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科目： 來源： 題型：單選題

在光滑的水平面上有兩個(gè)在同一直線上相向運(yùn)動(dòng)的小球，其中甲球的質(zhì)量m1=2kg，乙球的質(zhì)量m2=1kg，規(guī)定向右為正方向，碰撞前后乙球的速度隨時(shí)間變化情況如圖所示。已知兩球發(fā)生正碰后，甲球靜止不動(dòng)，碰撞時(shí)間極短，則碰前甲球速度的大小和方向分別為


  1. A.
    0.5m/s，向右
  2. B.
    0.5m/s，向左
  3. C.
    1.5m/s，向右
  4. D.
    1.5m/s，向左

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科目： 來源： 題型：單選題

A、B、C三物體同時(shí)、同地、同向出發(fā)做直線運(yùn)動(dòng)，如圖所示是它們運(yùn)動(dòng)的位移-時(shí)間圖象，由圖象可知它們在t0時(shí)間內(nèi)


  1. A.
    A＝B＝C
  2. B.
    A＞B＞C
  3. C.
    t0時(shí)刻之前A一直在B、C的后面
  4. D.
    A的速度一直比B、C的要大

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科目： 來源： 題型：單選題

有一重2 N的石塊靜止在水平面上，一個(gè)小孩用10 N的水平力踢石塊，使石塊滑行了1 m的距離，則小孩對石塊做的功


  1. A.
    等于12 J
  2. B.
    等于10 J
  3. C.
    等于2 J
  4. D.
    因條件不足，無法確定

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科目： 來源： 題型：多選題

右圖所示是用干涉法檢查某塊厚玻璃的上表面是否平整的 裝置，檢查中所觀察到的干涉條紋如圖乙所示，則


  1. A.
    產(chǎn)生干涉的兩列光波分別是由a的上表面和b的 下表面反射的
  2. B.
    產(chǎn)生干涉的兩列光波分別是由a的下表面和b的上表面反射的
  3. C.
    被檢查的玻璃表面有凸起[來源:Zxxk.Com]
  4. D.
    被檢查的玻璃表面有凹陷

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科目： 來源： 題型：單選題

如圖所示是用雙縫干涉測光波波長的實(shí)驗(yàn)設(shè)備示意圖，圖中①是光源、②是濾光片、③是單縫、④是雙縫、⑤是光屏．下列操作能增大光屏上相鄰兩條亮紋之間距離的是（僅有一個(gè)正確選項(xiàng)）


  1. A.
    增大①和②之間的距離
  2. B.
    減�、芎廷葜g的距離
  3. C.
    將紅色濾光片改成藍(lán)色濾光片
  4. D.
    減小雙縫之間的距離

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科目： 來源： 題型：多選題


圖所示是一個(gè)物體的運(yùn)動(dòng)軌跡。下面關(guān)于該物體的說法中正確的是


  1. A.
    物體受到的合外力沿+x方向，大小恒定
  2. B.
    在任何相等的時(shí)間內(nèi)合外力做的功都相等
  3. C.
    任何兩段相鄰的相等時(shí)間間隔內(nèi)的速度的增量都相等
  4. D.
    任何兩段相鄰的相等時(shí)間間隔內(nèi)的動(dòng)能的增量都相等

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科目： 來源： 題型：單選題

用示波器觀察其交流信號(hào)時(shí)，在顯示屏上顯示出一個(gè)完整的波形，如圖所示．經(jīng)下列四組操作之一，使該信號(hào)顯示出兩個(gè)完整的波形，且波形幅度增大．此組操作是


  1. A.
    調(diào)整X增益旋鈕和豎直位移旋鈕
  2. B.
    調(diào)整X增益旋鈕和掃描微調(diào)旋鈕
  3. C.
    調(diào)整掃描微調(diào)旋鈕和Y增益旋鈕
  4. D.
    調(diào)整水平位移旋鈕和Y增益旋鈕

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科目： 來源： 題型：單選題

如圖所示，兩個(gè)互相垂直的力F1和F2作用在同一物體上，使物體運(yùn)動(dòng)，物體發(fā)生一段位移后，力F1對物體做功為4J，力F2對物體做功為3J，則力F1與F2的合力對物體做功為


  1. A.
    7J
  2. B.
    5J
  3. C.
    3.5J
  4. D.
    1J

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科目： 來源： 題型：單選題

一列波長大于3.6m的簡諧橫波沿直線方向由a向b傳播，a、b相距6m， a 、b兩質(zhì)點(diǎn)的振動(dòng)圖象如圖所示。由此可知


  1. A.
    3 s末a、b兩質(zhì)點(diǎn)的位移相同
  2. B.
    該波的波速為2 m/s
  3. C.
    該波的波長為4m
  4. D.
    該波由a傳播到b歷時(shí)1.5s

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科目： 來源： 題型：多選題

如圖8-3-4所示，A、B兩點(diǎn)表示一定質(zhì)量的理想氣體的兩個(gè)狀態(tài)，當(dāng)氣體自狀態(tài)A變化到狀態(tài)B時(shí)


  1. A.
    體積一直變大
  2. B.
    有可能經(jīng)過體積減小的過程
  3. C.
    外界必然對氣體做正功
  4. D.
    氣體必然對外界做正功

    圖8-3-4

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