飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應(yīng)。圖中的每一方格表示有關(guān)的一種主要反應(yīng)物或生成物(反應(yīng)中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去),其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學(xué)中常見氣態(tài)物質(zhì),X和K是中學(xué)常見的金屬單質(zhì),氧化物Y是一種比較好的耐火材料。

回答下列問題:

①W的名稱是                ,G的俗名是                 。

②A分子的空間構(gòu)型是                     ,鍵角是         °      ′。

③反應(yīng)(3)的化學(xué)方程式是                                              

    

反應(yīng)(4)的化學(xué)方程式是                                               。

④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                    。

⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學(xué)方程式                                        。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

(2012?長寧區(qū)一模)Ⅰ.工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅.
(1)原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì),必須精制后才能供電解使用.精制時(shí),粗鹽溶于水過濾后,還要加入的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是
③①②
③①②
(填序號(hào))洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl,選用的試劑為
.(填序號(hào))(①飽和Na2CO3溶液  ②飽和K2CO3溶液  ③75%乙醇、芩穆然迹
(2)如圖是離子交換膜(允許鈉離子通過,不允許氫氧根與氯離子通過)法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是
氯氣
氯氣
;NaOH溶液的出口為
a
a
(填字母);精制飽和食鹽水的進(jìn)口為
d
d
(填字母);干燥塔中應(yīng)使用的液體是
濃硫酸
濃硫酸


Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注.
(1)SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl

(2)SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用.一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)?4SiHCl3(g)
達(dá)平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為
0.351
0.351
kg.
(3)實(shí)驗(yàn)室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng):
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑;MnO2+4HCl(濃)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此,從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
e
e
(填代號(hào))和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
d
d
(填代號(hào)).
可選用制備氣體的裝置:

(4)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時(shí)生成氫氣,現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣
134.4
134.4
m3(標(biāo)準(zhǔn)狀況).(忽略可能存在的其他反應(yīng))
某工廠生產(chǎn)硼砂過程中產(chǎn)生的固體廢料,主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg(CO32、Al2O3和Fe2O3等,回收其中鎂的工藝流程如下:

沉淀物 Fe(OH)3 Al(OH)3 Mg(OH)2
PH 3.2 5.2 12.4
Ⅲ.部分陽離子以氫氧化物形式完全沉淀時(shí)溶液的pH見上表,請回答下列問題:
(1)“浸出”步驟中,為提高鎂的浸出率,可采取的措施有
適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間
適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間
(要求寫出兩條).
(2)濾渣I的主要成分是
Fe(OH)3、Al(OH)3
Fe(OH)3、Al(OH)3

Mg(ClO32在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑,可采用復(fù)分解反應(yīng)制備:
MgCl2+2NaClO3→Mg(ClO32+2NaCl
已知四種化合物的溶解度(S)隨溫度(T)變化曲線如圖所示:

(3)將反應(yīng)物按化學(xué)反應(yīng)方程式計(jì)量數(shù)比混合制備Mg(ClO32.簡述可制備Mg(ClO32的原因:
在某一溫度時(shí),NaCl最先達(dá)到飽和析出;Mg(ClO32的溶解度隨溫度變化的最大,NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別;
在某一溫度時(shí),NaCl最先達(dá)到飽和析出;Mg(ClO32的溶解度隨溫度變化的最大,NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別;

(4)按題(3)中條件進(jìn)行制備實(shí)驗(yàn).在冷卻降溫析出Mg(ClO32過程中,常伴有NaCl析出,原因是:
降溫前,溶液中NaCl已達(dá)飽和,降低過程中,NaCl溶解度會(huì)降低,會(huì)少量析出;
降溫前,溶液中NaCl已達(dá)飽和,降低過程中,NaCl溶解度會(huì)降低,會(huì)少量析出;
.除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是:
重結(jié)晶
重結(jié)晶

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科目:高中化學(xué) 來源:浙江省模擬題 題型:推斷題

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物可發(fā)生下列的系列反應(yīng)。圖中的每一方格表示有關(guān)的一種主要反應(yīng)物或生成物(反應(yīng)中加入或生成的水以及生成的其他產(chǎn)物已略去)。其中A、B、C、D、E在常溫常壓下均是氣態(tài)物質(zhì)。
按照反應(yīng)過程,分析下列問題:
(1)確定物質(zhì)化學(xué)式:W_________,C__________。
(2)書寫飽和鹽溶液W的電解化學(xué)方程式:________________。
(3)書寫反應(yīng)①②的化學(xué)方程式,若是氧化還原反應(yīng),標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目:
①___________________,②____________________。
(4)書寫反應(yīng)③(H中通入A)的離子方程式:____________________。
(5)物質(zhì)I是一種離子化合物,用電子式表示其結(jié)構(gòu):____________________。

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

★★★

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應(yīng)。圖中的每一方格表示有關(guān)的一種主要反應(yīng)物或生成物(反應(yīng)中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去),其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學(xué)中常見氣態(tài)物質(zhì),X和K是中學(xué)常見的金屬單質(zhì),氧化物Y是一種比較好的耐火材料。H可溶于強(qiáng)酸強(qiáng)堿。

回答下列問題:

①W的名稱是                ,G的俗名是                 。

②A分子的空間構(gòu)型是                     。

③反應(yīng)(3)的化學(xué)方程式是                                              

反應(yīng)(4)的化學(xué)方程式是                                               。

④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                    。

⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學(xué)方程式                                                              。

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科目:高中化學(xué) 來源:2010級(jí)成都七中高三沖刺理綜試題化學(xué)部分 題型:填空題

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應(yīng)。圖中的每一方格表示有關(guān)的一種主要反應(yīng)物或生成物(反應(yīng)中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去),其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學(xué)中常見氣態(tài)物質(zhì),X和K是中學(xué)常見的金屬單質(zhì),氧化物Y是一種比較好的耐火材料。

回答下列問題:
①W的名稱是               ,G的俗名是                。
②A分子的空間構(gòu)型是                    ,鍵角是        °     ′。
③反應(yīng)(3)的化學(xué)方程式是                                              。
反應(yīng)(4)的化學(xué)方程式是                                              。
④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                   。
⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學(xué)方程式                                       。

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