往下列溶液中，通入足量CO2氣體，最終能析出固體的是
A．澄清石灰水B．飽和Na2CO3溶液C．CaCl2溶液D．鹽酸
B

試題分析：A、足量二氧化碳與澄清石灰水反應(yīng)先有沉淀后消失，錯誤；B、二氧化碳與碳酸鈉反應(yīng)生成碳酸氫鈉，而碳酸氫鈉的溶解度小于碳酸鈉，所以在飽和碳酸鈉溶液中通二氧化碳會有碳酸氫鈉固體析出，正確；C、二氧化碳不與氯化鈣溶液反應(yīng)，錯誤；D、二氧化碳不與鹽酸反應(yīng)，錯誤，答案選B。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列金屬中在常溫下不溶于濃硝酸的是（　�。�
A．鐵B．鎂C．汞D．銅

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

2013年我國載人飛船再次升空，顯示出我國航天技術(shù)已進入世界一流。飛船應(yīng)用了許多尖端的合成材料。據(jù)報道我國科學(xué)家近年來研制出一種新型“連續(xù)纖維增韌”航空材料，其主要成分是由碳化硅陶瓷和碳纖維復(fù)合而成的。下列相關(guān)敘述不正確的是(　　)。
A．它耐高溫抗氧化
B．它比鋼鐵輕、硬，但質(zhì)地較脆
C．它沒有固定熔點
D．它是一種新型無機非金屬材料

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：填空題

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________；H2還原SiHCl3過程中若混有O2，可能引起的后果是____________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是   (　　)。
A．單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，但可以被強堿溶液腐蝕
B．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高
D．光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入鹽酸，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說明)_________________________ ____。
(4)在人體器官受到損傷時，需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內(nèi)，這種材料是________(填字母)。
A．高溫結(jié)構(gòu)陶瓷    　B．生物陶瓷　     C．導(dǎo)電陶瓷

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列物品或設(shè)備：①水泥路；②門窗玻璃；③水晶鏡片；④石英鐘表；⑤瑪瑙手鐲；⑥硅太陽能電池；⑦光導(dǎo)纖維；⑧計算機芯片。所用材料含有SiO2的(　　)。
A．①②③④⑤⑦B．①②⑦⑧C．⑥⑧D．全部

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

有關(guān)高溫結(jié)構(gòu)陶瓷和光導(dǎo)纖維的說法正確的是(　　)。
A．高溫結(jié)構(gòu)陶瓷彌補了金屬材料的弱點，但是硬度卻遠遠低于金屬材料
B．氮化硅陶瓷是一種重要的結(jié)構(gòu)材料，具有超硬性，它不與任何無機酸反應(yīng)
C．光導(dǎo)纖維是一種能高質(zhì)量傳導(dǎo)光的玻璃纖維
D．光導(dǎo)纖維的抗干擾性能好，不發(fā)生電輻射，通訊質(zhì)量高，能防竊聽

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

往含0.2 mol NaOH和0.1 mol Ba(OH)2的溶液中持續(xù)穩(wěn)定地通入CO2氣體，當(dāng)通入氣體的體積為6.72 L(標準狀況下)時立即停止，則在這一過程中，溶液中離子數(shù)目和通入CO2氣體的體積關(guān)系正確的圖像是(氣體的溶解忽略不計)（  ）

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

下列有關(guān)說法正確的是（  ）
A．CO2、CH4、N2等均是造成溫室效應(yīng)的氣體
B． 14C可用于文物鑒定，14C與12C互為同素異形體
C．二氧化硅不與任何酸反應(yīng)，可用石英制造耐酸容器
D．精煉粗鋁時要清除坩堝表面的石英砂，鋁與石英砂反應(yīng)的方程式為

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

由二氧化硅制高純硅的流程如下，下列判斷中錯誤的是
A．①②③均屬于氧化還原反應(yīng)B．H2和HCl均可循環(huán)利用
C．SiO2是一種堅硬難熔的固體D．SiHCl3摩爾質(zhì)量為135.5g

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