【題目】氮化鋁廣泛應用于電子陶瓷等工業(yè)領域。在一定條件下,AlN可通過以下反應合成:Al2O3+N2+3C2AlN+3CO。有關該反應下列敘述正確的是
A. 上述反應中,N2是還原劑,Al2O3是氧化劑
B. 上述反應中,每生成1 mol AlN需轉移3 mol電子
C. AlN的摩爾質量為41 g
D. AlN中氮的化合價為+3
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【題目】下列說法中正確的是
A. 氯化鈉水溶液在電流的作用下電離出Na+和Cl
B. 硫酸鋇難溶于水,但硫酸鋇屬于電解質
C. 二氧化碳溶于水能導電,故二氧化碳屬于電解質
D. 硫酸鈉在水中的電離方程式可表示為Na2SO42Na++S6++4O2
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【題目】常溫下,分別向體積相同、濃度均為1 mol/L的HA、HB兩種酸溶液中不斷加水稀釋,酸溶液的pH與酸溶液濃度的對數(shù)(lg C)間的關系如圖。下列對該過程相關分析正確的是
A. HB的電離常數(shù)(KA)數(shù)量級為10-3
B. 其鈉鹽的水解常數(shù)(Kh)大小關系是:NaB>NaA
C. a、b兩點溶液中,水的電離程度b<a
D. 當lg C= -7時,兩種酸溶液均有pH=7
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【題目】25 ℃時,不同酸性條件下的0.1 mol·L-1 HF溶液中,c(HF)、c(F-)與溶液pH的變化關系如圖所示。下列說法正確的是
A. 隨著溶液pH增大,不斷增大
B. 由水電離出的c(H+):Q>X=Y
C. HF的電離常數(shù)Ka=1.0×10-3.2
D. 0.1 mol/LNaF溶液的pH約為8.2
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【題目】將等物質的量的X、Y氣體充入一個密閉容器中,在一定條件下發(fā)生如下反應并達到平衡:X(g)+Y(g)2Z(g) H< 0。當改變某個條件并達到新平衡后,下列敘述正確的是( )
A.升高溫度,X的物質的量減小
B.增大壓強(縮小容器體積),Z的濃度不變
C.保持容器體積不變,充入一定量的惰性氣體,Y的濃度不變
D.保持容器體積不變,充入一定量的Z,重新平衡時,Y的體積分數(shù)增大
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【題目】0.5L 1mol/L的FeCl3與0.2L 1mol/L的KCl溶液中,Cl-的物質的量濃度之比為 ( )
A. 5:2 B. 1:1 C. 3:1 D. 1:3
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【題目】下面是某化學研究小組探究外界條件對化學反應速率和化學平衡影響的圖像,其中圖像和實驗結論表達均正確的是( )
A. ①是其他條件一定時,反應速率隨溫度變化的圖像,正反應ΔH<0
B. ②是在平衡體系的溶液中溶入少量KCl晶體后化學反應速率隨時間變化的圖像
C. ③是在有無催化劑存在下建立的平衡過程圖像,a是使用催化劑時的曲線
D. ④是一定條件下,向含有一定量A的容器中逐漸加入B時的圖像,壓強p1>p2
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【題目】硅是最理想的太陽能電池材料,高性能晶硅電池是建立在高質量晶硅材料基礎上的。工業(yè)上可以用如圖所示的流程制取高純硅。
(1)硅在周期表中的位置是_______________,反應1中氧化劑與還原劑的物質的量之比為:__________________
(2)粗硅與HCl反應完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3 (沸點31.8℃)中含有少量SiCl4 (沸點57.6℃)和SiH2Cl2 (沸點8.2℃)、SiH3Cl(沸點-30.4℃)提純SiHCl3采用的方法為__________,整個過程中可以循環(huán)利用的物質X是:_____________(填化學式)
(3)提純粗硅的過程中必須嚴格控制無水無氧,原因之一是硅的鹵化物極易水解,寫出SiCl4遇水劇烈反應的化學方程式___________________________________
(4)硅在有HNO3存在的條件下,可以與HF生成H2SiF6,同時有不溶于水的氣體生成,該氣體遇空氣變?yōu)榧t棕色,硅單質發(fā)生的化學方程式為_____________________________________________________
(5)某工廠用100噸純度為75%的石英砂為原料經(jīng)第一步反應制得的粗硅中含硅28噸,則該過程中硅的產(chǎn)率是:__________(精確到小數(shù)點后兩位)
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【題目】用NA表示阿伏伽德羅常數(shù)的值,下列敘述正確的是
A. 2.0gH218O與D216O的混合物中所含中子數(shù)為NA
B. 0.1molCl2溶于足量水中,轉移的電子數(shù)為0.1NA
C. 常溫常壓下50g46%的乙醇溶液中,所含氧原子數(shù)目為0.5NA
D. 25℃時,pH=13的Ba(OH)2溶液中含有的OH-數(shù)目為0.1NA
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