如圖所示,A、B為不同金屬制成的質(zhì)量相等的正方形線框,A的邊長(zhǎng)是B的2倍,A的電阻是B的4倍,當(dāng)它們的下邊在同一高度豎直下落,垂直進(jìn)入如圖所示的磁場(chǎng)中,A框恰能勻速下落,那么(  )
分析:線框在進(jìn)入磁場(chǎng)前做自由落體運(yùn)動(dòng),由自由落體運(yùn)動(dòng)規(guī)律可以求出線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)速度的表達(dá)式;
線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí),對(duì)線框受力分析,根據(jù)線框的受力情況判斷線框的運(yùn)動(dòng)狀態(tài);
由E=BLv求出感應(yīng)電動(dòng)勢(shì),由歐姆定律求出感應(yīng)電流;由電流的變形公式求出感應(yīng)電荷量;
由電功公式求出線框進(jìn)入磁場(chǎng)過程中消耗的電能.
解答:解:A、設(shè)線框到磁場(chǎng)的高度是h,線框浸入磁場(chǎng)前做自由落體運(yùn)動(dòng),由自由落體運(yùn)動(dòng)的速度位移公式可得:v2=2gh,解得,線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)的速度:v=
2gh
,兩線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)的速度相等,線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)受到的安培力F=BIL=B
BLv
R
L=
B2L2v
R
,A的邊長(zhǎng)是B的二倍,A的電阻是B的4倍,兩線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)的速度v相等,則A、B兩線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)受到的安培力相等,A進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)做勻速直線運(yùn)動(dòng),則有
B2L2v
R
=mg,由于A、B的質(zhì)量相等,則B進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)受到的安培力也等于它的重力,B進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)也做勻速直線運(yùn)動(dòng),故A正確;
B、線框進(jìn)入磁場(chǎng)時(shí)的速度v=
2gh
,切割磁感線產(chǎn)生的感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)E=BLv=BL
2gh
,感應(yīng)電流I=
E
R
=
BL
2gh
R
,A、B兩線框產(chǎn)生的感應(yīng)電流之比:
IA
IB
=
BLA
2gh
RA
BLB
2gh
RB
=
LARB
LBRA
=
2LBRB
LB?4RB
=
1
2
,故B錯(cuò)誤;
C、通過截面的電荷量q=It=
BLv
R
×
L
v
=
BL2
R
,A的邊長(zhǎng)是B的2倍,A的電阻是B的4倍,則二線框全部進(jìn)入磁場(chǎng)的過程中,通過截面的電量相等,故C正確;
D、線框進(jìn)入磁場(chǎng)過程中,消耗的電能W=I2Rt=(
BLv
R
)2
×R×
L
v
=
B2L3v
R
,A的邊長(zhǎng)是B的2倍,A的電阻是B的4倍,兩線框的速度v相等,則二線框全部進(jìn)入磁場(chǎng)的過程中,消耗的電能之比為2:1,故D錯(cuò)誤;
故選:AC.
點(diǎn)評(píng):本題涉及的知識(shí)點(diǎn)較多,考查了:自由落體運(yùn)動(dòng)規(guī)律、導(dǎo)體棒切割磁感線產(chǎn)生感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)、歐姆定律、電流定義式、安培力公式、電功公式、電阻定律、密度公式的變形公式等問題,是一道綜合題,熟練掌握并靈活應(yīng)用基礎(chǔ)知識(shí),是正確解題的前提與關(guān)鍵.
練習(xí)冊(cè)系列答案
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科目:高中物理 來(lái)源: 題型:

如圖所示,A、B為不帶電平行金屬板,(A板接地,圖中未畫出)間距為d=0.4m,構(gòu)成的電容器電容為C=0.01F.質(zhì)量為m=0.2kg、電量為q=0.1C的帶電液滴一滴一滴由A板小孔上方距A板高h(yuǎn)=0.6m處以v0=1m/s初速射向B板.液滴到達(dá)B板后,把電荷全部轉(zhuǎn)移在B板上.求到達(dá)B板上的液滴數(shù)目最多不能超過多少?不考慮液滴間相互作用.

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科目:高中物理 來(lái)源: 題型:

如圖所示,A、B為不帶電平行金屬板,間距為d,構(gòu)成的電容器電容為C.質(zhì)量為m、電量為q的帶電液滴一滴一滴由A板小孔上方距A板高h(yuǎn)處以v0初速射向B板.液滴到達(dá)B板后,把電荷全部轉(zhuǎn)移在B板上.求到達(dá)B板上的液滴數(shù)目最多不能超過多少?

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科目:高中物理 來(lái)源:物理教研室 題型:038

如圖所示,A、B為不帶電平行金屬板,間距為d,構(gòu)成的電容器電容為C.質(zhì)量為M、電量為q的帶電液滴一滴一滴由A板上小孔以v0初速射向B板.液滴到達(dá)B板后,把電荷全部轉(zhuǎn)移在B板上.求到達(dá)B板上的液滴數(shù)目最多不能超過多少?

 

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科目:高中物理 來(lái)源:不詳 題型:問答題

如圖所示,A、B為不帶電平行金屬板,間距為d,構(gòu)成的電容器電容為C.質(zhì)量為m、電量為q的帶電液滴一滴一滴由A板小孔上方距A板高h(yuǎn)處以v0初速射向B板.液滴到達(dá)B板后,把電荷全部轉(zhuǎn)移在B板上.求到達(dá)B板上的液滴數(shù)目最多不能超過多少?
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如圖所示,A、B為不帶電平行金屬板,間距為d,構(gòu)成的電容器電容為C.質(zhì)量為m、電量為q的帶電液滴一滴一滴由A板小孔上方距A板高h(yuǎn)處以v初速射向B板.液滴到達(dá)B板后,把電荷全部轉(zhuǎn)移在B板上.求到達(dá)B板上的液滴數(shù)目最多不能超過多少?

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