（12分）不同的金屬在化學(xué)反應(yīng)中表現(xiàn)出來(lái)的活潑程度不同，俄國(guó)化學(xué)家貝開托夫在大量實(shí)驗(yàn)和系統(tǒng)研究之后，于1865年發(fā)表了金屬活動(dòng)性順序：K Ca Na Mg Al Zn Fe SnPb (H) Cu Hg Ag Pt Au 。

（1）金屬活動(dòng)性順序是學(xué)習(xí)“金屬及其化合物”的重要工具，許多“金屬及其化合物”的知識(shí)規(guī)律可以通過(guò)金屬活動(dòng)性順序來(lái)掌握。例如，工業(yè)上冶煉金屬，根據(jù)金屬活動(dòng)性順序可以采用不同的冶煉方法。其中可以用“熱分解法”冶煉的金屬是__________、        。

工業(yè)上又常用下列反應(yīng)進(jìn)行金屬鉀的冶煉：，似乎“違背”了金屬活動(dòng)性順序，試解釋鈉能將更活潑的鉀置換出來(lái)的原因__________________________。

（2）在實(shí)踐中發(fā)現(xiàn)還有許多化學(xué)事實(shí) “違背”金屬活動(dòng)性順序，但這些“反常”現(xiàn)象都可以通過(guò)化學(xué)原理得到合理解釋。某學(xué)生在做探究實(shí)驗(yàn)時(shí)，把鋅粒投入1mol·L^-1氯化鐵溶液中，觀察到如下實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象：鋅粒表面有一定量氣泡產(chǎn)生，溶液顏色逐漸變淺，一段時(shí)間后溶液逐漸渾濁，試用相關(guān)反應(yīng)方程式進(jìn)行解釋_________________________________、

__________________________________________________________________________。

（3）研究金屬活動(dòng)性順序還可以指導(dǎo)對(duì)金屬陽(yáng)離子氧化性強(qiáng)弱的認(rèn)識(shí)，工業(yè)上用氯化鐵溶液腐蝕銅制電路板。

①請(qǐng)根據(jù)金屬活動(dòng)性順序結(jié)合該反應(yīng)原理，比較Cu²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺的氧化性強(qiáng)弱        。

②請(qǐng)運(yùn)用原電池原理設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證Cu²⁺、Fe³⁺氧化性強(qiáng)弱的結(jié)論。

方案______________________________________________________________________。

不同的金屬在化學(xué)反應(yīng)中表現(xiàn)出來(lái)的活潑程度不同，早在1812年瑞典化學(xué)家貝采里烏斯根據(jù)大量實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象首先提出了金屬活動(dòng)順序的概念，后來(lái)俄國(guó)化學(xué)家貝開托夫在大量實(shí)驗(yàn)和系統(tǒng)研究之后，于1865年發(fā)表了金屬活動(dòng)性順序：K Ca Na Mg Al Zn Fe Sn Pb （H） Cu Hg Ag Pt Au．
（1）金屬活動(dòng)性順序是學(xué)習(xí)“金屬及其化合物”的重要工具，許多“金屬及其化合物”的知識(shí)規(guī)律可以通過(guò)金屬活動(dòng)性順序來(lái)掌握．例如，工業(yè)上冶煉金屬，根據(jù)金屬活動(dòng)性順序可以采用不同的冶煉方法．其中可以用“熱分解法”冶煉的金屬是______、______．
工業(yè)上又常用下列反應(yīng)進(jìn)行金屬鉀的冶煉：Na+KClK↑+NaCl，似乎“違背”了金屬活動(dòng)性順序，試解釋鈉能將更活潑的鉀置換出來(lái)的原因______．
（2）在實(shí)踐中發(fā)現(xiàn)還有許多化學(xué)事實(shí)“違背”金屬活動(dòng)性順序，但這些“反�！爆F(xiàn)象都可以通過(guò)化學(xué)原理得到合理解釋．某學(xué)生在做探究實(shí)驗(yàn)時(shí)，把鋅粒投入1mol?L^-1氯化鐵溶液中，觀察到如下實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象：鋅粒表面有一定量氣泡產(chǎn)生，溶液顏色逐漸變淺，一段時(shí)間后溶液逐漸渾濁，試用相關(guān)反應(yīng)方程式進(jìn)行解釋______、______．
（3）研究金屬活動(dòng)性順序還可以指導(dǎo)對(duì)金屬陽(yáng)離子氧化性強(qiáng)弱的認(rèn)識(shí)，工業(yè)上用氯化鐵溶液腐蝕銅制電路板．
①請(qǐng)根據(jù)金屬活動(dòng)性順序結(jié)合該反應(yīng)原理，比較Cu²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺的氧化性強(qiáng)弱______．
②請(qǐng)運(yùn)用原電池原理設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證Cu²⁺、Fe³⁺氧化性強(qiáng)弱的結(jié)論．
方案：______．

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。

回答下列問(wèn)題

（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                    ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                     。

（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

結(jié)論：從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下，H₂O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應(yīng)             。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應(yīng)中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；

D．氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問(wèn)題
（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：