HCl -84.0 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

實驗室需要0.1 mol/L　NaOH溶液450 mL和0.5 mol/L硫酸溶液450 mL．根據(jù)這兩種溶液的配制情況回答下列問題：

(1)

根據(jù)計算得知，所需質量分數(shù)為98％、密度為1.84 g/cm3的濃硫酸的體積為________mL(計算結果保留一位小數(shù))．

(2)

如圖所示的儀器中配制溶液肯定不需要的是________(填序號)，儀器C的名稱是________，本實驗所需玻璃儀器E的名稱為________

(3)

下列操作中，容量瓶所不具備的功能有(填序號)．

A．

配制一定體積準確濃度的標準溶液

B．

長期貯存溶液

C．

用來加熱溶解固體溶質

D．

量取一定體積的液體

(4)

在配制NaOH溶液實驗中，其他操作均正確．若定容時仰視刻度線，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L(填“大于”“等于”或“小于”，下同)．若NaOH溶液未冷卻即轉移至容量瓶定容，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L．

(5)

下圖為實驗室某濃鹽酸試劑瓶標簽上的有關數(shù)據(jù)，試根據(jù)標簽上的有關數(shù)據(jù)回答下列問題：

(1)該濃鹽酸中HCl的物質的量濃度為________

(2)取用任意體積的該鹽酸溶液時，下列物理量中不隨所取體積的多少而變化的是________．

A．溶液中HCl的物質的量

B．溶液的濃度

C．溶液中Cl－的數(shù)目

D．溶液的密度

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晶體硅是一種重要的非金屬材料．制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅與干燥HCl氣體反應制SiHCl3：Si+3HCl
 300℃ 
.
 
SiHCl3+H2
③SiHCl3與過量H2在1000～1100℃反應制得純硅．
已知SiHCl3能與H2O強烈反應，在空氣中易自燃．請回答下列問題：
（1）第①步制備粗硅的化學反應方程式為
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
．
（2）粗硅與HCl反應完全后，經冷凝得到的SiHCl3（沸點33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點57.6℃）和HCl（沸點-84.7℃），提純SiHCl3采用的方法為：
分餾
分餾
．
（3）用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
①裝置B中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸
，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：
使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
．
②反應一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
英管的內壁附有灰黑色晶體
英管的內壁附有灰黑色晶體
，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
高溫下，普通玻璃會軟化
高溫下，普通玻璃會軟化
，裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為
SiHCl3+H2
 高溫 
.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 高溫 
.
 
Si+3HCl
．
③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及
先通一段時間H2，將裝置中的空氣排盡
先通一段時間H2，將裝置中的空氣排盡
．
④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是
bd
bd

a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na2SO3溶液．

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28.晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3：Si+3HClSiHCl3+H2

③SiHCl3與過量H2在1000～1100℃反應制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應，在空氣中易自燃。

請回答下列問題：

(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為_______________________________。

(2)粗硅與HCl反應完全后，經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃)，提純SiHCl3采用的方法為____________________。

(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)：

①裝置B中的試劑是_________________________。

  裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________。

②反應一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為__________________________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及______________________________________。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_________________。

a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:

Si+3HClSiHCl3+H2

③SiHCl與過量H2在1 000—1 100℃反應制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應，在空氣中易自然。

請回答下列問題：

(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為__________________________________________。

(2)粗硅與HCl反應完全后，經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_______。

(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去)：

圖1-3-8

①裝置B中的試劑是_______。

裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________________。

②反應一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。

裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為______________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及_______。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_______。

a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液

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（18分）晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下：

 ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制SiHCl3：Si＋3HCl　　　　SiHCl3＋Ｈ2

③SiHCl3與過量Ｈ2在1000～1100℃反應制得純硅。

已知SiHCl3能與Ｈ2Ｏ強烈反應，在空氣中易自燃。

請回答下列問題：

（1）第①步制備粗硅的化學反應方程式為　　　　　　　　　　　　　　　　　。

（2）粗硅與HCl反應完全后，經冷凝得到的SiHCl3（沸點33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點57.6℃）和HCl（沸點－84.7℃），提純SiHCl3采用的方法為：　　　　　　　　　　　　。

（3）用SiHCl3與過量Ｈ2反應制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：

①裝置Ｂ中的試劑是　　　　　　　　，裝置Ｃ中的燒瓶需要加熱，其目的是：　　　　　　　　　。

②反應一段時間后，裝置Ｄ中觀察到的現(xiàn)象是　　　　　　　，裝置Ｄ不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　，裝置Ｄ中發(fā)生反應的化學方程式為　　　　　　　　　　　　　　　。

③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及　　　　。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是　　　　　　　　　　

ａ．碘水    ｂ．氯水    ｃ．ＮaＯＨ溶液     ｄ．KSCN溶液    ｅ．Ｎa2ＳＯ3溶液

 

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