Question

【題目】硅酸鈉（Na2SiO3）是我國(guó)優(yōu)先發(fā)展的精細(xì)化學(xué)產(chǎn)品。用某種石英砂礦石（主要成分是SiO2，還含有少量的CuO、Na2SO4、Na2CO3）。工業(yè)上制備硅酸鈉晶體的流程如下：查閱資料：SiO2既不溶于水，也不與鹽酸反應(yīng)；Na2SO4、Na2CO3均易溶于水。請(qǐng)問(wèn)答：

（1）“研磨”的目的是__________________________________；

（2）實(shí)驗(yàn)室的過(guò)濾操作中必須用到的玻璃儀器有：燒杯、漏斗、________，過(guò)濾時(shí)發(fā)現(xiàn)過(guò)濾速率緩慢，可能原因是______________________________；

（3）“酸浸”過(guò)程中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________________；

（4）“堿浸”時(shí)加入的堿液應(yīng)選用_________________（填化學(xué)式）溶液。

Answer 1

【答案】 加速溶解（或加大反應(yīng)物之間的接觸面積或加快反應(yīng)速率） 玻璃棒 濾紙沒(méi)有緊貼漏斗內(nèi)壁 CuO＋2HClCuCl2＋H2O NaOH

【解析】(1)由于反應(yīng)物之間接觸越充分反應(yīng)越快，同時(shí)顆粒越小，溶解也就越快，所以“研磨”的目的是加速溶解（或加大反應(yīng)物之間的接觸面積或加快反應(yīng)速率）；(2) 實(shí)驗(yàn)室的過(guò)濾操作中必須用到的玻璃儀器有：燒杯、漏斗、玻璃棒，過(guò)濾時(shí)發(fā)現(xiàn)過(guò)濾速率緩慢，可能原因是：濾紙沒(méi)有緊貼漏斗內(nèi)壁；(3)“酸浸”是除去氧化銅，是氧化銅和硫酸反應(yīng)生成硫酸銅和水,對(duì)應(yīng)的化學(xué)方程式為CuO＋2HClCuCl2＋H2O；(4)“堿浸”是二氧化硅和氫氧化鈉反應(yīng)，生成硅酸鈉和水，對(duì)應(yīng)的化學(xué)方程式為SiO2+2NaOH=H2O+Na2SiO3，“堿浸”時(shí)加入的堿液應(yīng)選用NaOH。