粉末中少量的氧化鋁和二氧化硅，可選擇的試劑是


  1. A.
    氨水
  2. B.
    氫氧化鈉溶液
  3. C.
    氫氟酸
  4. D.
    稀硝酸
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：高一化學(xué)(中學(xué)生學(xué)科素質(zhì)訓(xùn)練與檢測叢書) 題型：013

為了除去氧化鎂粉末中少量的氧化鋁和二氧化硅，可選擇的試劑是

[　　]

A．氨水
B．氫氧化鈉溶液
C．氫氟酸
D．稀硝酸

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：013

為了除去氧化鎂粉末中少量的氧化鋁和二氧化硅，可選擇的試劑是

[　　]

A．氨水
B．氫氧化鈉溶液
C．氫氟酸
D．稀硝酸

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科目：高中化學(xué) 來源：2013-2014學(xué)年河南省南陽市五校聯(lián)誼高三上學(xué)期期中考試化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

（Ⅰ）二氧化鈰（CeO2）是一種重要的稀土氧化物。平板電視顯示屏生產(chǎn)過程中產(chǎn)生大量的廢玻璃粉末（含SiO2、Fe2O3、CeO2以及其他少量可溶于稀酸的物質(zhì)）。某課題組以此粉末為原料回收鈰，設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)流程如下：

（1）洗滌的目的主要是為了除去Cl－和___________（填離子符號(hào)），檢驗(yàn)該濾渣A洗凈的方法是_____________________。

（2）第②步反應(yīng)的離子方程式是____________________________。

（3）取上述流程中得到的Ce（OH）4產(chǎn)品0．536 g，加硫酸溶解后，用0．1000mol· L－1FeSO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定終點(diǎn)時(shí)（鈰被還原為Ce3＋），消耗25．00mL標(biāo)準(zhǔn)溶液，該產(chǎn)品中Ce（OH）4的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為_____________。

（Ⅱ）氧化鎂在醫(yī)藥、建筑等行業(yè)應(yīng)用廣泛．硫酸鎂還原熱解制備高純氧化鎂是一種新的探索．以菱鎂礦（主要成分為MgCO3，含少量FeCO3）為原料制備高純氧化鎂的實(shí)驗(yàn)流程如下：

（1）加入H2O2氧化時(shí)，發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________。

（2）濾渣2的成分是______________（填化學(xué)式）。

（3）煅燒過程存在以下反應(yīng)：2MgSO4＋C=2MgO＋2SO2↑＋CO2↑

MgSO4＋C=MgO＋SO2↑＋CO↑   MgSO4＋3C=MgO＋S↑＋3CO↑

利用如圖裝置對(duì)煅燒產(chǎn)生的氣體進(jìn)行分步吸收或收集。

①D中收集的氣體可以是______________（填化學(xué)式）。

②B中盛放的溶液可以是______________（填字母）。

A．NaOH溶液 B．Ca（OH）2溶液  C．稀硝酸  D．KMnO4溶液

③A中得到的淡黃色固體與熱的NaOH溶液反應(yīng)，產(chǎn)物中元素最高價(jià)態(tài)為＋4，寫出該反應(yīng)的離子方程式：__________________。

 

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