題目列表(包括答案和解析)
下列說(shuō)法正確的是
A. 赤潮、酸雨、臭氧層空洞、潮汐等都與環(huán)境污染有關(guān)
B.SiCl4的熔點(diǎn)比SiF4的熔點(diǎn)高,是由于它們的晶體類(lèi)型不同
C.光導(dǎo)纖維是用晶體硅為主要原料制成的
D.HF的沸點(diǎn)比HCl沸點(diǎn)高,是由于HF分子之間存在氫鍵
下列說(shuō)法正確的是
A. 赤潮、酸雨、臭氧層空洞、潮汐等都與環(huán)境污染有關(guān)
B.SiCl4的熔點(diǎn)比SiF4的熔點(diǎn)高,是由于它們的晶體類(lèi)型不同
C.光導(dǎo)纖維是用晶體硅為主要原料制成的
D.HF的沸點(diǎn)比HCl沸點(diǎn)高,是由于HF分子之間存在氫鍵
下列說(shuō)法正確的是
A.赤潮、酸雨、臭氧層空洞、潮汐等都與環(huán)境污染有關(guān)
B.SiCl4的熔點(diǎn)比SiF4的熔點(diǎn)高,是由于它們的晶體類(lèi)型不同
C.光導(dǎo)纖維是用晶體硅為主要原料制成的
D.HF的沸點(diǎn)比HCl沸點(diǎn)高,是由于HF分子之間存在氫鍵
下列說(shuō)法正確的是
A.赤潮、酸雨、臭氧層空洞、潮汐等都與環(huán)境污染有關(guān) |
B.SiCl4的熔點(diǎn)比SiF4的熔點(diǎn)高,是由于它們的晶體類(lèi)型不同 |
C.光導(dǎo)纖維是用晶體硅為主要原料制成的 |
D.HF的沸點(diǎn)比HCl沸點(diǎn)高,是由于HF分子之間存在氫鍵 |
A.赤潮、酸雨、臭氧層空洞、潮汐等都與環(huán)境污染有關(guān) |
B.SiCl4的熔點(diǎn)比SiF4的熔點(diǎn)高,是由于它們的晶體類(lèi)型不同 |
C.光導(dǎo)纖維是用晶體硅為主要原料制成的 |
D.HF的沸點(diǎn)比HCl沸點(diǎn)高,是由于HF分子之間存在氫鍵 |
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