相對(duì)分子質(zhì)量為204．0）測(cè)定NaOH溶液的濃度，若NaOH溶液的濃度在0．1mol•L^－1左右，滴定終點(diǎn)時(shí)溶液的pH約為9．1。該生用托盤天平稱量鄰苯二甲酸氫鉀時(shí)，在左盤放有一個(gè)1g砝碼，游碼位置如圖所示：

（1）將稱好的鄰苯二甲酸氫鉀放于錐形瓶中，加適量水溶解，溶液無(wú)色，再加入指示劑________（從甲基橙、酚酞、石蕊中選擇）1～2滴，用NaOH溶液滴定至終點(diǎn)，現(xiàn)象是________。

（2）該生進(jìn)行三次實(shí)驗(yàn)，所取固體質(zhì)量均相同，填寫下表：

實(shí)驗(yàn)編號(hào)    鄰苯二甲酸氫鉀質(zhì)

量／g   待測(cè)NaOH溶液體

積／mL

1　　　　　　　　　　  18.20

2　　　　　　　　　　  17.10

3　　　　　　　　　　  16.90

（3）滴定中誤差較大的是第________次實(shí)驗(yàn)，造成這種誤差的可能原因是（只填三種即可）：a________b________c________

（4）NaOH溶液的物質(zhì)的量濃度為（只列出計(jì)算式，不必求出結(jié)果）。

某學(xué)生用鄰苯二甲酸氫鉀（

相對(duì)分子質(zhì)量為204．0）測(cè)定NaOH溶液的濃度，若NaOH溶液的濃度在0．1mol•L^－1左右，滴定終點(diǎn)時(shí)溶液的pH約為9．1。該生用托盤天平稱量鄰苯二甲酸氫鉀時(shí)，在左盤放有一個(gè)1g砝碼，游碼位置如圖所示：

（1）將稱好的鄰苯二甲酸氫鉀放于錐形瓶中，加適量水溶解，溶液無(wú)色，再加入指示劑________（從甲基橙、酚酞、石蕊中選擇）1～2滴，用NaOH溶液滴定至終點(diǎn)，現(xiàn)象是________。

（2）該生進(jìn)行三次實(shí)驗(yàn)，所取固體質(zhì)量均相同，填寫下表：

實(shí)驗(yàn)編號(hào)    鄰苯二甲酸氫鉀質(zhì)

量／g   待測(cè)NaOH溶液體

積／mL

1　　　　　　　　　　  18.20

2　　　　　　　　　　  17.10

3　　　　　　　　　　  16.90

（3）滴定中誤差較大的是第________次實(shí)驗(yàn)，造成這種誤差的可能原因是（只填三種即可）：a________b________c________

（4）NaOH溶液的物質(zhì)的量濃度為（只列出計(jì)算式，不必求出結(jié)果）。

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al₂O₃) 和氮化硅（Si₃N₄）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
（1）Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ；Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為
                                                              。
（2）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為                                                    。
（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：
3SiCl₄(g) + 2N₂(g) + 6H₂(g)Si₃N₄(s) + 12HCl(g)  △H＜0  
某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl₄(g)、0.2mol N₂(g)、0.6mol H₂(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si₃N₄(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H₂的平均反應(yīng)速率是         mol／(L·min)。
②平衡時(shí)容器內(nèi)N₂的濃度是          mol·L^-1。
③SiCl₄(g)的轉(zhuǎn)化率是        。
④若按n(SiCl₄) : n(N₂) : n(H₂) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl₄(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         （填“增大”、“減”或“不變”）。
⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：
SiCl₄(g)＋2H₂(g) Si(s)＋4HCl(g)；△H＝＋QkJ·mol^－1(Q＞0)
某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是(   )
A．反應(yīng)過(guò)程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率
B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl₄為1mol，則達(dá)到平衡時(shí)，吸收熱量為QkJ
C．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL1mol·L^－1的NaOH恰好反應(yīng)
D．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl的濃度為0.12mol·L^－1，則H₂的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al₂O₃) 和氮化硅（Si₃N₄）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

（1）Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ；Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為

                                                              。

（2）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為                                                    。

（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：

3SiCl₄(g) + 2N₂(g) + 6H₂(g)Si₃N₄(s) + 12HCl(g)  △H＜0  

某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl₄(g)、0.2mol N₂(g)、0.6mol H₂(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si₃N₄(s)的質(zhì)量是5.60g。

①H₂的平均反應(yīng)速率是         mol／(L·min)。

②平衡時(shí)容器內(nèi)N₂的濃度是          mol·L^-1。

③SiCl₄(g)的轉(zhuǎn)化率是        。

④若按n(SiCl₄) : n(N₂) : n(H₂) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl₄(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         （填“增大”、“減”或“不變”）。

⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：

SiCl₄(g)＋2H₂(g) Si(s)＋4HCl(g)；△H＝＋QkJ·mol^－1(Q＞0)

某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是(   )

A．反應(yīng)過(guò)程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率

B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl₄為1mol，則達(dá)到平衡時(shí)，吸收熱量為QkJ

C．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL1mol·L^－1的NaOH恰好反應(yīng)

D．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl的濃度為0.12mol·L^－1，則H₂的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)