Question

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料，用途廣泛。

（1）在微電子工業(yè)中，氨水可作刻蝕劑H₂O₂ 的清除劑，產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH₃  + 3H₂O₂=         +6H₂O

（2）工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某實(shí)驗(yàn)室在三個(gè)不同條件的密閉容器中，分別加入N₂和H₂，濃度均為c(N₂) = 0.100mol/L, c(H₂) = 0.300mol/L，進(jìn)行反應(yīng)時(shí), N₂的濃度隨時(shí)間的變化如圖①、②、③曲線(xiàn)所示。

該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達(dá)式為             ；實(shí)驗(yàn)②平衡時(shí)H₂的轉(zhuǎn)化率為_(kāi)____        。

（3）據(jù)圖所示，②、③兩裝置中各有一個(gè)條件與①不同。請(qǐng)指出，并說(shuō)明判斷的理由。

②條件：_______      理由：                                      ________

③條件：_______      理由：                                      ________

 

Answer 1

【答案】

．(16分)

（1）2NH₃  + 3H₂O₂  =  N₂  +  6H₂O   （2分）

（2）K  =  （3分）            40%  （3分）

（3）②：加了催化劑（2分）；因?yàn)榧尤氪呋瘎┠芸s短達(dá)到平衡的時(shí)間，但化學(xué)平衡不移動(dòng)，所以①②兩裝置達(dá)到平衡時(shí)N₂的濃度相同。（2分）

③：溫度高（2分）；該反應(yīng)為放熱反應(yīng)，溫度升高，達(dá)到平衡的時(shí)間縮短，但平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，③中到達(dá)平衡時(shí)N₂的濃度高于①。（2分）

【解析】