Question

【題目】高聚物的合成與結(jié)構(gòu)修飾是制備具有特殊功能材料的重要過程。下圖是合成具有特殊功能高分子材料W()的流程：

已知：(R、R1、R2代表烴基)

I、RCH2OH

II、

⑴反應①的反應類型是_______________。

⑵反應②是取代反應，其化學方程式是___________________________________________。

⑶D的核磁共振氫譜中有兩組峰且面積之比是1:3，不存在順反異構(gòu)。D的結(jié)構(gòu)簡式是______。

⑷反應⑤的化學方程式是__________________________________________________。

⑸G的結(jié)構(gòu)簡式是__________________。

⑹反應⑥的化學方程式是__________________________________________________。

⑺工業(yè)上也可用合成E。由上述①~④的合成路線中獲取信息，完成下列合成路線（箭頭上注明試劑和反應條件，不易發(fā)生取代反應）__________________

Answer 1

【答案】 加成反應 BrCH2CH2Br +2NaC→ NCCH2CH2CN + 2NaBr (CH3)2C=CH2 CH2=C(CH3)COOH + HOCH3 CH2=C(CH3)COOCH3 + H2O

【解析】根據(jù)反應條件，結(jié)合W的結(jié)構(gòu)可知I為，由此可知H為，再結(jié)合信息I可知G為，相應的單體F為CH2=C(CH3)COOCH3，E和CH3OH酯化反應得到F，則E的結(jié)構(gòu)為CH2=C(CH3)COOH；

⑴反應①是乙烯與Br2發(fā)生加成反應生成BrCH2CH2Br；

⑵反應②BrCH2CH2Br與NaCN發(fā)生取代反應生成NCCH2CH2CN，其化學方程式是 BrCH2CH2Br +2NaCN→ NCCH2CH2CN + 2NaBr；

⑶C4H8的核磁共振氫譜中有兩組峰且面積之比是1:3，說明有2個甲基，且不存在順反異構(gòu)，說明不飽和碳上連有相同基團，則D的結(jié)構(gòu)簡式是(CH3)2C=CH2；

⑷反應⑤是CH2=C(CH3)COOH 與 HOCH3發(fā)生的酯化反應，其化學方程式是CH2=C(CH3)COOH + HOCH3 CH2=C(CH3)COOCH3 + H2O ；

⑸G的結(jié)構(gòu)簡式是；

⑹和發(fā)生反應的化學方程式是；

⑺結(jié)合①~④的合成路線中獲取信息，用合成CH2=C(CH3)COOCH3 的流程為。