下列物質(zhì)中肯定為純凈物的是

（2009?泰州模擬）高純超凈特種氣體主要用于制造半導(dǎo)體器件、化合物半導(dǎo)體、激光器、光導(dǎo)纖維、太陽(yáng)能電池等．超純硅化氫制備方法如下：（已知：常溫下SiH₄難溶于水，與稀硫酸不反應(yīng)，乙醚沸點(diǎn)34.6℃）
①由下列兩種方法制得SiH₄
方法一：Mg₂Si+4NH₄Cl

液氨

SiH₄+2MgCl₂+4NH₃
方法二：LiAlH₄+SiCl₄

C2H5OC2H5

SiH₄+AlCl₃+LiCl
②除去SiH₄中混有的雜質(zhì)氣體
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）對(duì)方法一的理解，有同學(xué)認(rèn)為是NH₄⁺水解產(chǎn)生H⁺，Mg₂Si與H⁺反應(yīng)生成SiH₄，你認(rèn)為該觀點(diǎn)是否正確？并簡(jiǎn)述理由．
（2）將方法二的固體產(chǎn)物溶于水，只有一種物質(zhì)能促進(jìn)水的電離，則NaOH、Mg（OH）₂、LiOH堿性由強(qiáng)到弱的順序?yàn)?!--BA-->．
（3）兩種方法制得的SiH₄中均含有少量雜質(zhì)，有同學(xué)提出用下列方法除去SiH₄中的雜質(zhì)，其中肯定不可行是．
a．用稀硫酸洗氣     b．高溫使雜質(zhì)分解      c．低溫分餾
（4）甲、乙、丙三同學(xué)在討論SiH₄制備方法的化學(xué)反應(yīng)類型時(shí)發(fā)表如下觀點(diǎn)，你認(rèn)為正確的是．
a．甲同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)均為氧化還原反應(yīng)
b．乙同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)中只有一個(gè)屬于氧化還原反應(yīng)
c．丙同學(xué)認(rèn)為要判斷是否屬于氧化還原反應(yīng)，還需要知道SiH₄中各元素具體的化合價(jià)．