光導(dǎo)纖維的主要成分是(     )
A.SiB.SiO2C.SiCD.Na2SiO3
B
單質(zhì)硅處于金屬向非金屬過度的位置,故單質(zhì)硅常用作半導(dǎo)體,A不選;SiC熔沸點高硬度大,俗稱金剛砂,C不選;Na2SiO3的水溶液是一種礦物膠,D不選。答案選B。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列說法不正確的是( )
A.硅的導(dǎo)電性能介于金屬和絕緣體之間,是良好的半導(dǎo)體材料
B.硅是非金屬元素,但它的單質(zhì)具有金屬光澤
C.二氧化硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下難與鹽酸起反應(yīng)
D.自然界中存在大量單質(zhì)硅,其含量僅次于氧

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

計算機是現(xiàn)代非常重要的一種通訊工具,用于制造計算芯片的材料是
A.Na2CO3B.SiC.CaCO3D.SiO2

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列有關(guān)二氧化硅的敘述中錯誤的是
A.SiO2是酸性氧化物,它的對應(yīng)酸是硅酸(H2SiO3)
B.二氧化硅易溶于水
C.SiO2可與CaO或NaOH反應(yīng)
D.光導(dǎo)纖維的主要原料就是SiO2

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:實驗題

工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業(yè)流程如圖:

(1)石英砂的主要成分是        (填化學(xué)式),在制備粗硅時焦炭的作用是        。
(2)制備三氯氫硅的反應(yīng):
Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)
伴隨的副反應(yīng)為:        
Si(s)+4HCl(g) SiCl4(g)+2H2(g)
已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體,工業(yè)上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法
        
寫出SiHCl3(g)和HCl反應(yīng)生成SiCl4(g)和H2的熱化學(xué)方程式        。
(3)該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是        
(4)實驗室用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖(熱源及夾持裝置略去).已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
①裝置B中的試劑是        (填名稱),裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是         。

②實驗中先讓稀硫酸與鋅粒反應(yīng)一段時間后,再加熱C、D裝置的理由是        ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為        。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

(6分)正長石是一種天然的硅酸鹽礦,其組成可看作SiO2中部分Si原子被Al、K原子取代而成。當(dāng)有25%的Si原子被Al原子取代(不足的價數(shù)由K原子補充)時,正長石的化學(xué)組成可表示為_______(填字母序號)。
A.KAlSiO4B.KAlSi2O6C.KAlSi3O8D.KAlSi4O10
該正長石用二氧化硅和金屬氧化物形式來表示,其組成為_____________________。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

往下列溶液中通入過量的CO2后,不會生成沉淀的是
A.Na2SiO3溶液B.Na[Al(OH)4] 溶液
C.Ca(OH)2溶液D.飽和Na2CO3溶液

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列關(guān)于物質(zhì)性質(zhì)及用途的敘述中,正確的是
A.二氧化硅可用來制造現(xiàn)代通迅材料光導(dǎo)纖維
B.N2是大氣中的主要成分之一,雷雨時,可直接轉(zhuǎn)化為NO2?
C.銅在潮濕的空氣里很穩(wěn)定不會被銹蝕
D.硅是應(yīng)用廣泛的半導(dǎo)體材料,常溫下只與氟氣、氫氟酸反應(yīng)不和任何其它物質(zhì)反應(yīng)

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

光纖通信以光作為信息的載體,讓光在光導(dǎo)纖維中傳播,制造光導(dǎo)纖維的基本原料是
A.鋼B.石英砂C.銅D.鋁

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同步練習(xí)冊答案