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在金屬晶體中最常見的三種堆積方式有:

(1)配位數(shù)為8的是____________堆積。

(2)配位數(shù)為________的是面心立方堆積。

(3)配位數(shù)為________的是________堆積。其中以ABAB方式堆積的____________和以ABCABC方式堆積的________________空間利用率相等,就堆積層來看,二者的區(qū)別是在第________層。

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下列說法中,不正確的是(  )

A.離子晶體中不一定含有金屬離子

B.在含有陽離子的化合物的晶體中,一定含有陰離子

C.含有金屬元素的離子不一定是陽離子

D.金屬晶體中原子的堆積方式都是A3或A1型最密堆積

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金屬晶體堆積密度大,原子配位數(shù)高,能充分利用空間的原因是(  )

A.金屬原子的價(jià)電子數(shù)少

B.金屬晶體中有自由電子

C.金屬原子的原子半徑大

D.金屬鍵沒有飽和性和方向性

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金屬晶體的形成是因?yàn)榫w中存在(  )

①金屬原子、诮饘匐x子、圩杂呻娮印、荜庪x子

A.只有①       B.只有③       C.②③       D.②④

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通常人們把拆開1mol某化學(xué)鍵所吸收的能量看成該化學(xué)鍵的鍵能。鍵能的大小可以衡量化學(xué)鍵的強(qiáng)弱,也可用于估算化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)熱(ΔH),化學(xué)反應(yīng)的ΔH等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差。

化學(xué)鍵

Si—O

Si-Cl

H-H

H-Cl

Si-Si

Si-C

鍵能/kJ·mol-1

460

360

436

431

176

347

請(qǐng)回答下列問題:

(1)比較下列兩組物質(zhì)的熔點(diǎn)高低(填“>”或“<”)。

SiC________Si;SiCl4________SiO2。

(2)下圖立方體中心的“●”表示硅晶體中的一個(gè)原子,請(qǐng)?jiān)诹⒎襟w的頂點(diǎn)用“●”表示出與之緊鄰的硅原子。

(3)工業(yè)上高純硅可通過下列反應(yīng)制取:

SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)

該反應(yīng)的反應(yīng)熱ΔH=________kJ·mol-1。

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據(jù)報(bào)道,科學(xué)家成功制得了CO2的原子晶體(以下用M表示)。下列關(guān)于M的推斷正確的是(  )

A.M具有很高的熔、沸點(diǎn)

B.M容易氣化,可用作致冷材料

C.M和干冰互為同素異形體

D.M是由C原子和O原子按1∶2的比例所組成的平面網(wǎng)狀的晶體

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碳化硅(SiC)具有類似金剛石的結(jié)構(gòu),其中碳原子和硅原子的位置是交替出現(xiàn)的,即每個(gè)Si原子處于四個(gè)C原子構(gòu)成的四面體的內(nèi)部,每個(gè)C原子也處于四個(gè)Si原子構(gòu)成的四面體的內(nèi)部。下列三種晶體:①金剛石、诰w硅 ③碳化硅中,它們的熔點(diǎn)由高到低的順序是(  )

A.①③②B.②③①

C.③①②D.②①③

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下表是某些原子晶體的熔點(diǎn)和硬度(  )

原子晶體

金剛石

氮化硼

碳化硅

石英

熔點(diǎn)/℃

3900

3000

2700

1710

1410

1211

硬度

10

9.5

9.5

7

6.5

6.0

分析表中的數(shù)據(jù),判斷下列敘述正確的是(  )

①構(gòu)成原子晶體的原子種類越多,晶體的熔點(diǎn)越高

②構(gòu)成原子晶體的原子間的共價(jià)鍵鍵能越大,晶體的熔點(diǎn)越高

③構(gòu)成原子晶體的原子的半徑越大,晶體的硬度越大

④構(gòu)成原子晶體的原子的半徑越小,晶體的硬度越大

A.①②B.③④

C.①③D.②④

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在金剛石的晶體中,含有由共價(jià)鍵形成的碳原子環(huán),其中最小的環(huán)上所需碳原子數(shù)及每個(gè)碳原子上任意兩個(gè)C—C鍵間的夾角是(  )

A.6個(gè) 120°B.5個(gè) 108°

C.4個(gè) 109.5°D.6個(gè) 109.5°

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關(guān)于SiO2晶體的敘述正確的是(NA表示阿伏加德羅常數(shù)的數(shù)值)(  )

A.通常狀況下,60gSiO2晶體中含有的分子數(shù)為NA

B.60gSiO2晶體中含有2NA個(gè)Si—O鍵

C.晶體中與同一硅原子相連的4個(gè)氧原子處于同一四面體的4個(gè)頂點(diǎn)

D.SiO2晶體中含有1個(gè)硅原子,2個(gè)氧原子

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