精制食鹽水時,下列物質(zhì)中不必用到的有(  )

①NaOH溶液、邴}酸 ③K2CO3溶液、蹷aCl2溶液

⑤硫酸 ⑥Na2CO3溶液、連a(NO3)2溶液

A.③④⑤                               B.③⑤⑦

C.②⑤⑥                               D.②④⑤⑦

 

【答案】

B

【解析】

試題分析:精制食鹽水時,不必用到的試劑是K2CO3溶液、硫酸和Ba(NO3)2溶液,若選用這些試劑時,將會分別引入鉀鹽、硫酸鹽和硝酸鹽等雜質(zhì),所以答案選B。

考點:考查物質(zhì)的分離和提純

點評:該題是高考中的常見題型,屬于中等難度的試題。在解答物質(zhì)分離提純試題時,選擇試劑和實驗操作方法應(yīng)遵循三個原則: 1.不能引入新的雜質(zhì)(水除外),即分離提純后的物質(zhì)應(yīng)是純凈物(或純凈的溶液),不能有其他物質(zhì)混入其中;2.分離提純后的物質(zhì)狀態(tài)不變;3.實驗過程和操作方法簡單易行,即選擇分離提純方法應(yīng)遵循先物理后化學(xué),先簡單后復(fù)雜的原則。

 

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

(2012?長寧區(qū)一模)Ⅰ.工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅.
(1)原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì),必須精制后才能供電解使用.精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加入的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是
③①②
③①②
(填序號)洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl,選用的試劑為
.(填序號)(①飽和Na2CO3溶液  ②飽和K2CO3溶液  ③75%乙醇、芩穆然迹
(2)如圖是離子交換膜(允許鈉離子通過,不允許氫氧根與氯離子通過)法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是
氯氣
氯氣
;NaOH溶液的出口為
a
a
(填字母);精制飽和食鹽水的進口為
d
d
(填字母);干燥塔中應(yīng)使用的液體是
濃硫酸
濃硫酸


Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注.
(1)SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl

(2)SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用.一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)?4SiHCl3(g)
達平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為
0.351
0.351
kg.
(3)實驗室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng):
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑;MnO2+4HCl(濃)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此,從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
e
e
(填代號)和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
d
d
(填代號).
可選用制備氣體的裝置:

(4)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣
134.4
134.4
m3(標準狀況).(忽略可能存在的其他反應(yīng))
某工廠生產(chǎn)硼砂過程中產(chǎn)生的固體廢料,主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg(CO32、Al2O3和Fe2O3等,回收其中鎂的工藝流程如下:

沉淀物 Fe(OH)3 Al(OH)3 Mg(OH)2
PH 3.2 5.2 12.4
Ⅲ.部分陽離子以氫氧化物形式完全沉淀時溶液的pH見上表,請回答下列問題:
(1)“浸出”步驟中,為提高鎂的浸出率,可采取的措施有
適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時間
適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時間
(要求寫出兩條).
(2)濾渣I的主要成分是
Fe(OH)3、Al(OH)3
Fe(OH)3、Al(OH)3

Mg(ClO32在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑,可采用復(fù)分解反應(yīng)制備:
MgCl2+2NaClO3→Mg(ClO32+2NaCl
已知四種化合物的溶解度(S)隨溫度(T)變化曲線如圖所示:

(3)將反應(yīng)物按化學(xué)反應(yīng)方程式計量數(shù)比混合制備Mg(ClO32.簡述可制備Mg(ClO32的原因:
在某一溫度時,NaCl最先達到飽和析出;Mg(ClO32的溶解度隨溫度變化的最大,NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別;
在某一溫度時,NaCl最先達到飽和析出;Mg(ClO32的溶解度隨溫度變化的最大,NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別;

(4)按題(3)中條件進行制備實驗.在冷卻降溫析出Mg(ClO32過程中,常伴有NaCl析出,原因是:
降溫前,溶液中NaCl已達飽和,降低過程中,NaCl溶解度會降低,會少量析出;
降溫前,溶液中NaCl已達飽和,降低過程中,NaCl溶解度會降低,會少量析出;
.除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是:
重結(jié)晶
重結(jié)晶

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科目:高中化學(xué) 來源:灌云縣2006-2007學(xué)年高三第一次聯(lián)考、化學(xué)試卷 題型:022

(1)下列有關(guān)實驗的基本操作及安全知識的敘述,正確的是________(填序號.錯選倒扣分,至本小題扣完為止).

