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下列溶液中各微粒的濃度關(guān)系正確的是
A.等pH值的氨水、KOH溶液、Ba(OH)2溶液中: c(NH4+)=c(K+)=2c(Ba2+)
B.0.1 mol/L 的CH3COONa溶液中:c(CH3COO-) > c(Na+) >c(OH-) >c(H+)
C.常溫時向NH4HSO4溶液中滴加NaOH溶液至pH=7:c(NH4+)+c(Na+)= c(SO42-)
D.將10 mL 0.1 mol/L Na2CO3溶液逐滴滴加到10 mL 0.1 mol/L鹽酸中:
c(Na+)>c(Cl-)>c(HCO3-)>c(CO32-)
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某化學(xué)興趣小組在實驗室進(jìn)行化學(xué)實驗,按照圖甲、乙、丙連接好線路,發(fā)現(xiàn)甲燈泡不亮,乙燈泡亮,丙燈泡不亮。由此得出的結(jié)論正確的是 ( )
A.醋酸是非電解質(zhì)
B.NaCl溶液是電解質(zhì)
C.NaCl是弱電解質(zhì)
D.NaCl在水溶液中電離出了可以自由移動的離子
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在容積相同的兩密閉容器A和B中,保持溫度為423K,同時向A和B中分別加入a mol和b mol HI氣體(a>b),待反應(yīng)2HI(g)H2(g)+I(xiàn)2(g)達(dá)到平衡,下列說法中肯定正確的是( )
A.從反應(yīng)開始到建立平衡所需時間t(A)>t(B)
B. 平衡時HI的轉(zhuǎn)化率(α)∶α(A)=α(B)
C.平衡時I2蒸氣在混合氣體中的體積分?jǐn)?shù):A容器中>B容器中
D.平衡時A容器中I2的濃度c(I2)A等于B容器中I2的濃度c(I2)B
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在H2O2溶液中加入KI和H2SO4的混合溶液,迅速發(fā)生反應(yīng),放出大量氣體,反應(yīng)過程可表示如下:①H2O2+2KI+H2SO4=I2+K2SO4+2H2O;②H2O2+I2=2HIO;③H2O2+2HIO=I2+O2↑+2H2O。下列說法正確的是
A. H2O2在上述3個反應(yīng)中均做氧化劑
B. H2O2氧化性強(qiáng)于HIO,還原性弱于I2
C. 上述過程中每生成1mol氧氣,消耗1mol雙氧水
D. 在反應(yīng)后的溶液中加入淀粉,溶液呈現(xiàn)藍(lán)色
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亞硝酸(HNO2)及其鈉鹽參加反應(yīng)時既可作氧化劑又可作還原劑。當(dāng)它們作還原劑時,生成的含氮產(chǎn)物可能是:( )
A、NO B、N2 C、NO2 D、NH3
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把某黑色固體A加熱至紅熱。投入到另一種無色濃溶液B中,產(chǎn)生由兩種氣體組成的混合氣體X,將X做如下圖所示的實驗:
請?zhí)顚懴铝锌瞻祝?/p>
①寫出A和B反應(yīng)的化學(xué)方程式 。
②無色氣體C的成分為 。
③寫出D和F反應(yīng)的離子方程式 。
④請以Na2CO3為原料,設(shè)計一個簡單的實驗證明D和F反應(yīng)生成的氣體E是無色的。簡述實驗過程
。
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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅,工業(yè)上可以按如下步驟制備純硅:
Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450 ℃~500 ℃ 反應(yīng)制得SiCl4
Ⅲ. SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1100 ℃~1200 ℃ 反應(yīng)制得純硅
已知SiCl4沸點為57.6 ℃,能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)。1 mol H2與SiCl4氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2 kJ。請回答下列問題:
① 第Ⅰ步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為 ,第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是 。
②整個制備純硅過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是 ;H2還原SiCl4過程中若混O2,可能引起的后果是 。
(2)二氧化硅大量用于生產(chǎn)玻璃。工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高溫下完全反應(yīng)時放出CO2 44 kg,生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,則其中x= 。
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下列關(guān)于碰撞的說法正確的是( )
A.活化分子之間的碰撞一定能引發(fā)化學(xué)反應(yīng),即活化分子之間的碰撞為有效碰撞
B.發(fā)生有效碰撞的分子必為活化分子
C.反應(yīng)物分子之間的碰撞一定會引發(fā)化學(xué)鍵的斷裂
D.反應(yīng)物分子之間只要有合適的取向的碰撞必為有效碰撞
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