Question

已知水稻的光效（光能利用效率）由一對基因（A、a）控制，抗病性由另一對基因（B、b）控制，兩對基因獨(dú)立遺傳�，F(xiàn)有一純合低光效抗病水稻（甲），經(jīng)輻射處理后得到水稻（乙），乙自交，F(xiàn)₁中低光效抗病水稻與高光效抗病水稻的比例接近3∶1，請回答下列問題：

（1）甲的基因型為________________________，輻射處理使控制___________性狀的基因發(fā)生了突變，突變后控制該性狀的基因型為_________________。輻射處理的目的是提高_(dá)_________________。

（2）用乙培育高光效抗病水稻新品種，應(yīng)采用的育種方法是_____________（雜交育種、單倍體育種），才能提高子代中高光效抗病水稻個(gè)體比例，其比例為______。

（3）若要使水稻的高光效基因在玉米植株中表達(dá)，從理論上講可采用的育種方法是___________________和_______________；若該高光效基因在玉米植株中成功表達(dá)，且表達(dá)水平與水稻相同，則在高溫條件下其光能利用效率應(yīng)________（高于、等于、低于）高光效水稻，原因是__________________________________。

 

Answer 1

【答案】

（1）AABB或AAbb    光效    Aa   基因突變頻率

（2）單倍體育種    1/2

（3）植物體細(xì)胞雜交    基因工程（可顛倒）    高于    玉米是C₄植物，在高溫條件下能利用低濃度CO₂

【解析】略