A．x-m+n                  B．x+m+n                  C．m+n-x                   D．x-n+m

A．H⁺、Na⁺、Cl^-、

B．K⁺、Na⁺、、

C．Cu²⁺、Cl^-、K⁺、S^2-?

D．Ba²⁺、K⁺、、

A．二氧化硅             B．石墨              C．硅              D．鉛

A．一定是共價(jià)鍵

B．一定是離子鍵

C．可能是離子鍵，也可能是共價(jià)鍵

D．上述說(shuō)法都不對(duì)

A．藍(lán)色              B．黑色              C．白色             D．不變

A．耐高溫                                   B．具有電子特性

C．具有光學(xué)特性                          D．具有生物特性

A．二氧化硫              B．氮氧化物                C．二氧化碳              D．懸浮顆粒

    SiO₂+2CSi+2CO                SiO₂+3CSiC+2CO

現(xiàn)有17.85 g的氯化鈉和二氧化硅的混合物與適量的炭在高溫電爐中反應(yīng)產(chǎn)生8.96 L CO(標(biāo)準(zhǔn)狀況)，則：

(1)原混合物中二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為多少？

(2)完全參加反應(yīng)的炭的質(zhì)量的可能范圍怎樣？

①高溫下用炭還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃:Si+3HClSiHCl₃+H₂

③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅。已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請(qǐng)完成下列問(wèn)題：

(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)____________________。

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃(沸點(diǎn)330℃)中含有少量SiCl₄(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl₃采用的方法為_(kāi)________________。

(3)用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)：

①裝置B中的試劑是______，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是____________。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是___________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是___________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)___________。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及______________。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號(hào))是________。

A．碘水      b．氯水      c．NaOH溶液      d．KSCN溶液     e.Na₂SO₃溶液

試寫出化合物A、B、C的電子式及單質(zhì)甲的分子式：A________；B________；C________；甲________。

并寫出反應(yīng)(3)和(5)的化學(xué)方程式：

(3)________________，

(5)________________。