下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖.兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固定.其間安放金屬滑塊.滑塊可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行.且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸.電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入.經(jīng)過滑塊.再從另一導(dǎo)軌流回電源.滑塊被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射.在發(fā)射過程中.該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場.方向垂直于紙面.其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI.比例常量k=2.5×10-6T/A. 已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距l(xiāng)=1.5cm.滑塊的質(zhì)量m=30g.滑塊沿導(dǎo)軌滑行5m后獲得的發(fā)射速度v=3.0km/s. (1)求發(fā)射過程中電源提供的電流強(qiáng)度. (2)若電源輸出的能量有4%轉(zhuǎn)換為滑塊的動能.則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大? (3)若此滑塊射出后隨即以速度v沿水平方向擊中放在水平面上的砂箱.它嵌入砂箱的深度為s'.設(shè)砂箱質(zhì)量為M.滑塊質(zhì)量為m.不計砂箱與水平面之間的摩擦.求滑塊對砂箱平均沖擊力的表達(dá)式. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖.兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固定,其間安放金屬滑塊(即實驗用彈丸).滑塊可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行,且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸.電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入,經(jīng)過滑塊,再從另一導(dǎo)軌流回電源.滑塊被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射.在發(fā)射過程中,該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場,方向垂直于紙面,其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI,比例常量k=2.5×10-6T/A.已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距為l=3.0cm,滑塊的質(zhì)量為m=30g,滑塊沿導(dǎo)軌滑行5m后獲得的發(fā)射速度為v=3.0km/s(此過程視為勻加速運(yùn)動).
(1)求發(fā)射過程中金屬滑塊的加速度大小;
(2)求發(fā)射過程中電源提供的電流強(qiáng)度大小;
(3)若電源輸出的能量有9%轉(zhuǎn)換為滑塊的動能,則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大?

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25.下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖。兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固定,其間安放金屬滑塊(即實驗用彈丸)。滑塊可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行,且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸。電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入,經(jīng)過滑塊,再從另一導(dǎo)軌流回電源。滑塊被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射。在發(fā)射過程中,該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場,方向垂直于紙面,其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI,比例常量k=2.5×10-6T/A。

已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距l=1.5cm,滑塊的質(zhì)量m=30g,滑塊沿導(dǎo)軌滑行5m后獲得的發(fā)射速度v=3.0km/s(此過程視為勻加速運(yùn)動)。

(1)求發(fā)射過程中電源提供的電流強(qiáng)度;(2)若電源輸出的能量有4%轉(zhuǎn)換為滑塊的動能,則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大;(3)若此滑塊射出后隨即以速度v沿水平方向擊中放在水平面上的砂箱,它嵌入砂箱的深度為s′。設(shè)砂箱質(zhì)量為M,滑塊質(zhì)量為m,不計砂箱與水平面之間的摩擦,求滑塊對砂箱平均沖擊力的表達(dá)式。

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下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖,兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固定,其間安放金屬滑塊(即實驗用彈丸);瑝K可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行,且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸。電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入,經(jīng)過滑塊,再從另一導(dǎo)軌流回電源;瑝K被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射。在發(fā)射過程中,該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場,方向垂直于紙面,其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI,比例常量k=2.5×10-6 T/A。

已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距l(xiāng)=1.5 cm,滑塊的質(zhì)量m=30 g,滑塊沿導(dǎo)軌滑行5 m后獲得的發(fā)射速度v=3.0 km/s(此過程視為勻加速運(yùn)動)。

(1)求發(fā)射過程中電源提供的電流的大小;

(2)若電源輸出的能量有4%轉(zhuǎn)化為滑塊的動能,則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大;

(3)若此滑塊射出后隨即以速度v沿水平方向擊中放在水平面上的砂箱,它嵌入砂箱的深度為s′。設(shè)砂箱質(zhì)量為M,滑塊質(zhì)量為m,不計砂箱與水平面之間的摩擦,求滑塊對砂箱平均沖擊力的表達(dá)式。

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下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖。兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固

定,其間安放金屬滑塊(即實驗用彈丸);瑝K可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行,且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸。電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入,經(jīng)過滑塊,再從另一導(dǎo)軌流回電源;瑝K被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射。在發(fā)射過程中,該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場,方向垂直于紙面,其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI,比例常量k=2.5×106T/A。

已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距l=1.5cm,滑塊的質(zhì)量m=30g,滑塊沿導(dǎo)軌滑行5m后獲得的發(fā)射速度v=3.0km/s(此過程視為勻加速運(yùn)動)。

(1)求發(fā)射過程中電源提供的電流強(qiáng)度。

(2)若電源輸出的能量有4%轉(zhuǎn)換為滑塊的動能,則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大?

(3)若此滑塊射出后隨即以速度v沿水平方向擊中放在水平面上的砂箱,它嵌入砂箱的深度為s'。設(shè)砂箱質(zhì)量為M,滑塊質(zhì)量為m,不計砂箱與水平面之間的摩擦。求滑塊對砂箱平均沖擊力的表達(dá)式。

 

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下圖是導(dǎo)軌式電磁炮實驗裝置示意圖。兩根平行長直金屬導(dǎo)軌沿水平方向固定,其間安放金屬滑塊(即實驗用彈丸);瑝K可沿導(dǎo)軌無摩擦滑行,且始終與導(dǎo)軌保持良好接觸。電源提供的強(qiáng)大電流從一根導(dǎo)軌流入,經(jīng)過滑塊,再從另一導(dǎo)軌流回電源;瑝K被導(dǎo)軌中的電流形成的磁場推動而發(fā)射。在發(fā)射過程中,該磁場在滑塊所在位置始終可以簡化為勻強(qiáng)磁場,方向垂直于紙面,其強(qiáng)度與電流的關(guān)系為B=kI,其中比例常量k=2.5×10-6T/A。已知兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)間距為l=3.0cm,滑塊的質(zhì)量為m=30g,滑塊沿導(dǎo)軌滑行5m后獲得的發(fā)射速度為v=3.0km/s(此過程視為勻加速運(yùn)動)。
(1)求發(fā)射過程中金屬滑塊的加速度大。
(2)求發(fā)射過程中電源提供的電流強(qiáng)度大;
(3)若電源輸出的能量有9%轉(zhuǎn)換為滑塊的動能,則發(fā)射過程中電源的輸出功率和輸出電壓各是多大?

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