Question

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料，用途廣泛。

在微電子工業(yè)中，氨水可作刻蝕劑H₂O₂ 的清除劑，產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH₃+3H₂O₂=     +6H₂O

工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中，分別加入濃度均為C(N₂)=0.100mol/L,C(H₂)=0.300mol/L進行反應(yīng)時, N₂的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示。

（1）該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達(dá)式            ；實驗②平衡時H₂的轉(zhuǎn)化率為_______

（2）據(jù)圖所示，②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出，并說明判斷的理由。

②條件：_______      理由：                                     ________

③條件：_______      理由：                                     ________

 

Answer 1

(16分)

N₂（2分）

（1）(3分)  40%（3分）

（2）②加了催化劑；因為加入催化劑能縮短達(dá)到平衡的時間，但化學(xué)平衡不移動所以①②兩裝置達(dá)到平衡時N₂的濃度相同。（4分）

③溫度高；該反應(yīng)為放熱反應(yīng)，溫度升高，達(dá)到平衡的時間縮短，但平衡向逆反應(yīng)方向移動，③中到達(dá)平衡時N₂的濃度高于①（4分）

解析: