2．寫出下面反應的化學方程式
（1）過氧化鈉與水的反應2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑
（2）氯氣與水的反應Cl2+H2O?HCl+HClO  
（3）鈉在空氣中燃燒2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2．

分析 （1）過氧化鈉與水反應生成NaOH和氧氣；
（2）氯氣與水反應生成HCl、HClO；
（3）鈉在空氣中燃燒生成過氧化鈉．

解答 解：（1）過氧化鈉與水反應生成NaOH和氧氣，該反應為2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑，故答案為：2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑；
（2）氯氣與水反應生成HCl、HClO，化學反應方程式為Cl2+H2O?HCl+HClO，故答案為：Cl2+H2O?HCl+HClO；                                           
（3）鈉在空氣中燃燒生成過氧化鈉，反應的方程式為2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2，故答案為：2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2．

點評 本題考查化學方程式的書寫，注意把握書寫方法和注意事項，題目較簡單．

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A．SO2、SO3、CO2均為酸性氧化物
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C．燒堿、冰醋酸、四氯化碳、氨氣均為電解質(zhì)
D．氨水、漂白粉、氫氟酸、小蘇打均為純凈物

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14．圖為化學實驗中常用的噴泉實驗裝置．在燒瓶中充滿干燥氣體，膠頭滴管及燒杯中分別盛有液體．下列組合中不可能形成噴泉的是（　�。�
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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

11．硅是帶來人類文明的重要元素之一，從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中創(chuàng)造了一個有一個奇跡．
（1）新型陶瓷Si3N4的熔點高、硬度大、化學性質(zhì)穩(wěn)定．工業(yè)上可以采用化學氣相沉積法，在H2的保護下，使SiCl4與N2反應生成Si3N4沉積在石墨表面，寫出該反應的化學方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
（2）一種工業(yè)用硅（含少量鉀、鈉、鐵、銅的氧化物），已知硅的熔點是1420℃，高溫下氧氣及水蒸氣能明顯腐蝕氮化硅．一種合成氮化硅的工藝主要流程如下：

①凈化N2和H2時，銅屑的作用是除去原料氣中的氧氣；硅膠的作用是除去生成的水蒸氣．
②在氮化爐中3SiO2（s）+2N2（g）=Si3N4（s）△H=-727.5kJ/mol，開始時為什么要嚴格控制氮氣的流速以控制溫度該反應為放熱反應，防止局部過熱，導致硅熔化熔合成團，阻礙與N2的接觸；體系中要通入適量的氫氣是為了將體系中的氧氣轉(zhuǎn)化為水蒸氣，而易被除去（或?qū)⒄麄�體系中空氣排盡）．
③X可能是硝酸（選填：“鹽酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氫氟酸”）．
（3）工業(yè)上可以通過如圖所示的流程制取純硅：

①整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應，寫出該反應的化學方程式3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl．
②假設每一輪次制備1mol純硅，且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失，反應Ⅰ中HCl的利用率為90%，反應Ⅱ中H2的利用率為93.75%．則在第二輪次的生產(chǎn)中，補充投入HCl 和H2的物質(zhì)的量之比是5：1．

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12．某化學課外活動小組對污染大氣的部分非金屬氧化物進行探究．根據(jù)題目要求回答下列問題．
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