在無土栽培中，配制一定量含2.675KgNH₄Cl、1.192KgKCl和4.176KgK₂SO₄的營養(yǎng)液．若用KCl、NH₄Cl和（NH₄）₂SO₄三種固體為原料來配制，三者的質(zhì)量依次是Kg，Kg，Kg．

在上海世博園江蘇館的“春華秋實”展區(qū)，用東海水晶雕出的作品《寄暢園之冬》吸引了眾多參觀者的眼球．東�？h是國家火炬計劃硅材料產(chǎn)業(yè)化基地，產(chǎn)品有晶瑩剔透的水晶制品，更有用途廣泛的石英砂、石英玻璃、硅微粉等硅的系列產(chǎn)品．其中石英砂（主要成分為SiO₂）是制取高純硅的主要原料，高純硅又是制造計算機芯片的主要原料．資料卡：制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法．
①SiO₂+2C

3000℃  .

Si（粗）+2CO↑
②Si（粗）+3HCl

300℃以上  .

SiHCl₃+H₂
③SiHCl₃+H₂

高溫  .

Si（純）+3HCl   
其生產(chǎn)過程示意如圖所示：

請你自學上述資料后，回答下列問題：
（1）由石英砂制得高純硅的反應原理中，屬于置換反應的是（填數(shù)字代號）．
（2）粗硅提純必須在無氧的氛圍中進行，除了考慮到硅易被氧化成二氧化硅外，還有一個原因是．
（3）生產(chǎn)過程示意圖中的“物質(zhì)A”用水吸收，可得副產(chǎn)品（一種常見的酸）的名稱是．
（4）作為電器、電子、光纖等行業(yè)原料的石英砂純度要求高，需要對普通石英砂（含有少量的Fe₂O₃等雜質(zhì)）進行提純，其中酸洗（用鹽酸）和高純水洗是兩個重要的步驟．請寫出酸洗步驟的一個反應的化學方程式：；判斷高純水洗是否洗凈的方法是取少量最后的洗滌液于試管中，向其中滴加AgNO₃溶液，若，則表明殘留物已洗凈；否則，表明殘留物未洗凈．
（5）在上述工藝流程中，除了HCl可參與循環(huán)使用，還有參與了循環(huán)使用．

目前，計算機已進入千家萬戶．制造計算機的芯片需要大量的高純硅，生產(chǎn)高純硅的主要原料是沙子（主要成分為SiO₂）．二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液．
工業(yè)上生產(chǎn)高純硅的主要過程示意圖如下：
其主要反應原理為：
①SiO₂+2C

3000℃  .

Si（粗）+2CO      ②Si（粗）+2Cl₂

400～500℃  .

SiCl₄
③SiCl₄+2H₂ 

高溫  .

Si（純）+4HCl
請你根據(jù)上述材料，回答下列問題：
（1）由沙子制得高純硅的反應原理中，屬于化合反應的是填數(shù)字代號，下同），屬于置換反應的是．
（2）由粗硅提純得到高純硅必須在無氧的氛圍中進行，除了考慮到硅易被氧化成二氧化硅外，還有一個原因是．
（3）生產(chǎn)過程示意圖中的“物質(zhì)A”用水吸收，可得副產(chǎn)品（一種常見的酸）的名稱是．
（4）作為電器、電子、光纖等行業(yè)用高純硅原料的沙子，純度要求高，需要對普通沙子（含有少量的CaCO₃、Fe₂O₃）進行提純，其中用酸洗（用鹽酸）和高純水洗是兩個最重要的步驟．請寫出酸洗步驟中的兩個反應的化學方程式分別是、；判斷用高純水洗是否洗凈的方法是：取少量最后的洗滌液于試管中，向其中滴加AgNO₃溶液和稀硝酸，若無現(xiàn)象，則表明殘留物已洗凈；否則，表明殘留物未洗凈．

7、下列不屬于通常燃燒必須具備的條件是（　　）