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【題目】某人站在離地25 m的平臺邊緣,以20 m/s的初速度豎直向上拋出一石塊,不考慮空氣阻力,g=10 m/s2,試計(jì)算:
(1)石塊能到達(dá)的最大高度;
(2)石塊拋出1 s內(nèi)的位移;
(3)石塊從拋出到落到地面所用的時(shí)間.
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【題目】2013年12月2日1時(shí)30分,我國成功發(fā)射了“嫦娥二號”探月衛(wèi)星,12月6日17時(shí)47分順利進(jìn)入環(huán)月軌道。若該衛(wèi)星在地球、月球表面的重力分別為G1、G2,已知地球半徑為R1,月球半徑為R2,地球表面處的重力加速度為g,則
A. 月球表面處的重力加速度為
B. 月球與地球的質(zhì)量之比為
C. 衛(wèi)星沿近月球表面軌道上做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的周期為
D. 月球與地球的第一宇宙速度之比為
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【題目】如圖所示為用某種透明材料制成的一塊柱形棱鏡的截面圖,圓弧CD是半徑為R的四分之一的圓周,圓心為O,光線從AB面上的某點(diǎn)入射,入射角θ=45°,它進(jìn)入棱鏡后恰好以臨界角射在BC面上的O點(diǎn).
(1)畫出光線由AB面進(jìn)入棱鏡且從CD弧面射出的光路圖;
(2)求該棱鏡的折射率n;
(3)求光線在該棱鏡中傳播的速度大小(已知光在空氣中的傳播速度c=3.0×108 m/s).
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【題目】—個(gè)質(zhì)量為0.6kg的物體,在兩個(gè)力共同作用下產(chǎn)生了5m/s2的加速度,這兩個(gè)力的大小可能是下列哪組值( )
A. 3N和4NB. 3N和8NC. 5N 和10ND. 5N和12N
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【題目】如圖所示,傾角為a的光滑斜面下端固定一絕緣輕彈簧,M點(diǎn)固定一個(gè)質(zhì)量為m、帶電量為-q的小球Q,整個(gè)裝置處在電場強(qiáng)度大小為E、方向沿斜面向下的勻強(qiáng)電場中。現(xiàn)把一個(gè)帶電量為+q的小球P從N點(diǎn)由靜止釋放,釋放后P沿著斜面向下運(yùn)動(dòng),N點(diǎn)與彈簧的上端和M的距離均為so,P、Q以及彈簧的軸線ab與斜面平行,兩小球均可視為質(zhì)點(diǎn)和點(diǎn)電荷,彈簧的勁度系數(shù)為k0,靜電力常量為k。則
A.小球P返回時(shí),可能撞到小球Q
B.小球P在N點(diǎn)的加速度大小為
C.小球P沿著斜面向下運(yùn)動(dòng)過程中,其電勢能可能增大
D.當(dāng)彈簧的壓縮量為時(shí),小球P的速度最大
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【題目】下列關(guān)于加速度和速度的認(rèn)識正確的是( )
A. 物體的加速度沿正方向,物體速度一定變大
B. 物體的加速度越大,速度也就越大
C. 物體的速度為零,加速度一定為零
D. 物體的速度在減小,但加速度可能在變大
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【題目】如圖甲所示為光學(xué)實(shí)驗(yàn)用的長方體玻璃磚,它的__________(填“磨砂面”或“光學(xué)面”)不能用手直接接觸。在用插針法測定玻璃磚折射率的實(shí)驗(yàn)中,兩位同學(xué)繪出的玻璃磚和三個(gè)針孔a、b、c的位置相同,且插在c位置的針正好擋住插在a、b位置的針的像,但最后一個(gè)針孔的位置不同,分別為d、e兩點(diǎn),如圖乙所示。計(jì)算折射率時(shí),用________(填“d”或“e”)點(diǎn)得到的值較小,用________(填“d”或“e”)點(diǎn)得到的值誤差較小。
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【題目】關(guān)于下列光學(xué)現(xiàn)象,說法正確的是( )
A. 水中藍(lán)光的傳播速度比紅光快
B. 光從空氣射入玻璃時(shí)不可能發(fā)生全反射
C. 在岸邊觀察前方水中的一條魚,魚的實(shí)際深度比看到的要深
D. 分別用藍(lán)光和紅光在同一裝置上做雙縫干涉實(shí)驗(yàn),用紅光時(shí)得到的條紋間距更寬
E. 偏振現(xiàn)象說明光是縱波
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【題目】如圖甲所示,質(zhì)量為m=1 kg的物體置于傾角為θ=37°的固定且足夠長的斜面上,對物體施以平行于斜面向上的拉力F,t1=1 s時(shí)撤去拉力,物體運(yùn)動(dòng)的部分v-t圖象如圖乙所示.試求:
(1)拉力 F的大小.
(2)t=4 s時(shí)物體的速度v的大。
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【題目】如圖,一束光沿半徑方向射向一塊半圓形玻 璃磚,在玻璃磚底面上的入射角為θ,經(jīng)折射后射出a、b兩束光線,則
A. 在玻璃中,a光的傳播速度小于b光的傳播速度
B. 在真空中,a光的波長小于b光的波長
C. 玻璃磚對a光的折射率小于對b光的折射率
D. 若改變光束的入射方向使θ角逐漸變大,則折射光線a首先消失
E. 分別用a、b光在同一個(gè)雙縫干涉實(shí)驗(yàn)裝置上做實(shí)驗(yàn),a光的干涉條紋間距大于b光的干涉條紋間距
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