【題目】下列事實(shí)不能用勒夏特列原理解釋的是
A. 對于2HI(g) H2(g)+I2(g),達(dá)平衡后,縮小容器體積可使體系顏色變深
B. 溴水中有下列平衡Br2+H2OHBr+HBrO,當(dāng)加入硝酸銀溶液后,溶液顏色變淺
C. 合成氨反應(yīng),為提高氨的產(chǎn)率,理論上應(yīng)采取降低溫度的措施
D. 反應(yīng)CO(g)+NO2(g) CO2(g)+NO(g) △H<0,達(dá)平衡后,升高溫度體系顏色變深
【答案】A
【解析】A、對于2HI(g) H2(g)+I2(g),因反應(yīng)前后氣體的體積不變,則壓強(qiáng)對平衡移動(dòng)無影響,縮小容器體積各氣體濃度都增大而使體系顏色變深,不能用勒夏特列原理解釋,選項(xiàng)A選;B、加入硝酸銀溶液后,生成AgBr沉淀,溴離子濃度減小,平衡向正方向移動(dòng),促進(jìn)溴與水的反應(yīng),溶液顏色變淺,可用勒夏特列原理解釋,選項(xiàng)B不選;C、合成氨反應(yīng)為放熱反應(yīng),較低溫度有利于平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng),可用勒夏特列原理解釋,選項(xiàng)C不選;D、正反應(yīng)為放熱反應(yīng),升高溫度平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng),體系顏色變深,可用勒夏特列原理解釋,選項(xiàng)D不選。答案選A。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】次磷酸(H3PO2) 為一元中強(qiáng)酸,具有較強(qiáng)的還原性,可用電滲析法制備,“四室電滲析法”工作原理如下圖所示(陽膜和陰膜分別只允許陽離子、陰離子通過)。下列敘述不正確的是( )
A. 陽極反應(yīng)為2H2O-4e-=O2↑+4H+
B. 產(chǎn)品室中發(fā)生反應(yīng)H++ H2PO2-=H3PO2, 該法還可得副產(chǎn)品NaOH
C. 原料室中H2PO2- 向左移動(dòng),Na+ 向右移動(dòng),該室pH 升高
D. 陽膜1的主要作用是防止H2PO2- 進(jìn)入陽極室被氧化并允許H+通過
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】實(shí)驗(yàn)室用密度為1.18 g·mL-1,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為36.5%濃鹽酸配制250 mL 0.1 mol·L-1 的鹽酸,填空并回答下列問題:
(1)配制250 mL 0.1 mol·L-1的鹽酸___________。
應(yīng)稱量鹽酸體積/mL | 應(yīng)選用容量瓶的規(guī)格/mL | 容量瓶外還需的其他儀器 |
(2)配制時(shí),其正確的操作順序是(字母表示,每個(gè)字母只能用一次)___________。
A.用30 mL水洗滌燒杯和玻璃棒2~3次,洗滌液均注入容量瓶,振蕩
B.用量筒準(zhǔn)確量取所需的濃鹽酸的體積,沿玻璃棒倒入燒杯中,再加入少量水(約30 mL),用玻璃棒慢慢攪動(dòng),使其混合均勻
C.將已冷卻的鹽酸沿玻璃棒注入250 mL的容量瓶中
D.將容量瓶蓋緊,振蕩,搖勻
E.改用膠頭滴管加水,使溶液凹面恰好與刻度線相切
F.繼續(xù)往容量瓶內(nèi)小心加水,直到液面接近刻度線1~2 cm處
(3)操作A中,將洗滌液都移入容量瓶,其目的是___________,溶液注入容量瓶前需恢復(fù)到室溫,這是因?yàn)?/span>___________;
(4)若實(shí)驗(yàn)過程中出現(xiàn)如下情況如何處理?加蒸餾水時(shí)不慎超過了刻度線___________;向容量瓶中轉(zhuǎn)移溶液時(shí)(實(shí)驗(yàn)步驟②)不慎有液滴掉在容量瓶外面___________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】下列生產(chǎn)、生活中的事例不屬于氧化還原反應(yīng)的是( )
A.金屬冶煉
B.燃放鞭炮
C.食物腐敗
D.點(diǎn)制豆腐
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】下列屬于分散系,但不存在丁達(dá)爾效應(yīng)的是( )
A.有塵埃的空氣
B.純水
C.食鹽水
D.向沸水中滴入FeCl3飽和溶液所得液體
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】設(shè)NA為阿伏加德羅常數(shù)的值,下列敘述正確的是 ( )
A. 30 g乙烷中所含的極性共價(jià)鍵數(shù)為7NA
B. 標(biāo)準(zhǔn)狀況下,22.4 L N2和CO2混合氣體所含的分子數(shù)為2NA
C. 1 L濃度為1 mol·L-1的 H2O2水溶液中含有的氧原子數(shù)為2NA
D. MnO2和濃鹽酸反應(yīng)生成1 mol氯氣時(shí),轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為2NA
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式___________。
②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式___________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是___________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是___________(填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
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【題目】在80℃時(shí),將0.4mol的四氧化二氮?dú)怏w充入2L已抽空的固定容積的密閉容器中,隔一段時(shí)間對該容器內(nèi)的物質(zhì)進(jìn)行分析,得到如下數(shù)據(jù):
時(shí)間(s) c(mol·L-1) | 0 | 20 | 40 | 60 | 80 | 100 |
c(N2O4) | 0.20 | a | 0.10 | C | d | e |
c(NO2) | 0.00 | 0.12 | b | 0.22 | 0.22 | 0.22 |
反應(yīng)進(jìn)行至100s后將反應(yīng)混合物的溫度降低,發(fā)現(xiàn)氣體的顏色變淺。
(1)該反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________________________。
(2)20s時(shí),N2O4的的濃度為__________mol·L-1,0~20s內(nèi)N2O4的平均反應(yīng)速率為_____________。
(3)該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K=____________,80℃反應(yīng)K值為___________保留2位小數(shù))。
(4)在其他條件相同時(shí),該反應(yīng)的K值越大,表明建立平衡時(shí)______________。
A.N2O4的轉(zhuǎn)化率越高 B.NO2的產(chǎn)量越大
C.N2O4與NO2的濃度之比越大 D.正反應(yīng)進(jìn)行的程度越大
(5)要增大該反應(yīng)的K值,可采取的措施_________
A.增大N2O4起始濃度 B.向混合氣中通入NO2
C.使用高效催化劑 D.升高溫度
(6)下圖是80℃時(shí)容器中N2O4濃度的變化圖,請?jiān)谠搱D中補(bǔ)畫出該反應(yīng)在60℃反應(yīng)時(shí)N2O4濃度的變化曲線_______。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】某菱鐵礦的主要成分是FeCO3,還含有SiO2、少量CaCO3和 Al2O3。下圖是利用該菱鐵礦制備磁性Fe3O4膠體粒子的簡要工藝流程:
(1)菱鐵礦石粉碎的目的是______________________________;堿浸可否用較便宜的Ca(OH)2替代NaOH?說明理由:______________________________________________。
(2) “不溶物”加稀鹽酸可否改用不易揮發(fā)的稀硫酸?說明理由___________________________________________;“不溶物”加稀鹽酸后“部分氧化”之前還有項(xiàng)操作,化學(xué)實(shí)驗(yàn)名稱為__________。
(3) “部分氧化”離子方程式為________________________________________。
(4)如何實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證“部分氧化”的濾液中存在Fe2+?__________________________________________________________________________________。
(5)Fe3O4膠粒的直徑的范圍是______________________。
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