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題目列表(包括答案和解析)

(5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：
SiHCl3（g）+ H2（g） Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。
用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

(1)裝置B中的試劑是             
(2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是        。
(3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及              。
(4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是           。（填寫字母代號(hào)） 
a．碘水     b.氯水     c. NaOH溶液    d. KSCN溶液    e. Na2SO3溶液

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(5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3 ：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g）

③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：

SiHCl3（g） + H2（g） Si（s）+ 3HCl（g）

已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。

用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

 (1)裝置B中的試劑是             

(2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是           ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是         。

(3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及               。

(4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是            。（填寫字母代號(hào)） 

a．碘水     b.氯水     c. NaOH溶液    d. KSCN溶液    e. Na2SO3溶液

 

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(5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：
SiHCl3（g）+ H2（g） Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。
用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

(1)裝置B中的試劑是             
(2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是        。
(3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及              。
(4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是           。（填寫字母代號(hào)） 
a．碘水     b.氯水     c. NaOH溶液    d. KSCN溶液    e. Na2SO3溶液

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五種短周期元素的部分性質(zhì)數(shù)據(jù)如下：
元素 T X Y Z W
原子半徑（nm） 0.037 0.075 0.099 0.102 0.143
最高或最低化合價(jià) +1 +5
-3		 +7
-1		 +6
-2		 +3
（1）Z離子的結(jié)構(gòu)示意圖為
．
（2）關(guān)于Y、Z兩種元素，下列敘述正確的是
b
b
（填序號(hào)）．
a．簡(jiǎn)單離子的半徑 Y＞Z     b．氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性Y比 Z強(qiáng)
c．最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性Z比Y強(qiáng)
（3）甲是由T、X兩種元素形成的10e-分子，乙是由Y、W兩種元素形成的化合物．
某同學(xué)設(shè)計(jì)了右圖所示裝置（夾持儀器省略）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，將甲的濃溶液逐滴加入到NaOH固體中，燒瓶中即有甲放出，原因是
NH3+H2ONH3?H2ONH4++OH-，NaOH溶于水電離出OH-，使平衡向左移動(dòng)，且溶解時(shí)放出熱量，使NH3的溶解度減小
NH3+H2ONH3?H2ONH4++OH-，NaOH溶于水電離出OH-，使平衡向左移動(dòng)，且溶解時(shí)放出熱量，使NH3的溶解度減小
．一段時(shí)間后，發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是
Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+
Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+
．
（4）XO2是導(dǎo)致光化學(xué)煙霧的“罪魁禍?zhǔn)住敝唬粴溲趸c溶液吸收的化學(xué)方程式是：2XO2+2NaOH=M+NaXO3+H2O（已配平），產(chǎn)物M中元素X的化合價(jià)為
+3
+3
．

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①25℃，難溶電解質(zhì)的溶度積常數(shù)：Ksp[CaF2]＝1.5×10-10，Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11，Ksp [Cu(OH)2]=2.2×10-20

②弱電解質(zhì)在水溶液中存在電離常數(shù)：例如一元弱酸HAH++A-，其電離常數(shù)表達(dá)式 Ka= c（H+）·c (A-)/ c (HA)（各濃度為平衡時(shí)濃度）。該常數(shù)與濃度、壓強(qiáng)無關(guān)，只是溫度的函數(shù)。25℃，醋酸的Ka=1.76×10-5

③25℃時(shí)，2.0×10-3mol·L-1氫氟酸水溶液中，調(diào)節(jié)溶液pH（忽略體積變化），得到

c（HF）、c（F-）與溶液pH的變化關(guān)系，如下圖所示：

 

請(qǐng)根據(jù)以上信息回答下列問題：                      

（1）25℃時(shí)，向濃度均為0.1 mol·L-1的MgCl2和CuCl2混合溶液中逐滴加入氨水，先生成__________沉淀（填化學(xué)式），生成該沉淀的離子方程式為       。

（2）25℃時(shí)，HF電離常數(shù)的數(shù)值Ka            ，列式并說明得出該常數(shù)的理由                                                       。

（3）25℃時(shí)，向濃度均為0.1 mol·L-1的相同體積的HF和醋酸兩種溶液中分別加入相同的足量鋅粒，初始時(shí)產(chǎn)生氫氣的速率關(guān)系為         （填“＞”“＝”或“＜”，下同）。反應(yīng)結(jié)束后，產(chǎn)生氫氣的物質(zhì)的量的關(guān)系為     ，兩溶液中c (F-)      c (CH3COO-)。

（4）25℃時(shí)，4.0×10-3mol·L-1HF溶液與4.0×10-4 mol·L-1 CaCl2溶液等體積混合，調(diào)節(jié)混合液pH為4.0（忽略調(diào)節(jié)混合液體積的變化），通過列式計(jì)算說明是否有沉淀產(chǎn)生。

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