[基礎(chǔ)等級評價(jià)]1.下表各組物質(zhì)中.滿足下圖物質(zhì)一步轉(zhuǎn)化關(guān)系的選項(xiàng)是( ) 選項(xiàng) X Y Z A Na NaOH NaHCO3 B Cu CuSO4 Cu(OH)2 C C CO CO2 D Si SiO2 H2SiO3 解析:本題考查元素化合物.意在考查考生對常見金屬和非金屬元素及其化合物相互轉(zhuǎn)化的理解和分析能力.NaHCO3不能一步轉(zhuǎn)化為Na.A項(xiàng)錯(cuò)誤,Cu(OH)2不能一步轉(zhuǎn)化為Cu.B項(xiàng)錯(cuò)誤,根據(jù)CCOCO2C知.C項(xiàng)正確,H2SiO3不能一步轉(zhuǎn)化為Si.D項(xiàng)錯(cuò)誤. 答案:C 查看更多

 

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單質(zhì)硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料.通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450℃~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅.以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖:

相關(guān)信息如下:
①四氯化硅遇水極易水解
②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物
③有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
物質(zhì) SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5
沸點(diǎn)/℃ 57.7 12.8 - 315 -
熔點(diǎn)/℃ -70.0 -107.2 - - -
升華溫
度/℃
- - 180 300 162
請回答下列問題:
(1)裝置A中g(shù)管的作用是
平衡壓強(qiáng),使液體從分液漏斗中順利流下
平衡壓強(qiáng),使液體從分液漏斗中順利流下
;裝置C中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸

(2)甲方案:f接裝置Ⅰ;乙方案:f接裝置Ⅱ.但是裝置Ⅰ、Ⅱ都有不足之處,請你評價(jià)后填寫下表.
方案 優(yōu)點(diǎn) 缺點(diǎn)
①收集產(chǎn)品的導(dǎo)管粗,不會(huì)堵塞導(dǎo)管
②冷凝產(chǎn)品,減少產(chǎn)品損失
①收集產(chǎn)品的導(dǎo)管粗,不會(huì)堵塞導(dǎo)管
②冷凝產(chǎn)品,減少產(chǎn)品損失
①空氣中的水蒸氣進(jìn)入產(chǎn)品收集裝置,使四氯化硅水解
②尾氣沒有處理,污染環(huán)境
①空氣中的水蒸氣進(jìn)入產(chǎn)品收集裝置,使四氯化硅水解
②尾氣沒有處理,污染環(huán)境
①有尾氣處理裝置,注重環(huán)保
②避免空氣中的水蒸氣進(jìn)入裝置
①有尾氣處理裝置,注重環(huán)保
②避免空氣中的水蒸氣進(jìn)入裝置
①產(chǎn)品易堵塞導(dǎo)管
②沒有冷凝裝置,產(chǎn)品易損失
①產(chǎn)品易堵塞導(dǎo)管
②沒有冷凝裝置,產(chǎn)品易損失
(3)在上述(2)的評價(jià)基礎(chǔ)上,請你設(shè)計(jì)一個(gè)合理方案并用文字表達(dá):
在裝置Ⅰ的i處接干燥管j
在裝置Ⅰ的i處接干燥管j

(4)SiCl4與H2反應(yīng)的化學(xué)方程式為
SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
Si+4HCl
SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
Si+4HCl

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高純度單晶硅是典型的無機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請回答下列問題:

(1)儀器e的名稱為____________,裝置A中f管的作用是_______________________________________,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_____        ____________________________________     _______。

(2)裝置B中的試劑是____________。

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請你評價(jià)后填寫下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評價(jià)基礎(chǔ)上,請?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:___________     ________                  。

(5)通過上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是    (填寫元素符號)。

 

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高純度單晶硅是典型的無機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請回答下列問題:

(1)儀器e的名稱為               ,裝置A中f管的作用是                           ,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為                                             

(2)裝置B中的試劑是                      。

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計(jì)了以下兩種實(shí)驗(yàn)方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個(gè)方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請你評價(jià)后填寫下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評價(jià)基礎(chǔ)上,請?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)合理方案:                                   。

(5)通過上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是            (填寫元素符號)。

 