A、用干燥的pH試紙測定氯水的pH

B、用結(jié)晶法可以除去硝酸鉀中混有的少量氯化鈉

C、切割白磷時,必須用鑷子夾取,置于桌面上的玻璃片上,小心用刀切割

D、實驗時,不慎打翻燃著的酒精燈,可立即用濕抹布蓋滅火焰

E、濃硫酸不小心沾到皮膚上,立刻用稀燒堿溶液洗滌

F、在氫氧化鐵膠體中滴加少量稀硫酸不會產(chǎn)生沉淀

(2)電解法制堿的主要原料是飽和食鹽水,由于粗鹽水中含有泥沙、Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì),不符合電解要求,因此必須經(jīng)過精制.某同學(xué)設(shè)計了一種制備精鹽的實驗方案,步驟如下(用于沉淀的試劑稍過量):

步聚1:取一定量的粗鹽,置于燒杯中,加入足量的水,配成粗鹽水;

步聚2:向粗鹽水中加入除雜試劑,然后進行過濾,濾去不溶物,再向濾液中加入鹽酸調(diào)節(jié)鹽水的pH;

步聚3:將得到的溶液蒸發(fā)濃縮、冷卻、結(jié)晶、過濾、烘干即得精鹽;

請回答以下問題:

①上述實驗中的過濾操作需要燒杯、________、________等玻璃儀器.

②步聚2中常用Na2CO3、NaOH、BaCl2作為除雜試劑,則加入除雜試劑的順序為:________;

③步聚2中,判斷加入BaCl2已過量的方法是:________;

④為檢驗精鹽純度,需配制100mL0.2mol/LNaCl(精鹽)溶液,右圖是該同學(xué)轉(zhuǎn)移溶液的示意圖,圖中的錯誤是________、________

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

電解法制堿的主要原料是飽和食鹽水,由于粗鹽水中含有泥沙、Ca2+、Mg2+、Fe3+等雜質(zhì),不符合電解要求,因此必須經(jīng)過精制。某同學(xué)設(shè)計了一種制備精鹽的實驗方案,步驟如下(用于沉淀的試劑稍過量):

步驟1:取一定量的粗鹽,置于燒杯中,加入足量的水,配成粗鹽水;

步驟2:向粗鹽水中加入除雜試劑,然后進行過濾,濾去不溶物,再向濾液中加入鹽酸調(diào)節(jié)鹽水的pH;

步驟3:將得到的溶液蒸發(fā)濃縮、冷卻、結(jié)晶、過濾、烘干即得精鹽。

請回答下列問題:

(1)上述實驗中的過濾操作需要燒杯、____________、____________等玻璃儀器。

(2)步驟2中常用Na2CO3、NaOH、BaCl2作為除雜試劑,則加入除雜試劑的順序為_______________________。

(3)步驟2中,判斷加入BaCl2已過量的方法是_______________________。

(4)步驟2中,若先用鹽酸調(diào)節(jié)pH再過濾,將會對實驗結(jié)果產(chǎn)生影響,其原因是_______

______________________________________________________。

(5)為檢驗精鹽純度,需配制150 mL 0.2 mol·L-1 NaCl(精鹽)溶液,下圖是該同學(xué)轉(zhuǎn)移溶液的示意圖,圖中的兩處錯誤是:

____________________________________________________________________,

____________________________________________________________________。

若在定容時仰視,則所配溶液的濃度__________0.2 mol·L-1(填“大于”或“小于”);若定容不慎超過刻度線,應(yīng)采用的處理方法是________________________。

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同步練習(xí)冊答案