【題目】下列反應中,硫酸既表現(xiàn)出強氧化性,又表現(xiàn)出酸性的是(
A.稀硫酸與鋅粒反應生成氣體
B.濃硫酸使鐵、鋁鈍化
C.濃硫酸與銅反應加熱反應產(chǎn)生SO2
D.濃硫酸和木炭在加熱條件下反應

【答案】C
【解析】解:A.稀硫酸與鋅粒反應生成氣體,只表現(xiàn)硫酸的酸性,故A不選; B.濃硫酸使鐵、鋁鈍化,只表示硫酸的強氧化性,故B不選;
C.銅與濃硫酸反應生成硫酸銅、二氧化硫和水,硫酸既表現(xiàn)出了強氧化性又表現(xiàn)了酸性,故C選;
D.木炭粉與濃硫酸反應生成二氧化碳和二氧化硫、水,只表示硫酸的強氧化性,故D不選;
故選:C.

練習冊系列答案
相關(guān)習題

科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】常溫下,一定濃度的某溶液,由水電離的出的c(OH-)=1×10-4 mol/L,則該溶液中的溶質(zhì)可能是

A.H2SO4 BNaOH CKHSO4 DCH3COONa

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】化學—物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)圖是元素周期表的一部分。已知R的核電荷數(shù)小于36,氣態(tài)氫化物沸點:MHn>YHn。

(1)表中五種元素第一電離能最大的是 (填元素符號),Y的最簡單氫化物分子的空間構(gòu)型為 ,基態(tài)R原子中有 個未成對電子。

(2)Y的最高價氧化物熔點比M的最高價氧化物熔點低,原因是 ,YZσ鍵與π鍵的數(shù)比為

(3)YO32中Y原子的雜化方式是 ,寫出一種與YO32互為等電子體的粒子 (用化學符號表示)。

(4)Z的一種常見氫化物能與硫酸銅反應生成配合物。請用結(jié)構(gòu)表示該配合物中的陽離子: 。

(5)如圖為某金屬單質(zhì)的面心立方晶胞結(jié)構(gòu)示意圖,該晶體中配位數(shù)是 ;測得此晶體的密度為2.7g.cm3,晶胞的邊長為0.405nm,則此金屬原子的相對原子質(zhì)量為 (結(jié)果保留整數(shù))。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】決定化學反應速率的主要因素是(
A.反應物本身的性質(zhì)
B.催化劑
C.溫度
D.壓強

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】用pH試紙測定某無色溶液的pH時,規(guī)范的操作是(

A.將pH試紙放入溶液中觀察其顏色變化,跟標準比色卡比較

B.將溶液倒在pH試紙上,跟標準比色卡比較

C.用干燥的潔凈玻璃棒蘸取溶液,滴在pH試紙上,跟標準比色卡比較

D.在試管內(nèi)放入少量溶液,煮沸,把pH試紙放在管口,觀察顏色,跟標準比色卡比較

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】W、X、Y、Z是短周期元素,其部分性質(zhì)如下表:

W

單質(zhì)是淡黃色固體

X

在地殼中的含量居第二位

Y

原子最外層電子數(shù)是電子總數(shù)的2/3

Z

第3周期原子半徑最小的金屬

下列說法正確的是

A. 氣態(tài)氫化物的熱穩(wěn)定性:X>W

B. 非金屬性:Y < W;離子半徑:Z > W

C. W在空氣中充分燃燒所得產(chǎn)物,可用于殺菌消毒

D. 金屬Z與少量NaOH溶液反應,生成兩性氫氧化物

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】(12分)圖表法是常用的科學研究方法,下表列出了同周期的四種短周期元素的部分性質(zhì)(“電負性”即元素對應原子吸引電子能力的標度):

元素編號

A

B

C

D

E

電負性

3.0

2.5

X[

1.5

0.9

原子半徑(單位nm)

0.099

0.102

0.110

0.143

0.186

主要化合價

-1,+7

-2,+6

-3,+5

+3

+1

請回答下列問題:

(1)寫出E元素的離子結(jié)構(gòu)示意圖 ;

(2)X的值應為 (填字母);

A.3.6 B.3.1 C.2.1 D.1.4

(3)分析表中數(shù)據(jù),簡述同周期元素(除惰性氣體)電負性大小與原子半徑的關(guān)系 ;

(4)A、B、C三種元素形成的氫化物中,其穩(wěn)定性由強到弱的順序是: (用化學式表示)

(5)A、D最高價氧化物對應水化物相互反應的化學方程式:

(6)D、E最高價氧化物對應水化物相互反應的離子方程式:

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】已知可逆反應aA+bBcC中,物質(zhì)的含量A%和C%隨溫度的變化曲線如圖所示,下列說法正確的是

A.該反應在T1、T3溫度時達到過化學平衡

B.該反應在T2溫度時達到過化學平衡

C.該反應的逆反應是放熱反應

D.升高溫度,平衡會向正反應方向移動

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

高溫下用炭還原二氧化硅制得粗硅;

粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2

SiHCl3與過量H2在1000~1100 反應制得純硅。

已知:SiHCl3能與H2O強烈反應,在空氣中易自燃。

請回答下列問題:

(1)第步制備粗硅的化學方程式為_____________________。

(2)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

裝置B中的試劑是________。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_________________。

反應一段時間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是________________,裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為__________________________。

為保證制備純硅實驗的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及__________________________。

SiHCl3的電子式為________,SiHCl3與H2O反應的化學方程式為:_________________。

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