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化肥是農(nóng)業(yè)生產(chǎn)最基礎(chǔ)而且是最重要的物質(zhì)投入.工業(yè)上利用N2和H2合成氨,其化學(xué)方程式為:N2(g)+3H2(g)?2NH3(g)△H<0
(1)下表為不同溫度下該反應(yīng)的平衡常數(shù).由此可推知,表中T1
573K(填“>”、“<”或“=”).
T/K T1 573 T2
K 1.00×107 2.45×105 1.88×103
(2)將一定量的N2和H2的混合氣放入某密閉容器中發(fā)生上述反應(yīng).
①下列措施中可提高氫氣的轉(zhuǎn)化率的有
CD
CD
(填字母).
A.升高溫度                        B.使用催化劑
C.增大壓強(qiáng)                        D.循環(huán)利用和不斷補(bǔ)充氮?dú)?BR>②在一定溫度和壓強(qiáng)下,將H2和N2按體積比3:1在密閉容器中混合,當(dāng)該反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí),測得平衡混合氣中NH3的體積分?jǐn)?shù)為
1
7
,此時(shí)N2的轉(zhuǎn)化率為
25%
25%

(3)某廠每天產(chǎn)生600m3含氨廢水(NH3 的濃度為153mg?L-1,廢氨水密度為1g?cm-3).該廠處理廢水的方法:將廢水加熱得到NH3,使廢水中NH3的濃度降為17mg?L-1.再對加熱蒸發(fā)得到的NH3用一定量空氣氧化.發(fā)生的主反應(yīng)如下:
4NH3+5O2
 一定條件 
.
 
4NO+6H2O      4NO+3O2+2H2O=4HNO3
副反應(yīng)為:4NH3+3O2=2N2+6H2O
①該廠每天通過加熱蒸發(fā)可得到NH3的物質(zhì)的量是多少?
②若氧化過程中90% NH3轉(zhuǎn)化為硝酸,10% NH3發(fā)生了副反應(yīng),則該廠每天消耗標(biāo)準(zhǔn)狀況下的空氣多少立方米?(假設(shè)廢水加熱前后的體積和密度近似認(rèn)為不變,空氣中氧氣的體積分?jǐn)?shù)20%.)

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化肥是農(nóng)業(yè)生產(chǎn)最基礎(chǔ)而且是最重要的物質(zhì)投入.工業(yè)上利用N2和H2合成氨,其化學(xué)方程式為:N2(g)+3H2(g)?2NH3(g)△H<0
(1)下表為不同溫度下該反應(yīng)的平衡常數(shù).由此可推知,表中T1    573K(填“>”、“<”或“=”).
T/KT1573T2
K1.00×1072.45×1051.88×103
(2)將一定量的N2和H2的混合氣放入某密閉容器中發(fā)生上述反應(yīng).
①下列措施中可提高氫氣的轉(zhuǎn)化率的有    (填字母).
A.升高溫度                        B.使用催化劑
C.增大壓強(qiáng)                        D.循環(huán)利用和不斷補(bǔ)充氮?dú)?br />②在一定溫度和壓強(qiáng)下,將H2和N2按體積比3:1在密閉容器中混合,當(dāng)該反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí),測得平衡混合氣中NH3的體積分?jǐn)?shù)為,此時(shí)N2的轉(zhuǎn)化率為   
(3)某廠每天產(chǎn)生600m3含氨廢水.該廠處理廢水的方法:將廢水加熱得到NH3,使廢水中NH3的濃度降為17mg?L-1.再對加熱蒸發(fā)得到的NH3用一定量空氣氧化.發(fā)生的主反應(yīng)如下:
4NH3+5O24NO+6H2O      4NO+3O2+2H2O=4HNO3
副反應(yīng)為:4NH3+3O2=2N2+6H2O
①該廠每天通過加熱蒸發(fā)可得到NH3的物質(zhì)的量是多少?
②若氧化過程中90% NH3轉(zhuǎn)化為硝酸,10% NH3發(fā)生了副反應(yīng),則該廠每天消耗標(biāo)準(zhǔn)狀況下的空氣多少立方米?(假設(shè)廢水加熱前后的體積和密度近似認(rèn)為不變,空氣中氧氣的體積分?jǐn)?shù)20%.)

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